JP2000178717A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ベースフィルム上に金属の薄膜を形成するよう
にした成膜装置において、成膜室内に設けられている防
着板の清掃に要する時間による生産性の低下を防止する
ことを目的とする。 【解決手段】真空槽２０内にメインローラ４２に対して
対称に一対の成膜室３１、３２を設けるとともに、これ
らの成膜室３１、３２と連通するように隔壁２３にそれ
ぞれ開口部５１、５２を形成し、これらの開口部５１、
５２をシャッタ５３、５４によって開閉自在に閉じるよ
うにしたものであって、一方の成膜室３１によって成膜
を行なっている際に他方の成膜室３２の防着板６０の清
掃を可能にしたものである。
にした成膜装置において、成膜室内に設けられている防
着板の清掃に要する時間による生産性の低下を防止する
ことを目的とする。 【解決手段】真空槽２０内にメインローラ４２に対して
対称に一対の成膜室３１、３２を設けるとともに、これ
らの成膜室３１、３２と連通するように隔壁２３にそれ
ぞれ開口部５１、５２を形成し、これらの開口部５１、
５２をシャッタ５３、５４によって開閉自在に閉じるよ
うにしたものであって、一方の成膜室３１によって成膜
を行なっている際に他方の成膜室３２の防着板６０の清
掃を可能にしたものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は成膜装置に係り、と
くにベースフィルム上に連続的に成膜を行なうのに用い
て好適な成膜装置に関する。
くにベースフィルム上に連続的に成膜を行なうのに用い
て好適な成膜装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生
装置に用いられる磁気テープとして、金属磁性薄膜を磁
性層とする蒸着テープが用いられている。このような蒸
着テープは、例えば特開平５−２７４６７１号公報に開
示されているように、ベースフィルムの上に磁性薄膜を
蒸着等の方法によって被着して形成したものであって、
高密度記録を可能とするものである。
装置に用いられる磁気テープとして、金属磁性薄膜を磁
性層とする蒸着テープが用いられている。このような蒸
着テープは、例えば特開平５−２７４６７１号公報に開
示されているように、ベースフィルムの上に磁性薄膜を
蒸着等の方法によって被着して形成したものであって、
高密度記録を可能とするものである。
【０００３】図８はこのような蒸着テープの製造のため
に用いられる成膜装置を示しており、真空槽１は隔壁２
によって巻取り室３と成膜室４とに区画されるととも
に、真空槽１全体を真空にするための単一の真空ポンプ
５が真空槽１に設けられている。
に用いられる成膜装置を示しており、真空槽１は隔壁２
によって巻取り室３と成膜室４とに区画されるととも
に、真空槽１全体を真空にするための単一の真空ポンプ
５が真空槽１に設けられている。
【０００４】隔壁２の開口部８によって一部が巻取り室
３側に突出するようにメインローラ９が配されている。
また巻取り室３には供給ローラ１０と巻取りローラ１１
とが配されている。ベースフィルム１２は供給ローラ１
０から繰出され、メインローラ９に巻付けられ、そして
巻取りローラ１１によって巻取られるようになってい
る。
３側に突出するようにメインローラ９が配されている。
また巻取り室３には供給ローラ１０と巻取りローラ１１
とが配されている。ベースフィルム１２は供給ローラ１
０から繰出され、メインローラ９に巻付けられ、そして
巻取りローラ１１によって巻取られるようになってい
る。
【０００５】成膜室４には蒸発源１３が配されるととも
に、このような蒸発源１３から成膜材料を飛翔させるた
めの電子銃１４が設けられている。また上記蒸発源１３
とメインローラ９との間には防着板１５が設けられてお
り、防着板１５には開口部１６が形成されている。
に、このような蒸発源１３から成膜材料を飛翔させるた
めの電子銃１４が設けられている。また上記蒸発源１３
とメインローラ９との間には防着板１５が設けられてお
り、防着板１５には開口部１６が形成されている。
【０００６】このような成膜装置において、真空槽１内
を真空ポンプ５によって真空吸引し、供給ローラ１０か
らベースフィルム１２を繰出してメインローラ９に巻付
けるようにする。そして電子銃１４によって蒸発源１３
内の材料を蒸発飛翔させる。そしてこのような材料を防
着板１５の開口部１６を通してメインローラ９に巻付け
られているベースフィルム１２の外表面に被着させて成
膜を行なう。成膜されたベースフィルム１２は巻取りロ
ーラ１１によって巻取られる。
を真空ポンプ５によって真空吸引し、供給ローラ１０か
らベースフィルム１２を繰出してメインローラ９に巻付
けるようにする。そして電子銃１４によって蒸発源１３
内の材料を蒸発飛翔させる。そしてこのような材料を防
着板１５の開口部１６を通してメインローラ９に巻付け
られているベースフィルム１２の外表面に被着させて成
膜を行なう。成膜されたベースフィルム１２は巻取りロ
ーラ１１によって巻取られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図８に示すようにベー
スフィルム１２に真空蒸着によって成膜を行なう成膜室
は、メインローラ９に対応して蒸発源１３と防着板１５
とを備えている。防着板１５は付着物が多く付着してく
ると、その開口部１６の面積が減少する問題があるため
に、ベースフィルム１２を１ロールずつ成膜する毎に清
掃を行なう必要がある。しかも防着板１５の清掃を含む
付帯時間が、成膜の時間とほぼ同じ位の時間を要する。
スフィルム１２に真空蒸着によって成膜を行なう成膜室
は、メインローラ９に対応して蒸発源１３と防着板１５
とを備えている。防着板１５は付着物が多く付着してく
ると、その開口部１６の面積が減少する問題があるため
に、ベースフィルム１２を１ロールずつ成膜する毎に清
掃を行なう必要がある。しかも防着板１５の清掃を含む
付帯時間が、成膜の時間とほぼ同じ位の時間を要する。
【０００８】図８に示すような成膜装置の生産性を向上
するためには、成膜の効率を上げて成膜時間を短縮する
と同時に、清掃等のための付帯時間を短縮することを要
する。このような付帯時間の短縮のためには、メインロ
ーラ９の冷却昇温時間や防着板１５およびその周辺の清
掃時間の短縮が大きく影響することになる。また図８に
示すような従来の装置は、ベースフィルム１２の走行方
向が一方向であって、このように一方向に走行するベー
スフィルム１２上にしか成膜を行なうことができないと
いう欠点がある。
するためには、成膜の効率を上げて成膜時間を短縮する
と同時に、清掃等のための付帯時間を短縮することを要
する。このような付帯時間の短縮のためには、メインロ
ーラ９の冷却昇温時間や防着板１５およびその周辺の清
掃時間の短縮が大きく影響することになる。また図８に
示すような従来の装置は、ベースフィルム１２の走行方
向が一方向であって、このように一方向に走行するベー
スフィルム１２上にしか成膜を行なうことができないと
いう欠点がある。
【０００９】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであって、とくに防着板等の部材の清掃に要する
付帯時間を大幅に短縮することが可能であって、しかも
成膜が行なわれるベース材料の走行方向が限定されない
成膜装置を提供することを目的とする。
たものであって、とくに防着板等の部材の清掃に要する
付帯時間を大幅に短縮することが可能であって、しかも
成膜が行なわれるベース材料の走行方向が限定されない
成膜装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本願の一発明は、複数の
成膜室を有し、これら複数の成膜室にそれぞれ独立に排
気系を設け、前記複数の成膜室をそれぞれ別々に大気開
放するようにしたことを特徴とする成膜装置に関するも
のである。
成膜室を有し、これら複数の成膜室にそれぞれ独立に排
気系を設け、前記複数の成膜室をそれぞれ別々に大気開
放するようにしたことを特徴とする成膜装置に関するも
のである。
【００１１】それぞれの成膜室に開口部が設けられると
ともに、該開口部に開閉自在にシャッタが取付けられて
おり、前記シャッタを開くと成膜がその表面に行なわれ
るベースが前記開口部を通して前記成膜室に臨むように
してよい。また成膜室の開口部をシャッタで閉じてその
成膜室のみを大気開放するようにしてよい。またそれぞ
れの成膜室に成膜材料源と防着板とが設けられていてよ
い。またそれぞれの成膜室に成膜材料を飛翔させる飛翔
手段が設けられていてよい。
ともに、該開口部に開閉自在にシャッタが取付けられて
おり、前記シャッタを開くと成膜がその表面に行なわれ
るベースが前記開口部を通して前記成膜室に臨むように
してよい。また成膜室の開口部をシャッタで閉じてその
成膜室のみを大気開放するようにしてよい。またそれぞ
れの成膜室に成膜材料源と防着板とが設けられていてよ
い。またそれぞれの成膜室に成膜材料を飛翔させる飛翔
手段が設けられていてよい。
【００１２】本願の別の発明は、ベースフィルムの供給
と巻取りとを行なう巻取り室と、供給されたベースフィ
ルムを巻付けているメインローラを備える中間室と、前
記メインローラの外周部に沿って設けられている隔壁に
よって仕切られている複数の成膜室とから成り、それぞ
れの成膜室に設けられている成膜材料源によって互いに
独立に前記メインローラ上のベースフィルムの表面に成
膜を行なうようにしたことを特徴とする成膜装置に関す
るものである。
と巻取りとを行なう巻取り室と、供給されたベースフィ
ルムを巻付けているメインローラを備える中間室と、前
記メインローラの外周部に沿って設けられている隔壁に
よって仕切られている複数の成膜室とから成り、それぞ
れの成膜室に設けられている成膜材料源によって互いに
独立に前記メインローラ上のベースフィルムの表面に成
膜を行なうようにしたことを特徴とする成膜装置に関す
るものである。
【００１３】前記複数の成膜室に対応するように前記隔
壁に複数の開口部が形成されるとともに、それぞれの開
口部にシャッタが開閉自在に取付けられ、しかも前記複
数の成膜室にそれぞれ別々に排気系が設けられていてよ
い。また前記メインローラの外周部に沿って設けられて
いる隔壁によって仕切られかつ前記メインローラ対して
対称に一対の成膜室が設けられていてよい。また前記メ
インローラに対して前記ベースフィルムが正方向および
逆方向に走行可能であってよい。また中間室と巻取り室
とがそれぞれ独立した排気系を有していてよい。
壁に複数の開口部が形成されるとともに、それぞれの開
口部にシャッタが開閉自在に取付けられ、しかも前記複
数の成膜室にそれぞれ別々に排気系が設けられていてよ
い。また前記メインローラの外周部に沿って設けられて
いる隔壁によって仕切られかつ前記メインローラ対して
対称に一対の成膜室が設けられていてよい。また前記メ
インローラに対して前記ベースフィルムが正方向および
逆方向に走行可能であってよい。また中間室と巻取り室
とがそれぞれ独立した排気系を有していてよい。
【００１４】本発明の好ましい態様は、複数の成膜室を
備え、これら複数の成膜室のそれぞれに蒸発源と防着板
とが設けられるとともに、各成膜室がそれぞれ独立した
排気系を具備するようにしたものである。またとくにメ
インローラに対して対称に一対の成膜室を配することに
よって、成膜が行なわれるベース材料を正方向と逆方向
の何れにも走行可能とすることができる。
備え、これら複数の成膜室のそれぞれに蒸発源と防着板
とが設けられるとともに、各成膜室がそれぞれ独立した
排気系を具備するようにしたものである。またとくにメ
インローラに対して対称に一対の成膜室を配することに
よって、成膜が行なわれるベース材料を正方向と逆方向
の何れにも走行可能とすることができる。
【００１５】さらにベース材料の供給と巻取りとを行な
う巻取り室に独立した排気系を設けるようにし、中間室
を大気開放せずに巻取り室のみを大気開放できるように
するとともに、中間室を大気開放せずに成膜室のみを大
気開放できるようにしてよい。
う巻取り室に独立した排気系を設けるようにし、中間室
を大気開放せずに巻取り室のみを大気開放できるように
するとともに、中間室を大気開放せずに成膜室のみを大
気開放できるようにしてよい。
【００１６】とくに複数の成膜室を設け、これら複数の
成膜室をそれぞれ独立に大気開放できるようにした構成
によれば、防着板の清掃時間を実質的に０とすることが
可能になる。またメインローラの冷却および昇温時間を
大幅に短縮することが可能になるとともに、付帯時間の
短縮によって生産性が向上する。さらに生産性が向上す
ることによって、製造される製品のコストが低減される
ことになる。
成膜室をそれぞれ独立に大気開放できるようにした構成
によれば、防着板の清掃時間を実質的に０とすることが
可能になる。またメインローラの冷却および昇温時間を
大幅に短縮することが可能になるとともに、付帯時間の
短縮によって生産性が向上する。さらに生産性が向上す
ることによって、製造される製品のコストが低減される
ことになる。
【００１７】また複数の成膜室を備え、これらの成膜室
にそれぞれ成膜材料源と、その飛翔手段と、防着板とが
設けられて成る構成によれば、この成膜装置を止めるこ
となくしかも飛翔手段や防着板の不良に対して対応する
ことが可能になり、稼働率の大幅な向上が可能になる。
にそれぞれ成膜材料源と、その飛翔手段と、防着板とが
設けられて成る構成によれば、この成膜装置を止めるこ
となくしかも飛翔手段や防着板の不良に対して対応する
ことが可能になり、稼働率の大幅な向上が可能になる。
【００１８】
【発明の実施の形態】図１〜図４によって本発明の第１
の実施の形態を説明する。この実施の形態の成膜装置は
真空槽２０から構成されている。真空槽２０には隔壁２
１、２２、２３、２４がそれぞれ設けられており、隔壁
２１よりも上側の部分が巻取り室２９になっており、隔
壁２１と隔壁２２との間の空間が中間室３０になってい
る。また隔壁２２、２３の下側であって隔壁２４によっ
て左右に分かれている部分がそれぞれ成膜室３１、３２
を形成している。
の実施の形態を説明する。この実施の形態の成膜装置は
真空槽２０から構成されている。真空槽２０には隔壁２
１、２２、２３、２４がそれぞれ設けられており、隔壁
２１よりも上側の部分が巻取り室２９になっており、隔
壁２１と隔壁２２との間の空間が中間室３０になってい
る。また隔壁２２、２３の下側であって隔壁２４によっ
て左右に分かれている部分がそれぞれ成膜室３１、３２
を形成している。
【００１９】上記巻取り室２９、中間室３０、成膜室３
１、３２にはそれぞれ対応する真空ポンプ３３、３４、
３５、３６が設けられており、これらの室２９〜３２は
互いに別々に独立して排気が行なわれるようにしてい
る。
１、３２にはそれぞれ対応する真空ポンプ３３、３４、
３５、３６が設けられており、これらの室２９〜３２は
互いに別々に独立して排気が行なわれるようにしてい
る。
【００２０】巻取り室２９には供給ローラ４０と巻取り
ローラ４１とが配されている。また中間室３０はにメイ
ンローラ４２が配されている。このメインローラ４２は
その下部が隔壁２２と連続する半円弧状の隔壁２３によ
って形成される凹部内に受入れられている。そして上記
メインローラ４２の上部に配されている一対のガイドロ
ーラ４３、４４によって、供給ローラ４０から引出され
たベースフィルム４５がガイドローラ４３によって案内
され、メインローラ４２に巻付けられている。ベースフ
ィルム４５の先端側の部分はさらにガイドローラ４４を
介して供給ローラ４１に巻取られるようになっている。
ローラ４１とが配されている。また中間室３０はにメイ
ンローラ４２が配されている。このメインローラ４２は
その下部が隔壁２２と連続する半円弧状の隔壁２３によ
って形成される凹部内に受入れられている。そして上記
メインローラ４２の上部に配されている一対のガイドロ
ーラ４３、４４によって、供給ローラ４０から引出され
たベースフィルム４５がガイドローラ４３によって案内
され、メインローラ４２に巻付けられている。ベースフ
ィルム４５の先端側の部分はさらにガイドローラ４４を
介して供給ローラ４１に巻取られるようになっている。
【００２１】円弧状をなす隔壁２３には一対の開口部５
１、５２が設けられるとともに、これらの開口部５１、
５２にはそれぞれ開閉自在にシャッタ５３、５４を配す
るようにしている。
１、５２が設けられるとともに、これらの開口部５１、
５２にはそれぞれ開閉自在にシャッタ５３、５４を配す
るようにしている。
【００２２】左右の成膜室３１、３２にはそれぞれ蒸発
源５７、５８が配されている。またこれらの蒸発源５
７、５８を覆うようにそれぞれの成膜室３１、３２に防
着板５９、６０が取付けられている。そして上記蒸発源
５７、５８内の成膜材料を飛翔させるための電子銃６
１、６２が上記成膜室３１、３２にそれぞれ設けられて
いる。
源５７、５８が配されている。またこれらの蒸発源５
７、５８を覆うようにそれぞれの成膜室３１、３２に防
着板５９、６０が取付けられている。そして上記蒸発源
５７、５８内の成膜材料を飛翔させるための電子銃６
１、６２が上記成膜室３１、３２にそれぞれ設けられて
いる。
【００２３】左右の成膜室３１、３２の下側にはそれぞ
れ取出し口６５、６６が形成されるとともに、これらの
取出し口６５、６６には扉６７、６８がそれぞれ開閉自
在に設けられている。
れ取出し口６５、６６が形成されるとともに、これらの
取出し口６５、６６には扉６７、６８がそれぞれ開閉自
在に設けられている。
【００２４】このように本実施の形態に係る成膜装置
は、金属製であって箱型の真空槽２０を備えるととも
に、円筒状でしかも表面が冷却可能な金属製のメインロ
ーラ４２およびガイドローラ４３、４４を図示を省略し
た支持構造によって回転自在に支持している。また真空
槽２０内は隔壁２１、２２、２３、２４によって上述の
如く巻取り室２９、中間室３０、成膜室３１、３２に区
画された構造になっている。またこれらの各室２９〜３
２は上述の如く独立にそれぞれ真空ポンプ３３〜３６を
備え、それぞれが独立した排気系を具備している。
は、金属製であって箱型の真空槽２０を備えるととも
に、円筒状でしかも表面が冷却可能な金属製のメインロ
ーラ４２およびガイドローラ４３、４４を図示を省略し
た支持構造によって回転自在に支持している。また真空
槽２０内は隔壁２１、２２、２３、２４によって上述の
如く巻取り室２９、中間室３０、成膜室３１、３２に区
画された構造になっている。またこれらの各室２９〜３
２は上述の如く独立にそれぞれ真空ポンプ３３〜３６を
備え、それぞれが独立した排気系を具備している。
【００２５】巻取り室２９にはポリエチレンテレフタレ
ート等のプラスチック材料のベースフィルム４５をロー
ル状に巻取った状態の供給ローラ４０と、成膜されたベ
ースフィルム４５を巻取るための巻取りローラ４１とを
備えている。ベースフィルム４５は供給ローラ４０から
ガイドローラ４３、メインローラ４２の表面に密着しな
がら通り、巻取りローラ４１に巻取られるようになって
いる。
ート等のプラスチック材料のベースフィルム４５をロー
ル状に巻取った状態の供給ローラ４０と、成膜されたベ
ースフィルム４５を巻取るための巻取りローラ４１とを
備えている。ベースフィルム４５は供給ローラ４０から
ガイドローラ４３、メインローラ４２の表面に密着しな
がら通り、巻取りローラ４１に巻取られるようになって
いる。
【００２６】中間室３０にはとくにその下側の円弧状を
なす隔壁２３に成膜室３１と連通する開口部５１と成膜
室３２と連通する開口部５２とが設けられており、金属
製でしかも図示を省略した方法によって可動自在なシャ
ッタ５３、５４によって開口部５１、５２をそれぞれ密
閉できる構造にしている。
なす隔壁２３に成膜室３１と連通する開口部５１と成膜
室３２と連通する開口部５２とが設けられており、金属
製でしかも図示を省略した方法によって可動自在なシャ
ッタ５３、５４によって開口部５１、５２をそれぞれ密
閉できる構造にしている。
【００２７】成膜室３１は金属材料等を蒸発させるため
の蒸発源５７を備え、この蒸発源５７を囲むように金属
製の防着板５９を図示を省略した方法によって支持しな
がら配置している。また蒸発源５７を加熱するための電
子銃６１が真空槽２０の壁面の所定の位置に設置されて
いる。またこの成膜室３１の下部壁面には金属製の成膜
室扉６７を備え、この扉６７を開くと防着板５９が出入
れできる開口６５が開放されるようになっている。
の蒸発源５７を備え、この蒸発源５７を囲むように金属
製の防着板５９を図示を省略した方法によって支持しな
がら配置している。また蒸発源５７を加熱するための電
子銃６１が真空槽２０の壁面の所定の位置に設置されて
いる。またこの成膜室３１の下部壁面には金属製の成膜
室扉６７を備え、この扉６７を開くと防着板５９が出入
れできる開口６５が開放されるようになっている。
【００２８】同様に成膜室３２にはメインローラ４２に
対して第１の成膜室３１側の蒸発源５７および防着板５
９と対称に蒸発源５８および防着板６０が設けられ、さ
らに上記電子銃６１と対称に電子銃６２が設けられてい
る。またこの成膜室３２の下部には扉６８が設けられ、
取出し口６６を閉じている。
対して第１の成膜室３１側の蒸発源５７および防着板５
９と対称に蒸発源５８および防着板６０が設けられ、さ
らに上記電子銃６１と対称に電子銃６２が設けられてい
る。またこの成膜室３２の下部には扉６８が設けられ、
取出し口６６を閉じている。
【００２９】上記巻取り室２９と中間室３０とを仕切る
隔壁２１にはベースフィルム４５が通過する小さな隙間
が形成され、図示しない方法によって開閉可能な構造に
なっており、密閉することが可能になっている。
隔壁２１にはベースフィルム４５が通過する小さな隙間
が形成され、図示しない方法によって開閉可能な構造に
なっており、密閉することが可能になっている。
【００３０】次に以上のような構成に係る成膜装置の動
作について説明する。図２に示すように供給ローラ４０
を右側に配置する場合には、シャッタ５３によって隔壁
２３の開口部５１を閉じた状態で成膜室３１以外の部分
を真空状態に維持するとともに、メインローラ４２の冷
却を行なう。
作について説明する。図２に示すように供給ローラ４０
を右側に配置する場合には、シャッタ５３によって隔壁
２３の開口部５１を閉じた状態で成膜室３１以外の部分
を真空状態に維持するとともに、メインローラ４２の冷
却を行なう。
【００３１】このような状態において供給ローラ４０か
ら巻取りローラ４１へ矢印で示すようにベースフィルム
４５を走行させる。そして電子銃６２によって右側の成
膜室３２内の蒸発源５８に向けて照射加熱し、蒸発源５
８内の金属材料等を蒸発させて飛翔させる。飛翔された
金属材料が防着板６０の開口および隔壁２３の開口部５
２を通してメインローラ４２に巻付けられているベース
フィルム４５の表面に被着し、成膜が行なわれる。供給
ローラ４０のベースフィルム４５がなくなる寸前で、電
子銃６２を停止させ、シャッタ５４を移動させて隔壁２
３の開口部５２を閉じ、さらにベースフィルム４５の走
行を停止させる。
ら巻取りローラ４１へ矢印で示すようにベースフィルム
４５を走行させる。そして電子銃６２によって右側の成
膜室３２内の蒸発源５８に向けて照射加熱し、蒸発源５
８内の金属材料等を蒸発させて飛翔させる。飛翔された
金属材料が防着板６０の開口および隔壁２３の開口部５
２を通してメインローラ４２に巻付けられているベース
フィルム４５の表面に被着し、成膜が行なわれる。供給
ローラ４０のベースフィルム４５がなくなる寸前で、電
子銃６２を停止させ、シャッタ５４を移動させて隔壁２
３の開口部５２を閉じ、さらにベースフィルム４５の走
行を停止させる。
【００３２】この後に図３に示すように隔壁２１の小さ
な隙間を閉じて巻取り室２９と中間室３０とを遮断す
る。そして巻取り室２９の上部の天板６９を開き、供給
ローラ４０と巻取りローラ４１とを図２に示す状態とは
逆に位置に設置する。この作業と同時に成膜室３１内に
防着板５９と蒸発源５７とを配置し、成膜室３１の取出
し口６５を扉６７によって閉じる。
な隙間を閉じて巻取り室２９と中間室３０とを遮断す
る。そして巻取り室２９の上部の天板６９を開き、供給
ローラ４０と巻取りローラ４１とを図２に示す状態とは
逆に位置に設置する。この作業と同時に成膜室３１内に
防着板５９と蒸発源５７とを配置し、成膜室３１の取出
し口６５を扉６７によって閉じる。
【００３３】このような状態において、図４に示すよう
に、左側の供給ローラ４０からベースフィルム４５を供
給し、左側の成膜室３１内の蒸発源５７の金属を電子銃
６１によって蒸発させて、防着板５９の開口および隔壁
２３の開口５１を通してベースフィルム４５上に成膜を
行なう。そして右側の巻取りローラ４１によって成膜を
行なったベースフィルム４５の巻取りを行なう。すなわ
ち図４に示す成膜は、図２に示す成膜とは対称な配置に
よって、しかもベースフィルム４５の走行方向を逆にし
て行なう。
に、左側の供給ローラ４０からベースフィルム４５を供
給し、左側の成膜室３１内の蒸発源５７の金属を電子銃
６１によって蒸発させて、防着板５９の開口および隔壁
２３の開口５１を通してベースフィルム４５上に成膜を
行なう。そして右側の巻取りローラ４１によって成膜を
行なったベースフィルム４５の巻取りを行なう。すなわ
ち図４に示す成膜は、図２に示す成膜とは対称な配置に
よって、しかもベースフィルム４５の走行方向を逆にし
て行なう。
【００３４】このように左側の成膜室３１によって成膜
を行なっている際に、隔壁２３の開口部５２をシャッタ
５４によって閉じるようにし、右側の成膜室３２を大気
開放する。そして扉６８を開いて取出し口６６から内部
の防着板６０と蒸発源５８とを取出して掃除を行なう。
を行なっている際に、隔壁２３の開口部５２をシャッタ
５４によって閉じるようにし、右側の成膜室３２を大気
開放する。そして扉６８を開いて取出し口６６から内部
の防着板６０と蒸発源５８とを取出して掃除を行なう。
【００３５】このような方法によって成膜を行なうよう
にした成膜装置によれば、メインローラ４２自体が付着
物によって汚れて清掃しなければならない状態になるま
で、中間室３０を大気開放する必要がない。すなわちメ
インローラ４２の冷却昇温の作業が数バッチから数十バ
ッチに１度という回数で済むようになり、これに関わる
付帯時間は通常の数分の１から数十分の１の時間に短縮
される。また防着板５９、６０の清掃も、反対側の成膜
室３２または３１の防着板６０、５９によって成膜を行
なっている最中に他方の防着板５９、６０の清掃を行な
うために、清掃に要する時間が実質的に０になる。
にした成膜装置によれば、メインローラ４２自体が付着
物によって汚れて清掃しなければならない状態になるま
で、中間室３０を大気開放する必要がない。すなわちメ
インローラ４２の冷却昇温の作業が数バッチから数十バ
ッチに１度という回数で済むようになり、これに関わる
付帯時間は通常の数分の１から数十分の１の時間に短縮
される。また防着板５９、６０の清掃も、反対側の成膜
室３２または３１の防着板６０、５９によって成膜を行
なっている最中に他方の防着板５９、６０の清掃を行な
うために、清掃に要する時間が実質的に０になる。
【００３６】このような成膜装置は、２層の成膜に適用
することができる。すなわち図５に示すように、左右の
成膜室３１、３２をそれぞれ真空吸引し、隔壁２３の両
側の開口部５１、５２のシャッタ５３、５４をともに開
放する。そして左右の成膜室３１、３２の蒸発源５７、
５８を電子銃６１、６２によって加熱して飛翔させ、こ
れによって蒸発した金属材料をメインローラ４２に巻付
けられているベースフィルム４５上に付着させることに
よって、２層の蒸着膜を形成することが可能になる。ま
たこのときのベースフィルム４５の走行方向に応じて、
２層の成膜の順番を任意に選択できるようになる。
することができる。すなわち図５に示すように、左右の
成膜室３１、３２をそれぞれ真空吸引し、隔壁２３の両
側の開口部５１、５２のシャッタ５３、５４をともに開
放する。そして左右の成膜室３１、３２の蒸発源５７、
５８を電子銃６１、６２によって加熱して飛翔させ、こ
れによって蒸発した金属材料をメインローラ４２に巻付
けられているベースフィルム４５上に付着させることに
よって、２層の蒸着膜を形成することが可能になる。ま
たこのときのベースフィルム４５の走行方向に応じて、
２層の成膜の順番を任意に選択できるようになる。
【００３７】次にさらに別の実施の形態を図６によって
説明する。この実施の形態は蒸発源５７、５８に代えて
イオン源７１、７２を左右の成膜室３１、３２内に配し
たものである。このようなイオン源７１、７２によっ
て、上記と同様の手法でベースフィルム４５上に成膜を
行なうことができるとともに、清掃に要する付帯時間の
大幅な短縮を図ることが可能になる。
説明する。この実施の形態は蒸発源５７、５８に代えて
イオン源７１、７２を左右の成膜室３１、３２内に配し
たものである。このようなイオン源７１、７２によっ
て、上記と同様の手法でベースフィルム４５上に成膜を
行なうことができるとともに、清掃に要する付帯時間の
大幅な短縮を図ることが可能になる。
【００３８】図７はさらに別に実施の形態を示してい
る。この実施の形態は真空槽２０内に配されているメイ
ンローラ４２の軸線方向の長さを図１〜図４に示す最初
の実施の形態の構造のほぼ２倍の長さにするとともに、
その外周側に一対の供給ローラ４０と一対の巻取りロー
ラ４１とを配し、さらにその下側には左右にそれぞれ一
対ずつの防着板５９、６０を配するようにしたものであ
る。このような構造によれば、上記実施の形態と同様の
作用効果を奏するばかりでなく、大幅な生産性の向上を
図ることが可能になり、これによって大幅なコストの低
減を図られるようになる。
る。この実施の形態は真空槽２０内に配されているメイ
ンローラ４２の軸線方向の長さを図１〜図４に示す最初
の実施の形態の構造のほぼ２倍の長さにするとともに、
その外周側に一対の供給ローラ４０と一対の巻取りロー
ラ４１とを配し、さらにその下側には左右にそれぞれ一
対ずつの防着板５９、６０を配するようにしたものであ
る。このような構造によれば、上記実施の形態と同様の
作用効果を奏するばかりでなく、大幅な生産性の向上を
図ることが可能になり、これによって大幅なコストの低
減を図られるようになる。
【００３９】
【発明の効果】本願の一発明は、複数の成膜室を有し、
これら複数の成膜室にそれぞれ独立に排気系を設け、複
数の成膜室をそれぞれ別々に大気開放するようにしたも
のである。
これら複数の成膜室にそれぞれ独立に排気系を設け、複
数の成膜室をそれぞれ別々に大気開放するようにしたも
のである。
【００４０】従ってこのような成膜装置によれば、成膜
を行なっている成膜室以外の成膜室を大気開放すること
によって、内部の所要の部位の清掃を行なうことが可能
になる。
を行なっている成膜室以外の成膜室を大気開放すること
によって、内部の所要の部位の清掃を行なうことが可能
になる。
【００４１】本願の別の発明は、ベースフィルムの供給
と巻取りとを行なう巻取り室と、供給されたベースフィ
ルムを巻付けているメインローラを備える中間室と、メ
インローラの外周部に沿って設けられている隔壁によっ
て仕切られている複数の成膜室とから成り、それぞれの
成膜室に設けられている成膜材料源によって互いに独立
にメインローラ上のベースフィルムの表面に成膜を行な
うようにしたものである。
と巻取りとを行なう巻取り室と、供給されたベースフィ
ルムを巻付けているメインローラを備える中間室と、メ
インローラの外周部に沿って設けられている隔壁によっ
て仕切られている複数の成膜室とから成り、それぞれの
成膜室に設けられている成膜材料源によって互いに独立
にメインローラ上のベースフィルムの表面に成膜を行な
うようにしたものである。
【００４２】従ってこのような構成によれば、複数の成
膜室の何れかを利用してベースフィルム上に成膜を行な
うことが可能になるとともに、成膜を行なっていない休
止している成膜室を必要に応じて清掃することが可能に
なる。また複数の成膜室による同時成膜を行なうことに
よって、ベースフィルム上に多層に成膜を行なうことが
可能になる。
膜室の何れかを利用してベースフィルム上に成膜を行な
うことが可能になるとともに、成膜を行なっていない休
止している成膜室を必要に応じて清掃することが可能に
なる。また複数の成膜室による同時成膜を行なうことに
よって、ベースフィルム上に多層に成膜を行なうことが
可能になる。
【図１】本発明の一実施の形態に係る成膜装置を示す縦
断面図である。
断面図である。
【図２】一方の成膜室による成膜動作を示す成膜装置の
縦断面図である。
縦断面図である。
【図３】供給ローラと巻取りローラの入替えを示す成膜
装置の縦断面図である。
装置の縦断面図である。
【図４】他方の成膜室によって成膜を行なっている状態
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図５】多層の成膜を行なっている状態を示す縦断面図
である。
である。
【図６】別の実施の形態の成膜室の縦断面図である。
【図７】さらに別の実施の形態の成膜室の一部を破断し
た斜視図である。
た斜視図である。
【図８】従来の成膜装置を示す縦断面図である。
１‥‥真空槽、２‥‥隔壁、３‥‥巻取り室、４‥‥成
膜室、５‥‥真空ポンプ、８‥‥開口部、９‥‥メイン
ローラ、１０‥‥供給ローラ、１１‥‥巻取りローラ、
１２‥‥ベースフィルム、１３‥‥蒸発源、１４‥‥電
子銃、１５‥‥防着板、１６‥‥開口部、２０‥‥真空
槽、２１〜２４‥‥隔壁、２９‥‥巻取り室、３０‥‥
中間室、３１、３２‥‥成膜室、３３〜３６‥‥真空ポ
ンプ、４０‥‥供給ローラ、４１‥‥巻取りローラ、４
２‥‥メインローラ、４３、４４‥‥ガイドローラ、４
５‥‥ベースフィルム、５１、５２‥‥開口部、５３、
５４‥‥シャッタ、５７、５８‥‥蒸発源、５９、６０
‥‥防着板、６１、６２‥‥電子銃、６５、６６‥‥取
出し口、６７、６８‥‥扉、６９‥‥天板、７１、７２
‥‥インオ源
膜室、５‥‥真空ポンプ、８‥‥開口部、９‥‥メイン
ローラ、１０‥‥供給ローラ、１１‥‥巻取りローラ、
１２‥‥ベースフィルム、１３‥‥蒸発源、１４‥‥電
子銃、１５‥‥防着板、１６‥‥開口部、２０‥‥真空
槽、２１〜２４‥‥隔壁、２９‥‥巻取り室、３０‥‥
中間室、３１、３２‥‥成膜室、３３〜３６‥‥真空ポ
ンプ、４０‥‥供給ローラ、４１‥‥巻取りローラ、４
２‥‥メインローラ、４３、４４‥‥ガイドローラ、４
５‥‥ベースフィルム、５１、５２‥‥開口部、５３、
５４‥‥シャッタ、５７、５８‥‥蒸発源、５９、６０
‥‥防着板、６１、６２‥‥電子銃、６５、６６‥‥取
出し口、６７、６８‥‥扉、６９‥‥天板、７１、７２
‥‥インオ源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F006 AA35 AB73 BA06 CA02 DA01 4K029 AA25 CA01 DA10 KA03 5D112 AA05 AA22 FA02 FB21 FB24 FB25 KK02 5F045 AA18 AB40 AF07 BB08 DP22 DQ14 EB02 EB05 EF18 HA24
Claims (10)
- 【請求項１】複数の成膜室を有し、これら複数の成膜室
にそれぞれ独立に排気系を設け、前記複数の成膜室をそ
れぞれ別々に大気開放するようにしたことを特徴とする
成膜装置。 - 【請求項２】それぞれの成膜室に開口部が設けられると
ともに、該開口部に開閉自在にシャッタが取付けられて
おり、前記シャッタを開くと成膜がその表面に行なわれ
るベースが前記開口部を通して前記成膜室に臨むことを
特徴とする請求項１に記載の成膜装置。 - 【請求項３】成膜室の開口部をシャッタで閉じてその成
膜室のみを大気開放することを特徴とする請求項１に記
載の成膜装置。 - 【請求項４】それぞれの成膜室に成膜材料源と防着板と
が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の成
膜装置。 - 【請求項５】それぞれの成膜室に成膜材料を飛翔させる
飛翔手段が設けられていることを特徴とする請求項１に
記載の成膜装置。 - 【請求項６】ベースフィルムの供給と巻取りとを行なう
巻取り室と、 供給されたベースフィルムを巻付けているメインローラ
を備える中間室と、 前記メインローラの外周部に沿って設けられている隔壁
によって仕切られている複数の成膜室とから成り、 それぞれの成膜室に設けられている成膜材料源によって
互いに独立に前記メインローラ上のベースフィルムの表
面に成膜を行なうようにしたことを特徴とする成膜装
置。 - 【請求項７】前記複数の成膜室に対応するように前記隔
壁に複数の開口部が形成されるとともに、それぞれの開
口部にシャッタが開閉自在に取付けられ、しかも前記複
数の成膜室にそれぞれ別々に排気系が設けられているこ
とを特徴とする請求項６に記載の成膜装置。 - 【請求項８】前記メインローラの外周部に沿って設けら
れている隔壁によって仕切られかつ前記メインローラ対
して対称に一対の成膜室が設けられていることを特徴と
する請求項７に記載の成膜装置。 - 【請求項９】前記メインローラに対して前記ベースフィ
ルムが正方向および逆方向に走行可能なことを特徴とす
る請求項８に記載の成膜装置。 - 【請求項１０】中間室と巻取り室とがそれぞれ独立した
排気系を有することを特徴とする請求項６に記載の成膜
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10362856A JP2000178717A (ja) | 1998-12-21 | 1998-12-21 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10362856A JP2000178717A (ja) | 1998-12-21 | 1998-12-21 | 成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000178717A true JP2000178717A (ja) | 2000-06-27 |
Family
ID=18477907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10362856A Pending JP2000178717A (ja) | 1998-12-21 | 1998-12-21 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000178717A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006169585A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Toppan Printing Co Ltd | 導電性ガスバリア積層体の製造方法 |
| EP2319953A1 (en) * | 2008-08-27 | 2011-05-11 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Continuous film forming apparatus |
| CN103046015A (zh) * | 2013-01-22 | 2013-04-17 | 安泰科技股份有限公司 | 一种卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置及方法 |
| WO2017213001A1 (ja) * | 2016-06-07 | 2017-12-14 | 日東電工株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
| CN109312453A (zh) * | 2016-06-07 | 2019-02-05 | 日东电工株式会社 | 光学膜的制造方法 |
| JP2020172706A (ja) * | 2020-07-03 | 2020-10-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学膜の製造方法 |
-
1998
- 1998-12-21 JP JP10362856A patent/JP2000178717A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006169585A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Toppan Printing Co Ltd | 導電性ガスバリア積層体の製造方法 |
| JP4525330B2 (ja) * | 2004-12-16 | 2010-08-18 | 凸版印刷株式会社 | 導電性ガスバリア積層体の製造方法 |
| KR101292459B1 (ko) * | 2008-08-27 | 2013-07-31 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 연속 성막 장치 |
| US20110139072A1 (en) * | 2008-08-27 | 2011-06-16 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Continuous deposition apparatus |
| EP2319953A4 (en) * | 2008-08-27 | 2012-05-30 | Kobe Steel Ltd | DEVICE FOR CONTINUOUS FILM GENERATION |
| EP2319953A1 (en) * | 2008-08-27 | 2011-05-11 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Continuous film forming apparatus |
| US8821638B2 (en) | 2008-08-27 | 2014-09-02 | Kobe Steel, Ltd. | Continuous deposition apparatus |
| CN103046015A (zh) * | 2013-01-22 | 2013-04-17 | 安泰科技股份有限公司 | 一种卷对卷式高效磁控溅射真空镀膜装置及方法 |
| WO2017213001A1 (ja) * | 2016-06-07 | 2017-12-14 | 日東電工株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
| CN109312453A (zh) * | 2016-06-07 | 2019-02-05 | 日东电工株式会社 | 光学膜的制造方法 |
| CN109312453B (zh) * | 2016-06-07 | 2021-03-09 | 日东电工株式会社 | 光学膜的制造方法 |
| US11306392B2 (en) | 2016-06-07 | 2022-04-19 | Nitto Denko Corporation | Method for producing optical film |
| JP2020172706A (ja) * | 2020-07-03 | 2020-10-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学膜の製造方法 |
| JP7146853B2 (ja) | 2020-07-03 | 2022-10-04 | デクセリアルズ株式会社 | 光学膜の製造方法 |
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