JP2007509237A - 帯状体加工プラント - Google Patents

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Abstract

可撓性基板(17S)を通過させるための連続加工ユニットにおいて、前記基板を展開し、巻き取る2つの巻取りステーション(10、10’)と、これらの2つのステーション間の前記基板の通路に提供された少なくとも1つの加工ステーション(B)と、前記巻取りステーションおよび少なくとも1つの加工ステーションの内側に異なる圧力レベルを達成する目的で、巻取りステーション(10、10’)と少なくとも1つの加工ステーションとの間に提供された仕切弁(18)とを特徴として有し、前記巻取りステーションがベース(11)上に配置され、例えば前記基板を交換するために前記巻取りステーションを延ばすことができる連続加工ユニットを提供する。
【選択図】 図1

Description

発明の詳細な説明
本発明は、請求項1のプリアンブルの特徴を有する帯状体加工プラントに関する。
このタイプの加工プラントは主に、真空中で例えばプラスチック箔、磁気テープ、フィルムなどの可撓性帯状基板を、(例えばスパッタリング、すなわち最後に磁場によって強化された標的微粒化(atomization)、蒸着、PVDまたはCVDプロセスによって)コーティングするように設計され、また、前処理/洗浄/乾燥/表面活性化/重合などの追加の処理方法のために設計される。このような場合には、支持棒上に置かれたベール(bale)または箔の形態で供給される帯状基板を、コーティング工程中にこのベールから帯状基板を展開することができるようにプラントに導入する必要がある。
コーティング室の先/下流には、コーティングされた帯状基板が再び巻き取られる巻取りリールを備えた別の心棒が提供される。
基本的に、このような帯状体コーティングプラントは、複数のモジュール(展開、コーティングおよび巻取りモジュール)に分割することができる。
知られているプラントでは、前記帯状基板を展開し、巻き取るために相互に取り付けられた両方の軸ないしシリンダが、共通のフレーム状ベースに組み付けられており、このことは、両方の軸ないしシリンダが固定された一定の相互位置関係にあるという利点を提供する。両方の軸ないしシリンダがコーティングモジュールの両側に配置されているときには、さまざまな手段によって、スプールの交換時に、真空中で稼動しているコーティング室までもが換気されることを防ぐことができる。
基板ベールの交換時、すなわちコーティングされたばかりの新しく巻き取られたベールを帯状基板から取り出すときには、真空中で稼動しているコーティング室を換気しないことを目指さなければならない。
したがって、個々のモジュール間にエアロック弁を取り付けることがすでに知られている。導入および取出しステーションだけがそれぞれ換気され、有効コーティング室は排気された状態に永続的にとどまることができるので、再び換気される容積はしたがって明らかに低減する。明らかに、必要な場合にはプラント全体を換気することができる。
独国公報DE19735603C1は、連続して配置された異なるコーティング室を有し、それぞれのコーティング室内に、バイパスロール、帯状体測定ロールおよび冷却ロールを備えたローラフレームが提供された連続真空コーティングプラントを記述している。これらのローラフレームは、それぞれのコーティング室の中で、連続する室のロールおよびシリンダを相互に調整することができるような方法で調整することができる。前記コーティング室のマグネトロン源は、ローラフレームとは独立に組み付けられており、そのため、シリンダの位置を変更する必要なしにマグネトロン源を調整し交換することができる。
加工される帯状基板は、展開室からコーティング室へ導入され、コーティング室から下へ巻取り室に導入され、展開室および巻取り室とコーティング室の間には、詳細には論じない真空弁が提供される。
独国公報DE10157186C1は、その間にエアロック弁または帯状体弁が提供された展開、コーティングおよび巻取り室への細分による別の連続真空コーティングユニットを記述している。排気可能な展開室および巻取り室の内部に提供されたスプールシャフトは、互いに独立に固定された前記ローラフレーム上に提供され、プラントから別々に取り出すことができる。一方、加工モジュール内のシリンダは共通のローラフレーム上に配置される。全てのローラフレームに対して、巻取り室と加工モジュールの間の分離壁に、共通の固定または配置点が提供される。稼動中のローラフレームの相互変位は、稼動中に巻取り室と加工モジュールの間に最大圧力差50Paを提供することによって防がなければならない。前記加工モジュールは、アクセス開口を備えた別個のカバーで閉じることができる。
国際公開公報WO99/50472は、共通の室の中に配置された対応する巻取りおよび展開リールを有する装填および抜取りステーションと、別に提供された少なくとも1つの反応室(コーティングモジュール)とを備えた真空帯状体コーティングプラントを記述している。帯状基板は、装填ステーションと抜取りステーションの間の圧力段の働きをするシリンダエアロックを通過する。一変形では帯状基板が、互いに回転する2つのシリンダ間を通過し、他の変形では帯状基板が、シリンダと固定された密閉ブロックとの間を通過する。これらのシリンダエアロックは、例えば新しい帯状基板を導入するために開くことができる。この目的のため、どちらかのシリンダを折りたたむことができ、その回転軸は、別の回転軸を中心に折りたたむことできるように取り付けられており、または密閉ブロックがシリンダから取り外される。
この知られているプラントの一実施形態では、駆動機構を有する全てのシリンダおよび弁が、ハウジングの中に導入することができる共通のベース上に提供される。ベースとハウジングの間のすき間は、周囲シールによって真空が保たれるようにきつく閉じることができる。とはいえ、それらの空間配置を考慮すれば、特に前記エアロック弁の領域では、これらのシールが全て平らなシール面に適用できるわけではない。さらにこのプラントでは、前記エアロック弁の存在のために、前記加工室を換気する必要なしに帯状体スプールを交換することができる。
本発明の目的は、プラント全体を換気する必要なしに、すなわち排気加工セクションなしに展開スプールおよび巻取りスプールを交換できる他の加工プラントを提供することにある。
本発明によれば、この課題は請求項1の特徴によって解決される。従属請求項の諸特徴は本発明の有利な実施形態を示す。
本発明によれば、巻取りステーションと加工ステーションが、互いに対して相対的に移動することができる異なるベース内またはベース上に設けられる。加工プラントのベースは、プラントハウジングの固定されたセクションであり、プラントハウジングはさらに、稼動状態の間、巻取りセクションを取り囲んでいる。
巻取りセクションは、その共通のベースを含み、加工モジュールに向かって開いており、プラントハウジングに関して可動の構造体に設けられ、巻取りセクションは弁によって、実際の加工プラント(または加工モジュール)に対して密閉することができるようになっている。
このベース全体が、前記構造体の1つの壁セクションを構成する閉じたプレートであることが好ましい。特に好適な実施形態では、稼動状態の間、巻取りステーションのこの基本プレートが同時に、プラント全体のハウジングの1つの壁セクションを構成する。さらにそれは、構造体自体の内部に形成された室の壁を形成し、前記室は実質的に閉じた形態を示す。
稼動状態の間、きつく閉じることができる前記プラントハウジングの別個の開口を通して、巻取りステーションに外部からアクセスすることができる。巻取りステーションを支持する構造体の壁の開口はこれらの開口に対応する。したがって、前記弁を閉じ、巻取りステーションを換気した後に、プラント全体を換気する必要なしに、また巻取りテーションをプラントハウジングから引き出す必要なしに、帯状体スプールを迅速に交換することができる。
特に好ましい実施形態では、構造体、またはさらにプラントハウジングが、装填および/または抜取り開口を取り囲むシールを含む。このシールは、流体圧力によって有利に動作可能であり、そのためこのシールは、密閉位置と非活動位置とを特徴として有する。非活動位置では、前記シールに作用力を発揮することなく、前記巻取りセクションの単純な引き出しおよび導入が実行可能である。密閉位置では、それぞれの開口を使用して、プラント全体を換気する必要なしに装填アクションを変更することができる。有利には、前記ハウジングの平らな内壁に対してこのシールを適用することができ、必要な場合に前記構造体のフランジセクションに対して適用するためにこのシールをこの壁に配置することができる。
有利には、エアロック弁が、前記帯状基板を通すための開口と、この開口を閉じる弁体とを備え、前記弁体の閉位置を使用してさらに、基板スプールまたは支持体の交換の間、前記帯状基板を保持することができる。
本発明の目的の他の詳細および利点は、例示的な一実施形態の図面および以下の詳細な説明に基づいて理解することができよう。
図1は、連続加工プラントを含むハウジング1を示し、このハウジングは、詳細には示されていない手段によって排気することができる。このハウジングは1つの面に、フランジ3によって取り囲まれた大きな開口を特徴として有する(この図ではこの開口の内部が見えている)。図2および図3はこの主開口5の目的を示しており、この開口は、巻取りステーション10のための構造体12の導入および引出し、したがってこのプラント内での1回の加工ステップで加工される帯状体原料全体の導入および引出しを可能にする。前記フランジ3には周囲シール4が設けられている。
前記ハウジング1の下部領域には加工セットBしか示されていないが、加工セットBは例えば少なくとも1つのスパッタリングカソードを含む。バイパスシリンダおよび冷却シリンダは全て巻取り系の一部であり、前記構造体12に組み付けられている。図1には、より小径のいくつかのバイパスシリンダの位置が示されているが、見やすくするため図2および3にはこれらが示されていない。これらの図には2つのシリンダ、すなわち(上部の)巻取りまたは展開シリンダ17とその下に置かれた冷却またはコーティングシリンダしか示されていない。
図2は、引き出された位置にある構造体12を示しており、この位置状態では、プラント全体、すなわちハウジング1全体が換気されている。
図3は、構造体12がハウジング1の中に導入された、構造体12の稼動位置を示している。以下では、1つの巻取りステーションだけを説明するが、説明する巻取りステーションと同様の機能の第2の巻取りステーションも構築されている。図2および3ではこのステーションが、図を見る方向には、巻取りステーション/シリンダ17の陰に隠れているが、図1および5では見ることができる。
図2および3の切断線の軌跡は、複数の切れ目を有する点と線によって図1に示されている。図1の両巻取りステーション17間の分離壁は機能上必須というわけではなく、両巻取りステーションを互いに独立に換気しないときには最終的に省くことができる。図1は、前記ハウジング1と、その中に含まれシリンダが組み込まれた構造体12とを横切る断面を示している。
コーティングされる帯状基板は、展開シリンダ17からその下の加工ステーションBの中のコーティングシリンダに向かって導かれる。加工ステーションBがさらにさまざまなスパッタリングカソードを含むことができることは明らかである。続いて、前記基板は上向きに導かれ、(図1にも示されているように)巻取りシリンダによって受け取られる。
(巻取りステーション10の上方の)ハウジング1の上部内壁6には、通常は室カバー8で閉じられている少なくとも1つの開口7が設けられている。これは、周囲シール9によって安全に密閉された開口7を取り囲む内壁6の縁に設けられる。図1から分かるように、それぞれの巻取りステーションに対して、室カバー8およびシール9を有する別個の開口7が設けられている。
同じ平らな内壁6から、図示されていないポンプソケットの(室側の)内側開口も形成されている。
巻取りステーションが導入された位置にあるときに前記室カバー8を開くことができるようにするのが有効である。
支持体12は、巻取りステーション10に属する閉じられた板状ベース11を支持する。これはさらに、上部開口13と、上部開口を取り囲み、流体圧力によって優先的に膨らますことができる「活性」シール14と、閉じられた(抵抗)取付板15と、ベース11および取付板15にしっかりと取り付けられた基板スプールまたはベールのための2つのソケット16と、前記ソケット16に回転可能に適用された基板スプール17とを備える。下に設けられたコーティングシリンダは、展開シリンダとは独立に、特定の取付ソケットに取り付けられる。
シール14は、開口13を取り囲むフランジ上に設けられている。動作のために必要な流体圧力接続は、図を簡単にするために示されていない。活動的に使用されていないとき、前記シールは、機械的損傷から安全に保護するため、優先的に、前記フランジの周囲みぞの中に置かれる。
ベース11および取付板15は、構造体12の閉じられた1つの側壁を構成する。構造体12の上部セクションは全体として、前記基板スプール17を取り囲む実質的に閉じられた室を形成し、前記室へは開口13からしかアクセスできない。
図3は、ハウジング1の中に構造体12が導入された後に膨張され、開口13の周囲の前記ハウジングの内壁6と並置された位置にあるシール14の機能上の詳細を示す。さらに、前記巻取りステーション10の最終位置ないし稼動位置で、板状ベース11の縁が、ハウジング1の前記開口5の周囲のフランジ3に着接し、開口を閉じ、その内面がシール4に対して押し付けられることも分かる。したがって、前記開口5はぴったりと閉じられ、この位置でベース11は前記ハウジング1の1つの壁を構成する。
図3は、前記カウンタプレート15の下に、必要な場合に前記構造体12すなわちその室をハウジング1の内側に支持することができるコンソール1Kを示している。この非常に単純化された図とは異なるが、このような支持体はさらに、ハウジング1の内側ならびにカウンタプレート15上のガイドレールまたは同様の装置の形態の対応するカウンタピースを構造体12に備えることができ、したがって、導入された状態だけではなく、それぞれの引出しおよび導入ステップの間もシリンダセット全体が支持される。
前記巻取りステーション10の構造体12の開口13は十分に大きく、したがって、開口13は、室カバー8を有する内壁6の開口7と重なり合うように配置される。その結果、膨張可能シール12は前記開口7も取り囲む。
この図とは異なるが、膨張した状態で構造体11の開口13を取り囲むフランジと並置させるために、基本的に、ハウジング1の前記内壁6の同じスポットにシール14を提供することもできる。
加工プラントを作動させる前、ハウジング1の内側に構造体12を適切に固定した後に、ポンプ(図示せず)による空気吸引によってハウジング1から排気する。シール14は、ハウジング1の平らな内壁6に対して適用することができ(密閉位置)、前記流体接続(図示せず)にわたって内壁6に圧力をかける。
とはいえ、前記加工プラントの通常動作の間、シール14を常に「活動化」しておく必要はない。ハウジング1は、巻取りステーションと加工ステーションの両方を包含し、したがってこれらは同時に排気されるからである。シール14は事実上、残りのハウジング1とは独立に巻取りステーション10だけを換気しようとするとき、すなわち室カバー8を開けようとするときにしか必要ない。
ハウジング1に対する巻取りステーション10の移動段階の間、すなわちプラントが稼動状態にないとき、例えば室カバー8を開いた後に単純に達成することができない保守または洗浄作業の間、または(巻取り室10を含む)ハウジング1全体が排気されたとき、前記シール14は膨らまされ(その内圧は中立化され)、またはより低い圧力にさらされる。結果として、シール14はその着座みぞの中に収縮し(収縮位置)、そこで摩擦および損傷から保護される。
図2と3の比較から分かるように、ハウジング1に対する構造体12の移動は巻取りステーション10の軸または基板スプール17の軸それぞれに対して平行である。
前記基板スプール17の下では、帯状基板17Sが、構造体12の中の展開ステーション10から下方へ、加工モジュールBの中に導かれている。巻取り室または巻取りステーション10の対応する開口は、エアロック弁18によって、前記ハウジング1および加工ステーションBに関してロックすることができる。前記エアロック弁は、前記可動構造体12の中に提供され、構造体12を開き、引き出す間に、それは、結果的にハウジング1から取り出される。
エアロック弁18は、ハウジング1全体を換気する必要なしに、巻取りステーション10の中に存在する基板支持体ないしスプール17を交換することを可能にする。後に説明するとおり、前記エアロック弁18は、その閉位置で、前記加工ステーションBを巻取りステーション10に対してすき間なくロックする。それは、前記帯状基板が接触せずにそこを通過することができる比較的に大きな自由横断面をプラントの稼動中に提供する静的な弁として設計される。
図4は別に、巻取りステーション10のある角度の図を示している。この図はさらに、巻取りステーションをハウジング1に関して変位させることなく室カバー8を開けた後に、基板スプール17を交換して、すなわち基板スプール17を持ち上げて新しい基板スプールを導入するのに、室カバー8によって閉じられたハウジング1の開口7が十分な大きさであることを示す。
この図では、基板スプール17から取り出すことができる可撓性基板17Sが、構造体12から、(少なくとも)1つのバイパスシリンダによって、やはり概略的にしか示されていないエアロック弁18を通して、巻取りステーションの下に設けられた加工モジュールBの中へ、どのように移されるのかを再びよく認識することができる。前記エアロック弁は構造体12にしっかりと取り付けられている。
したがってすでに述べたとおり、巻取りステーション10の構造体12は、共通ベース11と、取付板15と、前記エアロック弁18を受け取る開口を有する他の底部セクションと、この図では前記基板スプール17の右側と左側に見られる側壁とによって取り囲まれた室を形成する(図4および5)。
この室は、室カバー8によって閉じられた開口7を通して外部からアクセスすることができ、さらにそれが稼動状態にあるときには、前記加工プラントのハウジング1の内側にシール14によって密封される。
図4の巻取りステーション10の反対側、加工モジュールBの先(下方)に、同様の別の巻取りステーション(図示せず)が設けられており、これは、巻取りステーション10に関して鏡像位置にあると想像することができ、その中に封入された基板スプールをハウジング1から開口を通して取り出し、最終的には交換することができる。
巻取りステーション10を互いに独立に開き、換気することができ、すなわち一方のユニットを換気している間、もう一方のユニットを排気された状態に維持することができ(この場合、稼動させるためには当然ながら図1に示した分離壁が必要となる)、または、基本的に、両巻取りステーションを一緒に換気することができる。後者の場合、巻取りステーションは互いに対して別個に密閉する必要はない。
図1の原理に対応するこの第2の巻取りステーション10は、同じ構造体12に設けられており、したがって、巻取りステーション10に関して安定な位置を有する。その結果、シール14を開いた後に構造体12によって両方のユニットをハウジング1から一緒に取り出すことができる。
稼動中、前記エアロック弁18は、相当な圧力差、例えば大気圧と真空の間の圧力差を安全に排除することができる。
しかしそれはさらに、一方で自由な通行および基板フラックスを可能にするために、他方で、以前に加工された可撓性基板が完全にプラントから除去されたときに新しい基板の横断、すなわち新しい基板の導入を可能にするために、開くことができる。明らかに、弁の開口幅は、加工される基板のサイズ(特に幅)に合わせてある程度調整される。
最後に、知られている方法では帯状基板の末端セクションに新しい帯状基板を固定し、続いて、複雑な手動の導入手順に代わって、残った「古い」断片によって新しい帯状基板を導入し横切らせるために、エアロック弁18によって、仕上がった帯状基板の末端セクションを保持することができる。
したがって基本的には、前記国際公開公報WO99/50472A1に概説されているのと同じ方法でエアロック弁を設計することが可能と考えられる。しかし別の実施形態を使用することもできる。図5に基づいて例示的な一実施形態を概略的に説明する。
したがって、前記エアロック弁18は、展開ステーション10を完全に引き出すことなく基板スプールを交換する上記のオプションのために非常に重要である。エアロック弁18は、閉じた状態で、排気されている加工モジュールBを同様に換気することなく、前記室カバー8を開くことを可能にする。
図5は、コンパクトな共通の構造体12″の中の巻取りモジュール10’の中にタンデム配置の2つの巻取りステーションを含む、本発明に基づく加工プラントの他の実施形態を示す。この実施形態は、共通の室カバー8’を通して両方の基板スプール17にアクセスでき、そのためハウジング1に開口を1つだけ提供し、それを密閉すればよいという利点を提供する。さらに、この設計では、最終的にはより単純な方法で、両方の巻取りステーションに対して共通の周囲シール14を設けることができる。
さらに、両方のエアロック弁18を結合して、構築された1つのユニット18’を構成することができるが、基板セクションのそれぞれの引出しおよび導入に対して、特定の/独立した弁機能が提供されなければならないことは明白である。
最後に、図6は、本明細書で説明した連続ユニットの文脈で使用されることが好ましいエアロック弁18の一実施形態の断面を示す。前記エアロック弁18を横切る基板17S、および、より近い意味では、それによって閉じることができる(スリット状の)開口19が認められる。そのハウジングまたは構造の内側で、軸20を中心に、図示の閉位置と点線で表された開位置との間で回転するように取り付けられた円筒形の弁体21も前記弁18の部分である。それにもかかわらず、前記シリンダ体21は前記基板17S上で転がることができるが、加工プラントの連続運転では、前記弁体21が基板17Sと接触しないことが予見される。この点をはっきりさせるために、弁18が開いているときの前記基板17Sのおおよその軌道が点線で示されている。それにもかかわらず、排出される仕上げられた/コーティングされた基板セクションでは、プラント構成部品との摩擦接触をできる限り防がなければならない(知られているプラントでは、弁はしたがって、最小の空隙で時々提供されるだけである)。
弁体21に面し、開口19が終わるハウジングの内側の面が、前記開口の縁セクション(これは同時にシール面22の役目を果たしまたはシール面22として形成することができる)と閉位置に移された弁体21との間の基板17Sが、その過程で折り曲げられることなく動きがとれない状態に取り付けられるような方法で形成される。シール縁に向かって導かれる表面22は帯状基板面に向かって斜めに適用される。さらに、弁体21によって、最終的には中間位置の基板17Sによって閉じることができるシール面22は、開口19のところで(最終的には縁または表面シールとして軟かい弾性材料を使用して)、弁体21が基板と別個に強制的に適用されるのか、または基板と一緒に適用されるのかにかかわらず満足のいく密閉効果が保証されるように設計される。
前記エアロック弁18は、別個のモジュールとして構造体12または12’の中に提供されることが好ましい。このことは特に、互いに独立に動作することができる2つのエアロック弁を図4に示した1つの弁ブロックに融合する際にあてはまる。
すでに概要を説明したとおり、この実施形態は、一方で、基板がプラント内に残っているときに、加工モジュールBを排気された状態に維持したまま、前記巻取りステーション10または10’を換気することを可能にし、他方で、基板スプールの交換の後に、弁の中に固定された残った帯状体セクションによって新しい帯状基板を導入することができる。この目的のため、新しい帯状基板の最初のセクションが残った帯状体セクションに接着される。
本発明に基づく連続加工プラント全体の概略基本図(断面図)である。 図1を90度傾けた、巻取りステーションのための構造体が前記ハウジングから引き出された位置にある、同じ連続加工プラントの図である。 前記ハウジングの中に導入された構造体がその稼動位置にある、前記連続加工プラントの図2と同様の他の図である。 エアロック弁を有する巻取りステーション、構造体およびハウジングの側面図である。 巻取りおよび展開のための2つの巻取りステーションがタンデム配置で提供され、2つのエアロック弁が1つのユニットに統合された図3の変形を示す図である。 エアロック弁の好ましい一実施形態を示す図である。

Claims (14)

  1. 帯状体、箔、同様の単位体などの、通過する可撓性基板(17S)を加工、特にコーティングするための連続加工プラントであって、
    それぞれが前記可撓性基板を展開し、巻き取る巻取りステーション(10、10’)と、
    これらの2つのステーション間の基板通路に設けられた少なくとも1つの加工ステーション(B)と、
    それぞれが巻取りステーション(10、10’)と少なくとも1つの加工ステーションとの間に組み込まれ、前記巻取りステーションおよび少なくとも1つの加工ステーションに異なる圧力レベルを供するように設計された弁(18)と
    を備え、前記巻取りステーションが可動ベース(11)に設けられており、前記巻取りステーションを、例えば基板を交換するためにプラントから引き出すことができる連続加工プラントにおいて、
    −前記巻取りステーション(10、10’)と加工ステーション(B)とが、互いに可動の異なるベース内またはベース上に配置されており、加工ステーションのベースが固定されており、加工ステーションのベースが、前記加工ステーション(B)を取り囲み、稼動状態ではさらに前記巻取りステーション(10、10’)を取り囲むハウジング(1)の一部として設計されており、前記ハウジングが弁(18)を含み、
    −前記巻取りステーション(10、10’)が、そのベース(11)を含み、前記弁(18)によってロック可能な開口を特徴として有し、稼動状態では加工ステーションの前記ハウジング(1)に組み込まれる構造体(12)に設けられており、
    前記弁(18)の開いた状態では、前記加工ステーション(B)と巻取りステーション(10、10’)の両方を一緒に排気することができ、弁(18)の閉じた状態では、加工ステーションとは独立に前記巻取りステーションを換気することができる、
    ことを特徴とする連続加工プラント。
  2. 巻取りステーションの前記ベース(11)が前記構造体(12)の壁を構成し、基板支持体(17)のための少なくとも1つの支持体(16)を備えることを特徴とする、請求項1に記載の連続加工プラント。
  3. 巻取りステーションの前記ベース(11)が、プラントの稼動状態において、前記ハウジング(1)の少なくとも1つの壁セクションを構成することを特徴とする、請求項1または2に記載の連続加工プラント。
  4. 巻取りステーションの前記構造体(12)が、前記共通ベース(11)および取付板(15)、ならびにもう1つの壁およびエアロック弁(18)に面した開口を備えた側壁によって取り囲まれた室を形成することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の連続加工プラント。
  5. そのハウジング(1)が、巻取りステーションのための、室カバー(8)によってロック可能な少なくとも1つの装填および/または抜取り開口(7)を特徴として有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の連続加工プラント。
  6. ハウジング(1)の内側に構造体(12)があるときに、前記室の前記構造体(12)の開口(13)が、室カバー(8)によって閉じられた開口(7)の方を向き、前記室カバー(8)を開けた後に基板支持体(17)の交換を可能にするために、前記開口(7)に開口(13)が整列されていることを特徴とする、請求項4または5に記載の連続加工プラント。
  7. 前記開口(13)が、プラントの稼動状態において前記ハウジング(1)の内壁(6)と開口(13)の縁との間に適用することができるシール(14)によって取り囲まれており、前記シール(14)が、構造体(12)またはハウジング(1)の内側に設けられていることを特徴とする、請求項6に記載の連続加工プラント。
  8. 前記ハウジングの平らな内壁(6)に対してシール(14)を適用することができることを特徴とする、請求項7に記載の連続加工プラント。
  9. 流体圧力によってシール(14)を、(圧力にさらされた)密閉位置と(膨らまされまたは低い圧力にさらされた)収縮位置に優先的に制御することができることを特徴とする、請求項7または8に記載の連続加工プラント。
  10. シール(14)によって取り囲まれた領域内にプラントの排気への接続部が存在することを特徴とする、請求項7または8に記載の連続加工プラント。
  11. 巻取りステーション(10)の構造体(12)の内側に少なくとも1つのエアロック弁(18)が設けられていることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の連続加工プラント。
  12. 前記エアロック弁(18)が、基板(17)の通過のために提供された開口(19)をフレームのように取り囲むシール面(5)と、前記開口(19)を閉じる弁体(21)とを備え、前記シール面の縁セクションとの少なくとも間接的な並置によって前記弁体(21)が開口(19)を塞ぐように、前記シール面および/または開口(19)を貫いて延びる前記基板(17)に前記弁体(21)を押しつけることができることを特徴とする、請求項11に記載の連続加工プラント。
  13. 特にエアロック弁(18)の内側に固定された残りの帯状体セクションによって新しい基板の導入を支援するために、開口(19)の内側に弁体(21)によって前記帯状基板を取り付けることができることを特徴とする、請求項12に記載の連続加工プラント。
  14. 前記弁(18)が、別個のハウジングまたは構造体に別々にまたは一緒に配置され、構造体(12)の内側に取り付けられていることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか1項に記載の連続加工プラント。
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