JP2008031493A - 連続成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 真空チャンバ1を備え、真空チャンバ1の口字形外枠部25を固定チャンバ部15とし、前記外枠部25の側方開口を閉塞する側面壁26L,26Rを移動チャンバ部16L,16Rとし、前記固定チャンバ部15に対して移動チャンバ部をヒンジ機構18により開閉自在に設ける。前記固定チャンバ部15に成膜ロール2を回転自在に設け、その側方に配置される側方成膜源7L,7Rを前記移動チャンバ部16L,16Rに着脱自在に設け、その下方に配置される下方成膜源8L,8Rを前記固定チャンバ部15内に設けられたヒンジ機構19によって前記固定チャンバ部15の内外に出退自在に設ける。
【選択図】 図2
Description
3 巻出しロール、 4 巻取りロール、
7L,7R 側方カソードボックス、8L,8R 下方カソードボックス、
15 固定チャンバ部、 16L,16R 移動チャンバ部、
18,19 ヒンジ機構、 21 背面壁、
22 正面壁、 23 上面壁、
24 下面壁、 25 外枠部、
26L,26R 側面壁
Claims (4)
- 被成膜基材を搬送しながら成膜する連続成膜装置であって、
背面壁とこれに対向配置された正面壁とを上面壁及び下面壁によって連結した外枠部と、この外枠部の左右の開口を閉塞する左右の側面壁を有する真空チャンバと、前記真空チャンバ内に収容されて回転自在に設けられた成膜ロールと、前記成膜ロールに巻き掛けられた被成膜基材に側方から成膜する側方成膜源及び下方から成膜する下方成膜源と、前記被成膜基材を前記成膜ロールに供給する巻出しロール及び成膜後の被成膜基材を巻き取る巻取りロールとを備え、
前記真空チャンバの前記背面壁の一方の側端部と前記正面壁の一方の側端部あるいは側部を通る第1分割面と、前記背面壁の他方の側端部と前記正面壁の他方の側端部あるいは側部を通る第2分割面とによって、前記真空チャンバを左分割部、中央分割部及び右分割部に3分割し、前記中央分割部を固定チャンバ部とし、前記左分割部及び右分割部をそれぞれ左右の移動チャンバ部とし、前記固定チャンバ部に対して前記左右の移動チャンバ部を開閉機構により開閉自在に設け、
前記成膜ロール、巻出しロール及び巻取りロールを前記固定チャンバ部の背面壁及び正面壁に回転自在に支持し、
前記側方成膜源を前記移動チャンバ部に着脱自在に設け、
前記下方成膜源を前記固定チャンバ部内に設けられた出退機構によって前記固定チャンバ部の内外に出退自在に設けた、連続成膜装置。 - 前記左右の移動チャンバ部が前記真空チャンバの左右の側面壁によって構成された、請求項1に記載した連続成膜装置。
- 前記左右の移動チャンバ部を開閉させる開閉機構及び前記下方成膜源を出退させる出退機構はヒンジ機構である、請求項1又は2に記載した連続成膜装置。
- 前記左右の移動チャンバ部を開閉させるヒンジ機構が前記固定チャンバ部の背面壁側あるいは正面壁側のいずれか一方に設けられ、前記下方成形ユニットを出退させるヒンジ機構がその他方に設けられた、請求項3に記載した連続成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010265527A (ja) * | 2009-05-18 | 2010-11-25 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
CN110643969A (zh) * | 2018-06-27 | 2020-01-03 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种真空蒸镀设备 |
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2006
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