JP2001003168A - 真空成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被成膜体が走行するメインロールに対して成
膜ユニットが高精度に位置決めされて成膜動作が行われ
ることで高品質の成膜体を製作しかつメンテナンス性に
優れることで生産性を向上させる。 【解決手段】 被成膜体２を走行させる走行機構１４
と、外周部に被成膜体を走行させて成膜部を構成するメ
インロール１３とを有し、真空ポンプ１０，１１が付設
された真空槽４を備える。成膜源２８を有する成膜ユニ
ット２２がユニット支持機構２５によって移動自在に支
持され、真空槽を閉塞する第１の位置と開放する第２の
位置とに移動される真空槽蓋５を備える。成膜ユニット
２２は、真空槽蓋５が真空槽３を閉塞する第１の位置に
移動されると、真空槽蓋５から真空槽４内へと移送され
るとともに、真空槽４に設けた位置決めガイド機構１７
に沿ってメインロール１３に対向する所定位置へと移動
されて位置決めされる

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空槽内にテープ
状の被成膜体を走行させてその表面上に蒸着法、スパッ
タ法或いはＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition）等
によって薄膜を成膜形成する真空成膜装置に関し、例え
ばテープ状原反に磁気層を成膜形成して磁気テープ原反
を製造する場合等に用いて好適な真空成膜装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、磁気テープ原反は、真空成膜装
置内において走行機構によって連続走行されるテープ状
原反の表面上に磁気層が蒸着法或いはスバッタ法等によ
って成膜形成される。真空成膜装置は、テープ状原反を
供給ロールから繰り出して巻取ロールに巻き取る走行系
を構成する原反走行機構と、テープ状原反に対する磁気
層の成膜部を構成するメインロールとが設けられ、付設
された真空ポンプが作動されることにより槽内の真空引
きが行われて所定の真空度に保持される。真空成膜装置
には、成膜源とこの成膜源から放出される成膜物質の放
出方向を制御する防着板とを有する成膜ユニットが設け
られる。

【０００３】真空成膜装置は、テープ状原反がメインロ
ールの外周部に掛け合わされて原反走行機構によって連
続走行されるとともに、メインロールに対して成膜ユニ
ットが位置決めされる。真空成膜装置は、成膜ユニット
の成膜物質放出部から放出される成膜物質が連続走行さ
れるテープ状原反の表面に付着することによって、磁気
層を成膜形成する。真空成膜装置は、真空成膜操作が適
宜の回数行われると、成膜物質に汚損された成膜源や防
着板の清掃等のメンテナンスが行われる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、真空成膜装
置においては、成膜方法が例えば蒸着法やスバッタ法に
よって行われる場合、テープ状原反やメインロールの両
端部への成膜を防止するためにメインロールに対して防
着板が３ｍｍ以下の間隙を以って対向するように成膜ユ
ニットを位置決めする必要がある。また、真空成膜装置
においては、成膜方法が例えばＣＶＤ法によって行われ
る場合、メインロールと反応管とのギャップが１ｍｍ±
０．０１ｍｍ程度と高精度に設定される必要がある。

【０００５】一方、真空成膜装置においては、真空槽の
真空引き動作が行われると、内圧と大気圧との差によっ
て槽壁にわずかながらの歪みが発生する。真空成膜装置
は、メインロールや原反走行機構の構成各部材を真空槽
の槽壁に直接支持するように構成した場合に、テープ状
原反の走行が不安定となってメインロールの外周部等に
おいて皺が発生するといった問題が生じる。したがっ
て、真空成膜装置においては、真空槽内に高精度に位置
決めした状態でサイドフレームを配置し、このサイドフ
レームにメインロールや原反走行機構を付設することに
よってテープ状原反を高精度に走行させるような対応が
図られる。

【０００６】一方、真空成膜装置においては、上述した
成膜ユニットのメンテナンス性を向上させるために、こ
の成膜ユニットを真空槽蓋に付設する対応が図られる。
しかしながら、かかる真空成膜装置においては、真空槽
と真空槽蓋との組立精度、真空槽蓋に対する成膜ユニッ
トの組立精度或いは真空引き動作に伴って生じる真空槽
蓋の歪み等によって、メインロールに対する成膜ユニッ
トの位置決めを高精度に保持することが困難であるとい
った問題があった。

【０００７】真空成膜装置は、このために成膜ユニット
がメインロールに接近して防着板が接触し、このメイン
ロールやテープ状原反を傷付けてしまうといった問題を
生じさせることがあった。真空成膜装置は、かかる問題
の発生を防止するために、成膜ユニットとメインロール
との間に例えば５ｍｍ以上と余裕を持った間隙が構成さ
れるようにする。しかしながら、真空成膜装置は、かか
る対応を施した場合、メインロールの両端部に成膜物質
が付着して汚損が激しくなりその清掃等のメンテナンス
を頻繁に行う必要が生じる。真空成膜装置は、停止状態
でメンテナンスが行われ、起動時には成膜ユニットやメ
インロール等の調整或いは成膜状態の確認等が行われる
ことから生産性が大幅に悪くなるといった問題があっ
た。

【０００８】また、真空成膜装置は、ＣＶＤ法を適用し
た成膜処理を施す場合には、上述した条件のようにメイ
ンロールに対して成膜ユニットを高精度に位置決めする
ことが困難である。真空成膜装置は、このために成膜ユ
ニットによるテープ状原反に対する成膜動作が不能とな
ったり不安定となり、高品質の磁気テープ原反の製作が
困難であるといった問題があった。

【０００９】したがって、本発明は、被成膜体が走行す
るメインロールに対して成膜ユニットが高精度に位置決
めされて成膜動作が行われることで高品質の成膜体を製
作するとともに、メンテナンス性に優れ生産性の向上を
図った真空成膜装置を提供することを目的に提案された
ものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
本発明にかかる真空成膜装置は、テープ状の被成膜体を
走行させる走行機構と外周部に被成膜体を走行させるこ
とによって成膜部を構成するメインロールとが備えられ
るとともに真空ポンプが付設された真空槽と、この真空
槽の開口部を開閉する真空槽蓋とを備える。真空槽蓋に
は、成膜源を有する成膜ユニットと、この成膜ユニット
を支持するユニット支持機構とが備えられ、ガイド機構
により真空槽を閉塞する第１の位置と開放する第２の位
置とに移動される。成膜ユニットは、真空槽蓋が真空槽
を閉塞する第１の位置に移動されると、真空槽蓋から真
空槽内へと移送されるとともに真空槽に設けた位置決め
ガイド機構に沿ってメインロールに対向する所定位置へ
と移動されて位置決めされる。

【００１１】以上のように構成された本発明にかかる真
空成膜装置によれば、真空槽蓋が真空槽を閉塞した状態
において、この真空槽蓋から真空槽側へと移送された成
膜ユニットが位置決めガイド機構によりメインロールに
対して位置決めされることから、成膜ユニットとメイン
ロールとの相対的な位置決めが極めて高精度に行われる
ようになる。したがって、真空成膜装置は、メインロー
ルの外周部を走行するテープ状被成膜体に対して成膜物
質を安定した状態で被着させて高精度の薄膜を成膜形成
する。また、真空成膜装置は、メインロールに対して成
膜ユニットが精密に位置合わせされることで、成膜物質
によるメインロールの汚損も抑制されかつ成膜ユニット
を真空槽蓋から取り外して清掃する操作も簡易に行われ
ることでメンテナンス性の向上が図られ、以って生産性
の向上が図られる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。本発明の実施の形
態として図面に示した真空成膜装置１は、例えば前工程
において表面に磁性層が蒸着形成されたポリエチレンテ
レフタレートやポリプロピレン等からなるテープ状樹脂
フィルム原反２の表面に対して、カーボン膜をＣＶＤ法
により成膜形成して磁気テープ原反３を製造する。勿
論、真空成膜装置１は、かかる適用例に限定されるもの
では無く、例えばテープ状樹脂フィルム原反２の表面に
対して、磁性層を蒸着形成して磁気テープ原反３を製造
する。また、真空成膜装置１は、紙や金属等の種々の被
成膜体に対して、ＣＶＤ法ばかりでなく蒸着法やスパッ
タ法等の適宜方法によって所定の薄膜を形成する場合に
用いられる。

【００１３】真空成膜装置１は、図１に示すように、真
空槽４と、真空槽蓋５とを備えてなる。真空槽４は、図
１及び図３に示すように、その内部空間が、隔壁６によ
って成膜処理を施す成膜室７と、樹脂フィルム原反２を
繰り出すとともに成膜室７において成膜処理が施された
磁気テープ原反３の巻き取りを行う供給巻取室８とに区
割りされてなる。真空槽４は、成膜室７の一方側面が開
放され、この開口部９が後述するように真空槽蓋５によ
って開閉される。

【００１４】真空槽４には、成膜室７の真空引きを行う
第１の真空ポンプ１０が付設されるとともに、供給巻取
室８の真空引きを行う第２の真空ポンプ１１が付設され
ている。なお、真空槽４は、例えば１台の真空ポンプに
よって真空引きを行うようにしてもよいが、第１の真空
ポンプ１０と第２の真空ポンプ１１とによって成膜室７
と供給巻取室８とを独立に制御することで高精度の制御
と生産効率の向上が図られる。

【００１５】真空槽４には、図示しないベースフレーム
上に所定の対向間隔に保持された一対のサイドフレーム
１２（１２ａ、１２ｂ）が配設されている。真空槽４
は、槽壁と分離されたサイドフレーム１２に後述するよ
うに各部を支持したことによって真空引きによる槽壁の
歪みによる各部の組立状態に影響が生じないように構成
されている。真空槽４には、隔壁６に形成された開口部
６ａに位置してサイドフレーム１２に支軸１３ａが支架
され、この支軸１３ａにメインロール１３が回転自在に
軸装されている。メインロール１３は、図１に示すよう
に外周面の一部がそれぞれ成膜室７と供給巻取室８とに
臨ませられている。メインロール１３は、図示しないサ
ーボモータによって回転駆動される。

【００１６】真空槽４には、樹脂フィルム原反２及び磁
気テープ原反３を走行させる原反走行機構１４が設けら
れている。原反走行機構１４は、供給巻取室８内に設け
られて樹脂フィルム原反２を繰り出す原反供給ロール１
５と、磁気テープ原反３を巻き取る原反巻取ロール１６
と、図示しない複数個のガイドロール等によって構成さ
れており、それぞれの支軸がその平行度を例えば０．０
５ｍｍ以下の高精度に保持されてサイドフレーム１２に
支架されている。原反走行機構１４には、メインロール
１３及び原反供給ロール１５、原反巻取ロール１６をそ
れぞれ回転駆動する図示しないサーボモータが備えられ
ている。原反走行機構１４には、樹脂フィルム原反２及
び磁気テープ原反３の走行テンションを検出する図示し
ない張力検出機構が付設されている。

【００１７】原反走行機構１４は、原反供給ロール１５
から繰り出した樹脂フィルム原反２をガイドロールを介
してメインロール１３に導き、その外周部に掛け合わせ
ることによって成膜室７内を走行させる。原反走行機構
１４は、成膜室７内において成膜処理を施された磁気テ
ープ原反３をメインロール１３からガイドロールを介し
て再び供給巻取室８に導き、原反巻取ロール１６により
巻取を行う。原反走行機構１４は、張力検出機構から出
力される制御信号によって各サーボモータが制御される
ことで、樹脂フィルム原反２及び磁気テープ原反３が一
定の走行テンションと走行速度を以って走行させるよう
にする。

【００１８】メインロール１３は、外周面が鏡面研磨を
施され、上述したようにその外周部に樹脂フィルム原反
２を掛け合わせて成膜室７内を走行させることによって
成膜部を構成する。メインロール１３には、その内部に
図示しないが冷凍機や水冷によって冷却された冷却媒体
が流れる冷却パイプが設けられている。メインロール１
３は、表面に薄膜が成膜される磁気テープ原反３を冷却
しながら走行させることによって、この磁気テープ原反
３に成膜処理中に生じる熱変形を抑制する。勿論、メイ
ンロール１３は、その他の適宜の冷却方法によって冷却
されるが、樹脂フィルム原反２や磁気テープ原反３の走
行に揺らぎを生じさせる直接空冷方法等は避けることが
好ましい。

【００１９】真空成膜装置１には、サイドフレーム１２
の相対する内面に、互いに平行な一対の位置決めガイド
レール１７（１７ａ、１７ｂ）が取り付けられている。
各ガイドレール１７は、図１に示すように、一端が真空
槽４の開口部９に位置されるとともに他端部がメインロ
ール１３の下方部に延在されて、サイドフレーム１２に
それぞれ水平に取り付けられている。

【００２０】各ガイドレール１７には、開口部９側の端
部に、図２及び図３に示すように内方に向かって次第に
高さが大きくなるようにして傾斜ガイド１７ａが形成さ
れている。各ガイドレール１７には、メインロール１３
に対向する他端部に、ストッパ凸部１８が一体にそれぞ
れ突設されている。ガイドレール１７は、真空槽４が開
口部９を真空槽蓋５に閉塞された状態において、この真
空槽蓋５に搭載された詳細を後述する成膜ユニット２２
を位置決めガイドする。

【００２１】真空成膜装置１には、サイドフレーム１２
に詳細を後述するように成膜ユニット２２を所定の位置
に保持する一対のロック機構１９が取り付けられてい
る。ロック機構１９は、エアシリンダ２０と、このエア
シリンダ２０によって位置決めガイドレール１７に近接
する第１の位置と、位置決めガイドレール１７から離間
する第２の位置とに切替移動されるロックレバー２１と
によって構成される。なお、ロック機構１９は、エアシ
リンダ２０に代えて、モータを用いて構成してもよい。

【００２２】真空槽蓋５は、図３に示すように、真空槽
４の開口部９を閉塞するに足る外形寸法を有しており、
図示しないモータ等によってレール２３上を真空槽４に
対して接離移動される台車２４に搭載されている。真空
槽蓋５は、台車２４が真空槽４に最接近した位置まで移
動された状態において、この真空槽４の開口部９を閉塞
する。真空槽蓋５は、台車２４が真空槽４から離間する
方向に移動されることによって開口部９を開放する。真
空槽蓋５には、真空槽４との対向側面に一対の支持ブラ
ケット２５（２５ａ、２５ｂ）が取り付けられている。

【００２３】各支持ブラケット２５は、サイドフレーム
１２の対向間隔よりもやや狭い対向間隔を以って、真空
槽蓋５の側面に互いに平行な状態で片持ち支持されてい
る。各支持ブラケット２５は、図３に示すように、真空
槽蓋５が真空槽４を閉塞した状態において、その上面が
位置決めガイドレール１７の上面よりもやや上方に位置
される。真空槽蓋５には、図１及び図２に示すように、
支持ブラケット２５上に成膜ユニット２２が搭載され
る。

【００２４】成膜ユニット２２は、図３及び図４に示す
ように、ベースプレート２６と、３次元ステージ２７
と、ＣＶＤイオンソースや蒸着るつぼ等の成膜源２８
と、防着板２９と、図示しない電源部等から構成されて
いる。ベースプレート２６は、その幅寸法がサイドフレ
ーム１２の対向間隔よりもやや小さくかつ支持ブラケッ
ト２５の対向間隔よりもやや大きな矩形のプレートから
なる。ベースプレート２６には、底面の四隅に、幅方向
の一対がその対向間隔を位置決めガイドレール１７の対
向間隔とほぼ等しく配置されて、ガイドコロ３０が設け
られている。

【００２５】ベースプレート２６には、図４に示すよう
に幅方向の両端近傍に位置して、その底面に一対のガイ
ドピン３１が突設されている。ベースプレート２６は、
これらガイドピン３１が支持ブラケット２５の上面に形
成した高さ方向のガイド孔３２に係合されることによっ
て、支持ブラケット２５に搭載された状態を保持され
る。ガイドピン３１は、ベースプレート２６が支持ブラ
ケット２５に対して水平方向の移動を規制するとともに
高さ方向に移動自在とするようにして、ガイド孔３２と
の係合が行われる。

【００２６】３次元ステージ２７は、成膜源２８及び防
着板２９をＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動自在に支持
するとともに、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸回りに回転自在に支
持して、これら成膜源２８及び防着板２９をメインロー
ル１３に対して精密に位置決めする。成膜源２８は、詳
細を省略するが、周知のように反応管からカーボン粒子
を放出して樹脂フィルム原反２の表面上にカーボン層を
成膜形成する。なお、成膜源２８は、成膜される薄膜に
応じて被成膜体に対して所定の成膜物質を電気化学的な
方法等によって放出する装置であればよく、上述したよ
うに例えばスバッタ法におけるスバッタカソードや蒸着
法における蒸着るつぼ等も用いられる。

【００２７】成膜ユニット２２は、成膜源２８から放出
される成膜物質の放出方向や範囲等を防着板２９によっ
て制御する。防着板２９は、図２及び図４に示すように
メインロール１３の外周面と対向する部位がその曲率と
ほぼ等しい曲率の凹曲面とされて成膜物質放出部２９ａ
を構成している。防着板２９には、この成膜物質放出部
２９ａに矩形の成膜物質放出口３３が形成されており、
この成膜物質放出口３３の開口範囲で成膜物質が放出さ
れるようにする。成膜物質は、メインロール１３の外周
部を走行する樹脂フィルム原反２に達してこれに付着
し、所定の薄膜を形成する。

【００２８】成膜ユニット２２は、必要に応じて図２に
示すように、吊上げ機構３４によって支持ブラケット２
５から吊り上げられることによって交換自在される。吊
上げ機構３４は、例えばフック３５と、このフック３５
とベースプレート２６の四隅とに架けられた吊りワイヤ
３６等からなる。成膜ユニット２２は、フック３５を介
して図示しないクレーンやホイスト等によって吊り上げ
られることにより、ガイドピン３１がガイド孔３２から
抜け出して支持ブラケット２５から取り外される。

【００２９】真空成膜装置１は、このようにして真空槽
蓋５から成膜ユニット２２を取り外した状態で成膜源２
８や防着板２９の清掃を行った後に、この成膜ユニット
２２を再び真空槽蓋５に搭載する。なお、真空成膜装置
１においては、成膜源２８や防着板２９の清掃交換を、
別途に準備した交換台車によって対応するようにしても
よい。

【００３０】以上のように構成された真空成膜装置１に
おいては、原反供給ロール１５から繰り出された樹脂フ
ィルム原反２がガイドロールを介してメインロール１３
の外周部に掛け合わされた後、ガイドロールを介して原
反巻取ロール１６に固定される。真空成膜装置１におい
ては、この状態で台車２４が駆動されて真空槽蓋５によ
って真空槽４の開口部９が閉塞される。真空成膜装置１
においては、台車２４の移動によって、真空槽蓋５に支
持された支持ブラケット２５が位置決めガイドレール１
７の内面に沿って真空槽４の内部へと進入する。

【００３１】成膜ユニット２２は、支持ブラケット２５
が所定の位置まで進入してベースプレート２６が位置決
めガイドレール１７まで達すると、ガイドコロ３０が傾
斜ガイド１７ａ上に乗り上がる。成膜ユニット２２は、
ガイドピン３１がガイド孔３２内を上昇するがその係合
状態を保持されることで、ベースプレート２６が支持ブ
ラケット２５を介して真空槽蓋５と一体的にそのまま内
部へと進入する。成膜ユニット２２は、ガイドコロ３０
が位置決めガイドレール１７上を転動することで、この
位置決めガイドレール１７を介して真空槽４内における
高さ方向の位置決めが図られる。

【００３２】成膜ユニット２２は、図３に示すように真
空槽蓋５が真空槽４の開口部９を閉塞した状態におい
て、ガイドコロ３０が位置決めガイドレール１７のスト
ッパ凸部１８と衝合して停止されることによって真空槽
４内における奥行き方向の位置決めが図られる。成膜ユ
ニット２２は、この状態において防着板２９の成膜物質
放出部２９ａがメインロール１３の外周部に対して高精
度に位置決めされる。また、成膜ユニット２２は、この
状態においてロック機構１９のエアシリンダ２０が駆動
され、ロックレバー２１がガイドコロ３０をストッパ凸
部１８との間で挟み込んでロックする。したがって、成
膜ユニット２２は、上述したメインロール１３に対する
位置決め状態が確実に保持される。

【００３３】真空成膜装置１においては、第１の真空ポ
ンプ１０と第２の真空ポンプ１１が駆動されることによ
って、成膜室７及び供給巻取室８の真空引きが行われ
る。真空成膜装置１は、成膜室７及び供給巻取室８が所
定の真空雰囲気に達した状態で第１の真空ポンプ１０と
第２の真空ポンプ１１とが停止される。真空成膜装置１
においては、原反走行機構１４が駆動されて樹脂フィル
ム原反２の走行動作が開始されるとともに成膜ユニット
２２の成膜源２８が作動される。真空成膜装置１におい
ては、成膜物質が成膜源２８から防着板２９の成膜物質
放出口３３を介してメインロール１３に向かって放出さ
れ、このメインロール１３の外周部を走行する樹脂フィ
ルム原反２の表面に付着されることで磁気テープ原反３
を順次製造する。

【００３４】真空成膜装置１は、原反供給ロール１５か
ら樹脂フィルム原反２が連続的に繰り出されて成膜部に
おいて表面に薄膜が成膜されて磁気テープ原反３を製造
すると、この磁気テープ原反３を原反巻取ロール１６に
よって順次巻取を行う。真空成膜装置１においては、成
膜処理が終了すると第１の真空ポンプ１０と第２の真空
ポンプ１１とが駆動されて真空槽４内に大気が導入さ
れ、この状態で台車２４が駆動されて真空槽蓋５が真空
槽４を開放する。真空成膜装置１においては、真空槽４
内から原反供給ロール１５及び原反巻取ロール１６を取
り出して交換を行い、上述した工程にしたがって次ぎの
成膜処理を行う。

【００３５】真空成膜装置１は、上述したように真空槽
蓋５が真空槽４を閉塞した状態において、成膜ユニット
２２が真空槽蓋５から真空槽４側へと移動される。真空
成膜装置１は、成膜ユニット２２が真空槽４内において
位置決めガイドレール１７を介してメインロール１３と
の高精度の相対的な位置決めが図られるようにする。真
空成膜装置１は、メインロール１３や位置決めガイドレ
ール１７及び原反走行機構１４の構成各部材をサイドフ
レーム１２に支持することから、各部に真空槽４の真空
引きによる槽璧の歪みの影響が及ぶことは無く高精度の
相対的な位置決め状態が確実に保持される。

【００３６】したがって、真空成膜装置１は、例えば蒸
着法やスバッタ法によって樹脂フィルム原反２に薄膜を
成膜して磁気テープ原反３を製造する場合において、防
着板２９をメインロール１３に対して３ｍｍ以下の間隙
を以って高精度に対向させることが可能であることか
ら、成膜物質の付着によるメインロール１３の汚損が抑
制される。真空成膜装置１は、これによってメインロー
ル１３等の清掃メンテナンスを行う頻度を少なくするこ
とができ、生産性の向上が図られるようになる。また、
真空成膜装置１は、かかる構成によっても防着板２９が
メインロール１３に接触してこのメインロール１３や樹
脂フィルム原反２を傷付けるといった問題の発生が抑制
されるようになる。さらに、真空成膜装置１は、メイン
ロール１３に対する成膜源２８の位置決め精度が極めて
高いことから、例えばメインロール１３と反応管とのギ
ャップが１ｍｍ±０．０１ｍｍ程度と高精度に設定され
る必要があるＣＶＤ法による薄膜の成膜工程にも適用さ
れて、高品質の磁気テープ原反３を製造する。

【００３７】上述した真空成膜装置１は、真空槽４に対
して１つの成膜ユニット２２を搭載した１つの真空槽蓋
５が備えられて構成されているが、本発明はかかる実施
の形態に限定されるものでは無い。真空成膜装置１は、
真空槽蓋５に対して複数の成膜源を備える成膜ユニット
２２を搭載して構成してもよい。また、真空成膜装置１
は、真空槽蓋５がメインロール１３に対してその軸方向
と直交する方向から成膜ユニット２２が真空槽４内に進
入するように構成したが、軸方向と平行な方向から進入
するように構成してもよい。

【００３８】本発明の第２の実施の形態として図５に示
した真空成膜装置４０は、真空槽４１に対してその両側
に配置された２つの真空槽蓋４２ａ、４２ｂが備えられ
て構成される。真空槽４１は、両側面が開放されて真空
槽蓋４２ａ、４２ｂによってそれぞれ開閉される。な
お、真空成膜装置４０は、その他の基本的な構成を上述
した真空成膜装置１と同様としており、以下の説明にお
いて対応する部位には同一符号を付すことによって詳細
な説明を省略する。

【００３９】真空成膜装置４０は、隔壁６によって成膜
室７と供給巻取室８とを上下に区割りしてなる真空槽４
１を備える。真空成膜装置４０は、真空槽蓋４２ａ、４
２ｂがそれぞれ台車２４ａ、２４ｂに搭載されており、
これら台車２４ａ、２４ｂを駆動することによって真空
槽蓋４２ａ、４２ｂが真空槽４１を閉塞する第１の位置
と、開放する第２の位置とに移動される。真空槽４１に
は、内部に設置された図示しないサイドフレーム１２
に、その両側から互いに向き合うようにしてそれぞれ第
１の位置決めガイドレール４３と、第２の位置決めガイ
ドレール４４とが設置されている。真空槽４１には、図
示しないがこれら位置決めガイドレール４３、４４に対
応してロック機構１９がそれぞれ設けられている。

【００４０】真空成膜装置４０は、真空槽４１が真空槽
蓋４２ａ、４２ｂによって閉塞された状態において、こ
れら真空槽蓋４２ａ、４２ｂから第１の成膜ユニット２
２ａと第２の成膜ユニット２２ｂが真空槽４１側へと移
送される。真空成膜装置４０は、第１の成膜ユニット２
２ａと第２の成膜ユニット２２ｂとを、第１の位置決め
ガイドレール４３と第２の位置決めガイドレール４４の
ストッパ凸部４３ａ、４４ａにガイドコロ３０が突き当
たることよって、メインロール１３に対してそれぞれ位
置決めする。真空成膜装置４０は、この第１の成膜ユニ
ット２２ａと第２の成膜ユニット２２ｂの位置決め状態
をロック機構１９によって保持する。真空成膜装置４０
においては、第１の位置決めガイドレール４３と第２の
位置決めガイドレール４４とが、メインロール１３の回
転方向に対して隣り合って位置される。

【００４１】真空成膜装置４０は、例えば第１の成膜ユ
ニット２２ａによって樹脂フィルム原反２に対して蒸着
磁性層を成膜形成し、第２の成膜ユニット２２ｂによっ
て蒸着磁性層上にカーボン層を成膜形成する２工程を同
時に行う。したがって、真空成膜装置４０は、メインロ
ール１３に対して、第１の成膜ユニット２２ａと第２の
成膜ユニット２２ｂの相対する位置が第１の位置決めガ
イドレール４３と第２の位置決めガイドレール４４とに
よってそれぞれ異にして設定される。なお、真空成膜装
置４０は、例えば一方の成膜ユニットを予備機として構
成してもよい。

【００４２】一方、真空成膜装置１においては、上述し
たようにベースプレート２６のガイドコロ３０が位置決
めガイドレール１７のストッパ凸部１８に突き当たると
ともにロック機構１９によってロックされることによ
り、成膜ユニット２２がメインロール１３に対して位置
決めされるように構成されている。成膜ユニット２２の
位置決め機構は、かかる構成に限定されるものでは無
く、例えば図６に示した位置決めカム機構５０によって
構成してもよい。位置決めカム機構５０は、図示しない
サイドフレーム１２の内面に配置され、カム駆動モータ
５１と、略Ｌ字状を呈する一対のカムレバー５２（５２
ａ、５２ｂ）と、リンクレバー５３等の部材によって構
成されている。なお、位置決めカム機構５０は、例えば
図示しないエアーシリンダを駆動することによって同図
において左右方向に調整移動される。また、真空成膜装
置１は、かかる位置決めカム機構５０が付設される場合
には位置決めガイドレール１７が不要となる。

【００４３】各カムレバー５２は、一端がサイドフレー
ム１２の内面に片持ち状態で回動自在に支持されてお
り、他端側にカム凹部５４（５４ａ、５４ｂ）がそれぞ
れ形成されている。各カムレバー５２は、リンクレバー
５３によって互いに連結されており、カム駆動モータ５
１によって互いに一体に回動動作される。

【００４４】各カムレバー５２は、カム駆動モータ５１
の駆動量によって回動角度が適宜調整される。カムレバ
ー５２は、真空槽蓋５が真空槽４を開放した状態では、
カム凹部５４が真空槽４の開口部６側に向かって開口し
た状態に保持されている。また、カムレバー５２は、カ
ム凹部５４が、成膜ユニット２２のベースプレート２６
に設けたガイドコロ３０と相対する高さ位置をほぼ等し
く開口した状態に保持されている。

【００４５】真空成膜装置１においては、台車２４が駆
動されて図６（ａ）に示すように真空槽蓋５によって真
空槽４の開口部９を閉塞した状態において、支持ブラケ
ット２５に搭載された成膜ユニット２２が真空槽１内に
進入する。位置決めカム機構５０は、この状態において
同図に示すように成膜ユニット２２のベースプレート１
６に設けたガイドコロ３０をカムレバー５２のカム凹部
５４内に進入させてその底部に突き当てさせる。位置決
めカム機構５０は、真空槽蓋５が真空槽４を閉塞した状
態においてカム駆動モータ５１が駆動されることによっ
て、カムレバー５２が同図（ｂ）に示すように反時計方
向へと回動動作される。

【００４６】位置決めカム機構５０は、このカムレバー
５２の回動動作によって、成膜ユニット２２を支持ブラ
ケット２５から押し上げながら回動させる。成膜ユニッ
ト２２は、同図に示すようにベースプレート２６の先端
部がサイドフレーム１２に設けたストッパ５５と衝合
し、メインロール１３に対して位置決めされる。

【００４７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる真空成膜装置によれば、真空槽蓋が真空槽を閉塞し
た状態において、この真空槽蓋から真空槽側へと移送さ
れる成膜ユニットを位置決めガイド機構によってメイン
ロールに対して位置決めするように構成したことから、
成膜ユニットとメインロールとの相対的な位置決めが極
めて高精度に行われメインロールの外周部を走行するテ
ープ状被成膜体に対して成膜物質を安定した状態で被着
させて高精度の薄膜を成膜形成する。また、真空成膜装
置においては、メインロールに対して成膜ユニットが精
密に位置合わせされて成膜物質の放出方向等の制御が正
確に行われることから、メインロールが両端部に成膜物
質が付着して汚損されることを抑制しかつ成膜ユニット
を真空槽蓋から取り外して清掃する操作も簡易に行われ
ることでメンテナンス性の向上が図られ、以って成膜体
の生産性の向上が図られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態として示す真空成膜
装置の概略構成図である。

【図２】同真空薄膜装置に備えられる真空槽蓋と成膜ユ
ニットの概略構成を説明する要部斜視図である。

【図３】同真空成膜装置において、真空槽を真空槽蓋に
よって閉塞し、成膜処理を行っている状態を説明する要
部断面図である。

【図４】同真空薄膜装置に備えられる成膜ユニットの構
成を説明する斜視図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態として示す真空成膜
装置の概略構成図である。

【図６】成膜ユニットをメインロールに対して位置決め
固定する他の機構の説明図であり、同図（ａ）は成膜ユ
ニットが真空槽内に進入した状態を示し、同図（ｂ）は
成膜ユニットが位置決め固定された状態を示す。

【符号の説明】

１ 真空成膜装置、２ 樹脂フィルム原反、３ 磁気テ
ープ原反、４ 真空槽、５ 真空槽蓋、６ 隔壁、７
成膜室、８ 供給巻取室、１０ 第１の真空ポンプ、１
１ 第２の真空ポンプ、１２ サイドフレーム、１３
メインロール、１４ 原反走行機構、１７ 位置決めガ
イドレール、１８ ストッパ凸部、１９ロック機構、２
２ 成膜ユニット、２４ 台車、２５ 支持ブラケット
部材、２６ ベースプレート、２７ ３次元ステージ、
２８ 成膜源、２９ 防着板、３０ ガイドコロ、３１
ガイドピン、３２ ガイド孔、３３ 成膜物質放出口

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 テープ状の被成膜体を走行させる走行機
   構と、外周部に上記被成膜体を走行させることによって
   成膜部を構成するメインロールとが備えられるととも
   に、真空ポンプが付設された真空槽と、 成膜源を有する成膜ユニットと、この成膜ユニットを支
   持するユニット支持機構とが備えられ、上記真空槽を閉
   塞する第１の位置と開放する第２の位置とに移動される
   真空槽蓋とによって構成され、 上記成膜ユニットは、上記真空槽蓋が上記真空槽を閉塞
   する第１の位置に移動されると、上記真空槽蓋から上記
   真空槽内へと移送されるとともに上記真空槽に設けた位
   置決めガイド機構により上記メインロールに対向する所
   定位置へと移動されて位置決めされることを特徴とする
   真空成膜装置。
2. 【請求項２】 上記成膜ユニットには、上記成膜源を支
   持する３次元テーブルが備えられることを特徴とする請
   求項１に記載の真空成膜装置。
3. 【請求項３】 上記真空槽蓋は、上記真空槽の相異なる
   位置に設けられた開口部を開閉する複数個からなり、こ
   れら真空槽蓋にそれぞれ上記成膜ユニットが搭載された
   ことを特徴とする請求項１に記載の真空成膜装置。
4. 【請求項４】 上記真空槽には、上記走行機構と位置決
   めガイド機構を支持する一対のサイドフレームが対向間
   隔を保持されて配設され、 上記サイドフレームには、その内面に、上記真空槽蓋か
   ら移送される上記成膜ユニットに設けられたガイドコロ
   が転動して上記メインロールに対する所定位置へと移動
   させる上記位置決めガイド機構を構成するガイドレール
   が設けられたことを特徴とする請求項１に記載の真空成
   膜装置。
5. 【請求項５】 上記真空槽には、上記成膜ユニットが上
   記メインロールに対して所定位置へと移動された状態に
   おいて、上記ガイドコロを係止するロック機構が設けら
   れたことを特徴とする請求項４に記載の真空成膜装置。
6. 【請求項６】 上記真空槽には、上記走行機構と位置決
   めガイド機構を支持する一対のサイドフレームが対向間
   隔を保持されて配設され、 上記サイドフレームには、その内面に、上記真空槽蓋か
   ら移送される上記成膜ユニットに設けられたガイドコロ
   を保持するとともに、上記メインロールに対する所定位
   置へと回動させる上記位置決めガイド機構を構成するカ
   ム機構が設けられたことを特徴とする請求項１に記載の
   真空成膜装置。
7. 【請求項７】 上記成膜ユニットは、上記真空槽蓋が上
   記真空槽を開放した第２の位置に移動された状態におい
   て、取外し機構によって上記真空槽蓋から取り外されて
   交換されることを特徴とする請求項１に記載の真空成膜
   装置。