UA71572C2 - Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття на вироби конденсацією із парової фази - Google Patents
Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття на вироби конденсацією із парової фази Download PDFInfo
- Publication number
- UA71572C2 UA71572C2 UA2001042220A UA2001042220A UA71572C2 UA 71572 C2 UA71572 C2 UA 71572C2 UA 2001042220 A UA2001042220 A UA 2001042220A UA 2001042220 A UA2001042220 A UA 2001042220A UA 71572 C2 UA71572 C2 UA 71572C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- coating
- chamber
- electron beam
- coating chamber
- coating material
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 187
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 170
- 238000005328 electron beam physical vapour deposition Methods 0.000 title abstract 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims description 30
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 11
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 18
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 11
- 239000012720 thermal barrier coating Substances 0.000 abstract 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 240000006108 Allium ampeloprasum Species 0.000 description 1
- 235000005254 Allium ampeloprasum Nutrition 0.000 description 1
- 229910000951 Aluminide Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000099147 Ananas comosus Species 0.000 description 1
- 235000007119 Ananas comosus Nutrition 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000616562 Danio rerio Sonic hedgehog protein A Proteins 0.000 description 1
- 101100061188 Drosophila melanogaster dila gene Proteins 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000159610 Roya <green alga> Species 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000010009 beating Methods 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical class [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
Abstract
Електронно-променевий пристрій (10) для нанесення покриття конденсацією із парової фази (ЕПНПКПФ) та спосіб його використання для нанесення покриття (наприклад, керамічного теплоізоляційного покриття) на виріб (20). Пристрій (10) ЕПНПКПФ взагалі включає покривну камеру (12), що функціонує в умовах підвищених температур та субатмосферних тисків. Електронно-променева пушка (30) проектує електронний промінь (28) в покривну камеру (12) та на розташований в ній покривний матеріал (26), розплавлюючи та випаровуючи його при цьому. Виріб (20) підтримується в покривній камері (12) таким чином, щоб пари покривного матеріалу (26) осаджувались на виробі (20). Продуктивність пристрою ЕПНПКПФ (10) збільшується за рахунок монтування в пристрої (10) тигля (56), який підтримує покривний матеріал (26) та має форму з можливістю охолоджуватись достатньо ефективно для зниження швидкості зростання робочої температури покривної камери (12).
Description
Опис винаходу
Ця заявка використовує пріоритет попередньої заявки на видачу патенту США за номером 60/147,235, 2 поданої 4 серпня 1999 року.
Цей винахід взагалі стосується електронно-променевого пристрою для нанесення покриття конденсацією із парової фази. Зокрема, цей винахід спрямовано на створення такого пристрою для нанесення покриття, з можливістю нанесення керамічних покриттів на деталі, наприклад теплоізоляційних покриттів на деталі із жароміцного сплаву газотурбінних двигунів. 70 Вищі робочі температури для газотурбінних двигунів постійно досліджуються для збільшення їх продуктивності. Однак, по мірі збільшення робочих температур термін дії деталей двигуна, що працюють в умовах високої температури, теж повинен відповідно збільшуватись. В той час, як були досягнуті значні переваги при застосуванні жароміцних сплавів на основі заліза, нікелю та кобальту, окремо жароміцні здібності цих сплавів часто неадекватні для деталей, визначено розташованих в газотурбінному двигуні, наприклад 12 такому двигуні, як камера згоряння та форсажна камера. Спільним рішенням є виконання теплової ізоляції таких деталей для мінімізації їх робочих температур. З цією метою широке застосування знайшли теплоізоляційні покриття (ТІП), нанесені на зовнішні поверхні деталей, що працюють при високих температурах.
Для ефективності теплоізоляційні покриття (ТІП) повинні мати низьку теплопровідність та легко приставати до поверхні деталей. Застосовуються різні керамічні матеріали як ТІП, зокрема, диоксид цирконія (20 5), що стабілізується окисом іттрія (У 203), магнезією (МоО) або іншими окисами. Такі спеціальні матеріали широко застосовуються в цій галузі техніки, оскільки вони легко осаджуються при нанесенні покриття плазменим напиленням або конденсацією парової фази. Прикладом останньої є електронно-променеве нанесення покриття конденсацією парової фази (ЕПНПКПФ), при якому виробляється теплоізоляційне покриття, що має стовбурну зернисту структуру, підоснова якої має можливість розширюватись, не викликаючи при цьому пошкоджуючих с стресів, що призводять до скалювання, і цим підвищують допустимий рівень деформації. Прилипання ТІП до Ге) деталі часто в подальшому зміцнюється наявністю металевого з'єднувального покриття, такого як дифузійний алюмінід або стійкий до окислення сплав, такий як МОАТУ, де М це залізо, кобальт та/або нікель.
Способи виробництва ТІП шляхом ЕПНІКПФ взагалі включають попереднє нагрівання деталі до прийнятної температури для нанесення покриття та потім занурення деталі в нагріту покривальну камеру, в якій с підтримується тиск приблизно 0,005мбар. Вищих тисків уникають тому, що керування електронним променем є - важким при тисках вище приблизно 0,005мбар, при цьому помічається хаотичний процес при тиску в покривній камері вище 0,01Омбар. Крім того, вважають, що термін з дії нитки накалювання електронно-променевої пушки о буде знижено або пушку буде забруднено при тиску вище 0,005мбар. Деталь тримають поблизу із злитком о/р покривного керамічного матеріалу (наприклад, окисом цирконію, стабілізованим оксидом ітрію) та електронний промінь проектують на злиток таким чином, щоб розплавити поверхню злитка та виробити конденсат покривного - матеріалу для осадження на деталь.
Діапазон температур, в межах якого способи ЕПНІКПФ можна здійснювати, частково залежить від складу деталей та покривного матеріалу. Мінімально допустима робоча температура взагалі встановлюється для « забезпечення відповідного випаровування покривного матеріалу та його осадження на деталь, а максимально З допустима робоча температура взагалі встановлюється для уникнення пошкодження мікроструктури виробу. с Протягом всього процессу осадження температура в покривній камері продовжує рости за рахунок наявності
Із» електронного проміню та утворення розплавленого покривного матеріалу. В результаті процеси ЕПНІПКПФ часто починають виконувати при мінімально визначеній температурі та закінчують, коли температура покривної камери приблизно буде максимальною, з моменту досягнення якої покривну камеру, охолоджують та очищують для - 49 зняття покривного матеріалу, що осадився на внутрішні стінці: покривної камери. Сучасні пристрої ЕПНІПКПФ дозволяють вилучити покриті деталі із покривної камери та замінити попередньо нагрітими непокритими - деталями, не зупиняючи пристрій з метою створення безперервного режиму роботи. Безперервний режим роботи пристрою на протязі цього часу можна визначити терміном "кампанія" із більшою кількістю деталей, і-й належно вкритих протягом кампанії, що відповідає підвищеній продуктивності та економічній ефективності. -і 20 Виходячи із викладеного вище, зрозуміло, що існує потреба збільшити кількість деталей, що покриваються протягом однієї кампанії, знизити час, необхідний для введення та вилучення деталей із покривної камери, та їз знизити час, необхідний для проведення технічного обслуговування в пристрої між кампаніями. Однак, обмежені можливості прототипу цього винаходу часто призводять до відносно вузького діапазону прийнятних температур покриття, складності переміщення занадто гарячих деталей до покривної камери та із неї і також труднощів у 29 процесі виконання технічного обслуговування в сучасних пристроях ЕПНПКПФ. Згідно з цим для удосконалення
ГФ) пристроїв ЕПНІПКПФ та способів їх застосування постійно шукають нових осаджувальних покриттів, зокрема керамічних ,таких як ТВО. о Цей винахід спрямовано на створення електронно-променевого пристрою для нанесення покриття конденсацією парової фази (ЕПНІПКПФ) та способу використання цього пристрою для нанесення покриття 60 (наприклад, керамічного теплоізоляційного покриття) на виріб. Пристрої ЕПНПІКПФ згідно з цим винаходом взагалі включають покривну камеру, що функціонує в умовах підвищених температур (наприклад, принаймні 8002) та субатмосферного тиску (наприклад, в діапазоні від 107 до 5х10" мбар). Електронно-променева пушка використовується для проекції електронного променя в покривну камеру та на покривний матеріал, розташований усередині камери. Функція електронно-променевої пушки полягає в розплавленні та б5 випаровуванні покривного матеріалу. Крім того, в пристрій вмонтовано пристосування для підтримки виробу у середині покривної камери таким чином, щоб пари покривного матеріалу могли осаджуватися на виріб.
Згідно з цим винаходом продуктивність функціонування пристрою ЕПНІКПФ можна підвищити включенням або адаптацією однієї або декількох його властивостей та/або модифікацією способу його дії. Згідно із одним об'єктом винахід спрямовано на регулювання робочої температури завдяки наявності рефлекторів випромінення, що можуть пересуватися усередині покривної камери для збільшення або зменшення відбивального нагрівання виробів від розплавленого покривного матеріалу протягом покривальної кампанії.
Регулювання робочого тиску також є об'єктом даного винаходу, причому як відомо з практики за патентною заявкою США Реєстраційний Мо09/108,201, Кідпеу еї а). (передана тому ж уповноваженому агенту, що й даний /о винахід), робочий тиск може бути більше 0,010мбар при мінімальному впливі або його відсутності на функціонування та надійність електронно-променевої пушки та при мінімальних відхиленнях значень робочого тиску. Механічні та технологічні вдосконалення, спрямовані на виконання цього об'єкту винаходу, включають модифікації електронно - променевої пушки, покривної камери та способу спрямування та вилучення газів із пристрою. Крім того, перевагою цього винаходу є наявність форми електронного променя на покривному /5 матеріалі. Згідно із іншим переважним об'єктом винаходу для підтримки покривного матеріалу в покривній камері застосовується тигель, який переважно включає принаймні дві деталі, одна із яких оточує та утримує розплавлений покривний матеріал, а друга прикріплюється до першої деталі та оточує нерозплавлену частину покривного матеріалу. Обидві деталі утворюють між собою кільцевий канал, що щільно примикає до утворення розплавленого покривного матеріалу таким чином, щоб можна було досягти ефективного охолодження тиглю, 2о зменшуючи швидкість підвищення робочої температури усередині покривної камери.
Інший об'єкт винаходу спрямовано на обертовий магазин, що підтримує блок злитків покривного матеріалу під покривною камерою. Магазин індексується таким чином, щоб кожний блок із одного або більше злитків співпадав з апертурою (56) покривної камери (12) для послідовної подачі злитків у покривну камеру без переривання процессу осадження покривного матеріалу. с
Згідно із іншим переважним об'єктом винаходу пристрій включає поле індикації для спостереження за розплавленим покривним матеріалом усередині покривної камери. Для можливості фіксації занадто високих і) робочих температур усередині покривної камери поле індикації виконано рідинно-охолоджувальним та має стробоскопічний барабан з високою швидкістю обертання та ущільнювання магнітними частками для забезпечення високотемпературного вакуумного ущільнення стробоскопічного барабана. В іншому об'єкті цього с зо винаходу поле індикації забезпечує стереоскопічний огляд покривної камери, який можуть одночасно здійснювати один або більше операторів, затримуючи стереоскопічне бачення. -
Інші об'єкти та переваги цього винаходу будуть краще визначені в наступному детальному описі. ю
На фігурах 1 та 2 зображені, відповідно, план та вид спереду електронно-променевого пристрою для нанесення покриття конденсацією із парової фази, який використовують для осадження покривного матеріалу -- згідно із цим винаходом. ї-
На фігурах 3, 4 та 5 зображено поперечні перерізи по лінії 3-3 фігури 1 та пересувну платформу, яку застосовують згідно з одним об'єктом винаходу. На фігурах 6 та 7 більш детально, відповідно, зображено вид спереду та зверху поперечного перерізу переважних внутрішніх деталей покривної камери пристрою за фігурами 1 та 2. «
На фігурах 8 ти 9 порівняно форми спрямовуючих отворів електронно-променевої пушки згідно із прототипом ств) с та даним винаходом. . На фігурі 10 показано поперечний переріз тиглю, в якому розміщується злиток покривного матеріалу , а а електронний промінь проектується на поверхні тигля та злиток згідно із переважним виконанням цього винаходу.
На фігурі 11 зображено тигель фігури 10 в плані та переважні форми електронного променю на тигель та
ЗЛИТОК. -І На фігурі 12 зображено переважне розподілення інтенсивності форми електронного променя крізь поверхню злитка та тиглю, показаних на фігурах 10 та 11, відповідно. На фігурі 13 зображено переважне поле індикації - для спостереження за процессом усередині покривної камери пристрою, зображеного на фігурах 1 та 2. с На фігурах 14 зображено пульт керування для моніторингу та керування робочим процесом пристрою, 5р показаного на фігурах 1 та 2.
Ш- Пристрій 10 ЕПНПКПФ згідно із цим винаходом зображено в загальному вигляді на фігурах 1 та 2, а різні
Ге його деталі та відзнаки на фігурах 3-14. Пристрій 10 зокрема добре прилаштовано для осадження керамічного теплоізоляційного покриття на металеву деталь, призначену для експлуатації в несприйнятному термальному середовищі. Відомі приклади таких деталей містять сопла та лопаті турбін високого та низького тиску, кожухи, ов деталі камери згоряння, агрегати форсажної камери газотурбінних двигунів. Незалежно від того, що удосконалення, досягнуті цим винаходом, будуть надані описом процесу осадження керамічного покриття на (Ф, такого роду деталі, цей винахід можна застосовувати також для різних покривних матеріалів та деталей, що ка покриваються ними.
З метою ілюстрації цього винаходу пристрій 10 ЕПНІКПФ, показаний на фігурах 1 та 2, містить покривну бо камеру 12, пару камер попереднього нагрівання 14 та дві пари завантажувальних камер 16 та 18, розташованих так, що пристрій 10 має симетричну конфігурацію. Передні завантажувальні камери 16 розташовані на одній лінії із їх відповідними камерами 14 попереднього нагрівання, причому деталі 20, початково завантажені на грабельний механізм 22 в лівій завантажувальній камері 16, пересуваються в ліву камеру 14 попереднього нагрівання та, як показано на фігурі 1, в покривну камеру 12. При симетричній конфігурації пристрою 10, в той бе час як деталі 20, завантажені через передню ліву завантажувальну камеру 16, покриваються в покривній камері 12, друга партія деталей у передній правій завантажувальній камері 16 можуть попередньо нагріватись у правій камері попереднього нагрівання 14, третя партія деталей може завантажуватись у задню ліву завантажувальну камеру 18, а четверта партія деталей може бути вивантажена із правої задньої завантажувальної камери 18.
Отже, чотири стадії процесу можна виконувати одночасно за допомогою пристрою 10 ЕПНПКПФ згідно з цим винаходом.
Згідно з переважним варіантом виконання цього винаходу завантажувальні камери 16 та 18 монтуються до низькопрофільних пересувних платформ 24 таким чином, щоб завантажувальні камери 16 та 18 можна було вибірково вирівняти в одну лінію з їх камерами 14 попереднього нагрівання. Наприклад, при розташуванні передньої лівої завантажувальної камери 16 на одній лінії із передньою лівою камерою 14 попереднього 7/о нагрівання, щоб дозволити вставити деталі 20 у покривну камеру 12, задня ліва завантажувальна камера 18 відсувається від лівої камери попереднього нагрівання 14 так, щоб деталі могли одночасно завантажуватись та вивантажуватись із грабельного механізму 22 задньої завантажувальної камери 18. Крім того, кожна платформа 24 переважно має можливість пересуватись у позицію технічного обслуговування, в якій жодна із завантажувальних камер 16 та 18 не вирівнюватиметься в одну лінію із своєю камерою попереднього нагрівання 7/5 14 з метою створення доступу усередину завантажувальних камер 16 та 18 та камери 14 попереднього нагрівання для можливості їх очищення. Платформи 24 переважно підтримуються принаймні частково роликопідшипниками 44, вмонтованими в підлогу, хоча передбачено вживання і безліч інших підшипників. Кожна платформа 24 має низький профіль узвишшя (виступ над підлогою) не більше приблизно 2,5см із закругленим краєм (переважно 30 градусів від горизонталі), які разом практично виключають потенціал зчеплення оператора
З краєм платформи 24. Стаціонарні об'єкти навколо пристрою 10 переважно розташовують на відстані від країв платформ 24 для запобігання притискання оператора платформою під час зміни її положення. Як альтернативи до показаної конфігурації платформи, можна використовувати системи пересувних сегментів, які частково перекриваються або висуваються. Крім того, пересувні сегменти можуть ковзати під зафіксованою підвищеною платформою, оточуючи комплект її деталей. На закінчення окремі камери попереднього нагрівання можна сч об Встановити для завантажувальних камер 16 та 18 таким чином, щоб ці обидві камери та їх камери попереднього нагрівання були оточені пересувною системою платформ. і)
Як показано на фігурах 3-5, частина покривної камери 12 також переважно має конфігурацію, принадну для пересування відносно камери попереднього нагрівання 14 для того, щоб полегшити очищення середини камери 12 між покривальними кампаніями. Як видно на фігурі З, покривна камера 12 знаходиться у своїй робочій позиції с зо із полем 48 індикації, описаним більш детально нижче, вмонтованим в передню секцію камери 12. Як показано на фігурі 4, передня секція покривної камери 12 (а також магазин 102 із злитками, зв'язаний із покривною - камерою та описаний нижче) відсунута від решти деталей цієї камери 12 для можливості проходження ю пересувної робочої платформи 50, яка показана повернутою в робочу позицію на фігурі 5. В цій позиції робоча платформа 50 легко проходить усередину покривної камери 12. Показано, що платформа 50 з'єднана шарніром (787 52 з основою покривної камери 12, хоча передбачено застосування інших прийнятних структур. Платформа 50 ї- може мати конфігурацію, що відрізняється від показаної на фігурах 3-5, включаючи шарнірну сегментну конструкцію, товчкові диски та іншу запобіжну арматуру. Покривна камера 12, завантажувальні камери 16 та 18 та камери попереднього нагрівання 14 з'єднуються із клапанами (не показані), що створюють вакуумне ущільнення між цими камерами. Для максимізації розміру та кількості деталей 20, які можуть бути завантажені « між камерами 12, 14, 16, 18, клапани переважно мають мінімальний розмір приблизно 250мм, який значно з с більший, ніж попередньо прийнятий із практичних міркувань кваліфікованими фахівцями в цій галузі. За рахунок . того, що у покривних камерах 12, завантажувальних камерах 16 та 18 та камерах попереднього нагрівання 14 а повинен створюватись різний рівень вакуумного тиску та в деяких випадках вони пересуваються одна відносно другої , як було пояснено вище, клапани повинні мати здатність до численних циклів при відносно високому
Тиску. Розроблені ущільнення, принадні для цієї мети, відомі з рівня техніки і тому не обговорюються детально -І в цьому описі.
Посилаючись на фігури б та 7, покриття виконують в покривній камері 12 шляхом розплавлення та - випаровування злитків 26 керамічного матеріалу електронними променями 28, виробленими с електронно-променевими пушками З0 і сфокусованими на злитках 26. Інтенсивне нагрівання керамічного 5о матеріалу електронними променями 28 викликає плавлення поверхні кожного злитка 26, утворюючи ш- розплавлений керамічний матеріал, молекули якого випаровуються, конденсуються та осаджуються на
Із поверхнях деталей 20, виробляючи бажане керамічне покриття , товщина якого залежатиме від тривалості процесу покриття. Хоча на цих фігурах показано два злитки, в межі цього винаходу входить використання одного або більше злитків та їх випаровування за будь-який визначений період часу.
Покривні камери ЕПНІКПФ звичайно мають здатність підтримувати рівень вакууму приблизно 0,001мбар (приблизно 1х10ЗТор) або меньше. В прототипі до даного винаходу відкачується максимально 0,01Омбар, а
Ф, більш типово приблизно О,005мбар, для створення вакууму в покривній камері протягом процессу покриття; таке ко обмеження спричинено тим, що більш високий тиск, як відомо, викликає хаотичну дію ЕП пушки 30 та робить проблематичним регулювання електронних променів, припускаючи, що в результаті покриття буде другого бо Татунку. Крім того, можна з впевненістю сказати, що термін дії нитки накалювання пушки буде знижений або пушка буде забруднена при її експлуатації із значеннями тиску в покривній камері вище 0,005мбар. Однак, згідно із патентною заявкою США Мо09/108,201 Кідпеу еї аІ., що розглядається одночасно із даною та передана тому ж самому уповноваженому агенту, як і цей винахід, покривна камера 12 переважно експлуатується при більш вищих значеннях тиску, причому несподівано отримується керамічне покриття із покращеними 65 відшаруванням та протиударною стійкістю, а також прискорюється осадження покриття за рахунок більш високої швидкості випаровування злитків, ніж в прототипі.
Механічним насосом 31 можна відкачати покривну камеру 12, завантажувальні камери 16 та 18 та камери попереднього нагрівання 14 на попередній вакуум. Криогенний насос 32 відомого типу в даній галузі показано на фігурах 1 та 2, який застосовується як допоміжний при вакуумуванні покривної камери 12 до процесу
Випаровування. Крім того, на фігурах 1, 3, 4 та 5 показано дифузійний насос 34, відомий з рівня техніки, але модифікований дросельним клапаном 36 для регулювання робочого режиму насосу 34 згідно із цим винаходом.
Більш детально, дросельний клапан 36 активується між відкритою позицією (фігури 3) та закритою позицією (фігури 4 та 5), а також у проміжних позиціях. Переваги дросельного клапана 36 реалізуються, коли вакуум в покривній камері 12 підтримується на досить високому тиску, що застосовується згідно з цим винаходом. При 70 необхідності максимальної продуктивності робочого режиму дифузійного насосу 34 для вакуумування покривної камери 12 дросельний клапан 36 відкрито, як показано на фігурі 3. Для технічного забезпечення робочого процесу покривну камеру слід тримати при наміченому тиску (наприклад, О0,015мбар), настроюючи дросельний клапан 36 на пересування в попередньо визначену позицію дроселювання на деякій відстані від повністю закритої позиції, показаної на фігурах 4 та 5. Як показано на фігурі 1, окремі дифузійні насоси 38, подібно /5 оснащені дросельними клапанами (не показані), переважно застосовуються для вакуумування камер попереднього нагрівання 14, знов по причині того, що бажано підтримувати відносно високий тиск для виконання покриття згідно з цим винаходом. Механічні насоси 31 переважно включають з'єднання з детектором витоку 33 для виявлення витоку вакууму із системи з використанням гелію або іншого газу, який можна безпечно вводити через витоки в камерах 12, 14, 16, 18 або через з'єднане з ними обладнання.
Посилаючись знов на фігури 1 та 2, завантажувальні камери 14 та 16 взагалі мають повздовжню форму та обладнані завантажувальними дверми 40, через які завантажують деталі на грабельний механізм 22. Крім того, завантажувальні камери 16 та 18 обладнують прохідними дверима 42 до приводів (схематично показані на фігурі 1 позицією 46), які керують функціонуванням грабельного механізму 22. Точніше деталі 20, які підтримуються на граблях 22 , переважно обертаються та/або качаються в покривній камері 12 для сприяння бажаному сч ов розподіленню покриття по деталях 20. Прохідні двері 42 дозволяють оператору пристрою 10 швидко відрегулювати або перенастроен приводи 46 без втручання в робочий процес завантаження та вивантаження і) деталей із завантажувальних камер 16 та 18.
Посилаючись знов на фігури 6 та 7, внутрішній простір покривної камери 12 слід описати більш детально.
Для того, щоб вирішити вищезгадані проблеми стосовно керування електронними променями 28 та захисту ЕП с зо пушок ЗО при більш високих значеннях тиску, застосованих в цьому винаході, в процесі покриття були виконані певні удосконалення ЕП пушок 30 та покривної камери 12. Як видно на фігурі 6, гази - кисень та аргон вводять - в покривну камеру через вхід 54, розташований біля тиглів 56, що підтримують злитки 26 в покривній камері 12 ю та утримують в розплавленому стані керамічний матеріал, вироблений за допомогою електронних променів 28.
Швидкості потоків кисню та аргону індивідуально регулюють на основі наміченого робочого тиску та визначеного 87 парціального тиску кисню. Для зниження випадків коливання тиску в покривній камері час регулювання циклічної ї- реакції цих газів знижується шляхом фізичного розташування розподільчого клапана 58 для газів, який безпосередньо з'єднується із входом 54 одразу на виході покривної камери 12, як показано на фігурах 1 та 6.
Розташування розподільчих клапанів 58 так близько до покривної камери забезпечує несподіване значне покращення регулювання тиску, знижуючи коливання тиску в покривній камері 12 та знижуючи дислокації фокуса « та позиції електронних променів 28 на злитках 26. з с Для подальшого покращення фокуса та форми електронного променя ЕП пушки З0 відносно ізолюють від підвищеного тиску покриття в покривній камері 12 за допомогою конденсаційної бленди 52, яка уловлює з більшість надлишкового керамічного пару, що не осадився на деталі 20. Бленді 52 надана форма згідно з винаходом для визначення ділянки покриття деталей 20, в межах якої спеціально підтримується підвищений тиск, бажаний для виконання покриття. Для полегшення очищення пристрою між покривальними кампаніями -І бленда 52 переважно оснащена екранами 76 з можливістю її зняття та очищення за межами покривної камери 12. Переважно екрани 76 утримуються підпружиненими штифтами 78 замість нарізних кріплень для спрощення - вилучення екранів 76, якщо вони були вкриті шаром покривного матеріалу на прикінці кампанії. Хоча взагалі це с ускладнює процес, конденсаційна бленда повністю виймається та замінюється іншою блендою 52. Оскільки бленда 52 оточує деталі 20, як видно на фігурі 6, потрібна апертура 62 для кожного електронного променя 28
Ш- крізь бленду 52. Для сприяння здатності утримувати більш високий тиск в межах конденсаційної бленди, ніж в
Ге решта ділянках покривної камери 12, включаючи ділянки навколо ЕП пушок 30, апертури 62 переважно мають розміри, не більше необхідних для того, щоб пропустити електронні промені 28 крізь бленду 52. З цією метою апертури 62 переважно обрізають електронними променями в процесі настроювання пристрою 10 ЕПНІПКПФ ов так, щоб кожна апертура 62 мала площину поперечного перерізу, приблизно рівну площині поперечному перерізу форми електронного променя при перетині бленди 52. Для подальшої ізоляції ЕП пушок 30 від
Ф) підвищеного тиску в межах конденсаційної бленди 52 промені 28 проходять із їх відповідних пушок 30 крізь ка камери 64, утворені між внутрішніми стінками покривної камери 12 та конденсаційною блендою 52. Переважно дифузійний насос 34 має вхід поблизу та пневматично з'єднаний із кожною камерою 64. Через мінімальний бо розмір апертур 62 підвищений тиск в межах конденсаційної бленди 52 (досягнутий введенням кисню та аргону через вхід 54) поступає в камери 64 на значно зниженій швидкості для активізації дифузійного насосу 34 підтримувати тиск камер 64 нижче, ніж в межах конденсаційної бленди 52. Фігури 6, 8 та 9 ілюструють додатковий захист ЕП пушок 30 згідно з цим винаходом Як звичайно, ЕП пушки 30 оснащені вакуумним насосом 66, який підтримує значення тиску в межах пушок 30 на рівнях приблизно від 8 х107 до 8Х107 мбар, які значно 65 нижчі, ніж за межами пушок 30, тобто в межах покривної камери 12 ЕПНПКПФ згідно з цим винаходом , а також в межах покривних камер ЕПНПКПФ прототипу. Для підтримання таких низьких тисків електронні промені 28 треба пропустити крізь циліндричні отвори 68 до виходу із пушок 30, як показано на фігурі 6. На фігурі 8 зображено звичайну конфігурацію таких отворів 168. Для можливості настройки умов фокусування променів, наданих позиціями фокусів А, В та С променів 28, показаних на фігурі 8, отвір 168 має відносно великий діаметр та довжину, наприклад, приблизно ЗОмм та приблизно 120мм відповідно. Недоліком прототипу є зниження захисту тому, що такий великий отвір 168 змушує ЕП пушки 30 працювати в середовищі підвищеного тиску пристрою 10 згідно із цим винаходом. Протягом досліджень, що ведуть до цього винаходу, перевірка показала, що удосконалене керування умовами процесу створює можливість ідентифікувати оптимальну позицію фокусу променя (точка ЮО на фігурі 9) Потім була розроблена більш ефективна форма отвору 168 згідно з цим 7/0 Винаходом, показаного на фігурах 6 та 9, яка, як показано на фігурі 9, має менший діаметр та довжину, ніж у прототипі отвір 168 на фігурі 8. Переважний діаметр та довжина отвору 168 припускається приблизно 15 та 5Омм, відповідно, хоча оптимальні значення цих розмірів можуть змінюватись в залежності від значень тиску та фокусу, струму відхилень соленоїда та загальної геометрії.
Як зазначено вище, конденсаційна бленда 52 розташована навколо деталей 20 для мінімізації осадження 7/5 Керамічного матеріалу на внутрішні стінки покривної камери 712. Крім того, згідно із цим винаходом конденсаційна бленда 52 має визначену конфігурацію для регулювання нагрівання деталей 20, що необхідно для підтримки відповідної температури деталі протягом покривальної кампанії. Точніше бленда 52 оснащена пересувною відбивальною пластиною 72, яка випромінює тепло, емітоване розплавленими поверхнями злитків 26, зворотно на деталі 20. На початку першої кампанії, протягом якої температура покривної камери 12 відносно
Низька, відбивальна пластина 72 розташовується поряд з деталями 20 із активатором 74 для максимізації нагрівання деталей 20. По мірі підвищення температури в межах покривної камери 12 протягом наступного циклу відбивальна пластина 72 відсувається від деталей 20 (як показано в напіврозтині на фігурі 6) для зниження кількості випромінюваного тепла, відбиваючи його зворотно на деталі 20. Таким же способом деталі 20 можна більш легко піддавати відповідній температурі для нанесення покриття (наприклад приблизно 925"С) на початку сч
Кампанії, в той час як досягнення максимально допустимої температури покриття (наприклад, приблизно 1140") затримується для розтягнення до максимуму тривалості кампанії. Крім того, бленда 52 та відбивальна пластина і) 72 сприяють створенню більш рівномірної та стійкої температури покриття, і, таким чином, бажаної стовбурної гранульованої структури керамічного покриття на деталях 20. Для підтримання бажаного відносно високого тиску в межах конденсаційної бленди 52 в той час, коли відбивальна пластина 72 знаходиться в піднятій позиції, с
Зо показано, що водоохолоджувальний бандаж 75, оточуючий відбивальну пластину 72, послаблює потік газу між конденсаційною блендою 52 та пластиною 72 та цим знижує втрати тиску між блендою 52 та пластиною 72. -
Показані на фігурі 7 маніпулятори 77 простягаються в покривну камеру 12 крізь пропускний отвір у стіні ю камери, через кулькове шарнірне з'єднання. Маніпулятори 77 використовують для допоміжного регулювання нагріванням деталей 20, пересуваючи керамічні або вкриті керамічним матеріалом рефлектори 80 (показані як -- гранульований матеріал на фігурі 10) в напрямку тиглів 56 або від них протягом покривальної кампанії. ї-
Точніше, завдяки їх близькому розташуванню до тиглів рефлектори 80 знаходяться в умовах дуже високої температури протягом процесу покриття і тому випромінюють тепло наверх в напрямку деталей 20. Кількість тепла, випромінена рефлекторами 80, взагалі максимальна при найбільш близькому розташуванні їх до тиглів 56 і може бути знижена відсуванням рефлекторів 80 від тиглів 56. Рефлектори 80 переважно підтримуються на « рідинно-охолоджувальній пластині 81, яка не випромінює помітного тепла на деталі 20. В результаті рефлектори ше) с 80 можна використовувати в з'єднанні із відбивальною пластиною 72 для регулювання температури деталей 20, які покриваються в покривній камері протягом наступної кампанії. На початку циклу рефлектори 80 початково ;» розташовуються біля тиглів 56 для максимізації нагрівання деталей 20, а пізніше відсуваються маніпуляторами від тиглів 56 для зниження кількості випроміненого тепла.
Для витримки умов середовища покривної камери частини маніпуляторів 77 в межах покривної камери 12 -І переважно виконуються із жароміцного сплаву, наприклад, сплаву с нікелевою основою, наприклад, Х-15.
Замість гранульованого матеріала, рефлектори 80 можуть бути практично будь-якої форми та будь-якої - конфігурації. Наприклад, можна використати одну або більше пластин, вкритих відбивальним матеріалом. Для с зручності рефлектори 80 можуть бути відносно великими деталями, відрізаними від злитків із матеріалу, подібного до того, що наносять, хоча очевидно, що можна застосовувати і інші керамічні матеріали.
Ш- Як вказано вище, злитки 26 керамічного матеріалу підтримуються в межах покривної камери тиглями 56, що
Ге утримують керамічний матеріал в розплавленому стані, який створено електронними променями 28. Один із тиглів 56 показано більш детально на фігурі 10, де він має форму із трьох частин. Верхній елемент 82 із скошеною верхньою поверхнею 84 збирається із нижнім елементом 86, утворюючи між собою охолоджувальний в Канал 88, крізь який проходить вода або інший принадний охолоджувач для підтримки температури тигля 56 нижче температури плавлення матеріалу, з якого він виготовлений. Крім того, показана на фігурі 10 (Ф, обмежувальна пластина 90, товщина якої вибирається для зміни, наприклад, зниження площини поперечного ка перерізу пропускного каналу 88 між входом 92 охолоджувача та виходом 94. Із міркувань теплопровідності переважним матеріалом тигля може бути мідь або мідний сплав, що створює необхідність того, щоб швидкість бо проходження охолоджувача крізь пропускний канал 88 була достатньою для підтримання температури стінки тигля 96, найближчої до розплавленої частини злитку 26, значно нижчою, ніж температура розплавленого керамічного матеріалу. Як очевидно з фігури 10 та з наступного опису, а також з фігур 11 та 12, електронний промінь 28 переважно проектується на скошену поверхню 84, а також на злиток 26. Отже, для адекватного охолодження зовнішньої поверхні верхньої деталі 82 товщина стінки 96 повинна бути мінімальною для сприяння 65 проходження тепла, не впливаючи негативно на механічну міцність тиглю 56. Багатоелементна конфігурація тиглю згідно з цим винаходом спрощує виготовлення його оптимальної форми для створення охолоджувального пропускного каналу 88, а також для можливості виготовлення стінки 96 з допустимою непроникністю (щільністю).
В той час як оптимальна форма залежить від багатьох факторів, переважна швидкість охолоджувального потоку коливається в межах приблизно від п'яти до пятидесяти галонів в хвилину (приблизно від двадцяти двох до
ДВОХСОТ літрів за хвилину), при використанні потоку води при тиску приблизно від двох до шести атмосфер крізь пропускний канал 88, площина поперечного перерізу якого становить приблизно 400мм 7 та максимальна товщина стінки, що примикає до поверхні 84, приблизно дорівнює 1Омм, а стінки, що примикає до злитків 26, - 7мм. На фігурах 11 та 12 показано переважну форму електронних променів 28, спрямованих на злитки 26 для утворення розплавленого керамічного матеріалу. Як видно із фігур 10 та 11, промінь 28 додатково проектується 70 на ту частину поверхні 84 тиглю, що одразу оточує весь злиток 26 периметром променя на поверхню 84 тиглю.
На фігурі 12 показано переважне розподілення потужності 98 електронного променя 28, яке має піки поблизу місць з'єднання злитка із тиглем та спади або відсутність потужності променю, спрямованого в центр злитка 26.
Згідно із цим винаходом, перевага відведення такої високої інтенсивності променю від центру утворення розплавленого керамічного матеріалу полягає в зниженні тенденції розпліскування, яке взагалі наступає, коли 75 Краплі розплавленої кераміки виштовхуються із даного утворення протягом нагрівання. Таке розпліскування пов'язане із неправильним виконанням процесу покриття деталей 20, якого слід уникати. Проектування променя 28 на тигель 56 служить для зниження шару керамічного матеріалу, що міг би в разі такого виконання зібратись на тиглі 56 через розпліскування, і для забезпечення більш рівномірного розподілення температури по площині розплавленого керамічного матеріалу, як визначено інфрачервоним відображенням. При використанні 57 як 2о матеріалу для злитків принадні піки інтенсивності променя, показані на фігурі 12, мають значення порядку приблизно 0,їкВт/мм2 у порівнянні із мінімальним рівнем приблизно 0,01кКВт/мм 2 в центрі утворення розплавленого керамічного матеріалу.
Крім того, на фігурі 10 показано, що електронний промінь 28 падає на поверхню злитку 26 під непрямим кутом так, щоб встановити відносно його ЕП пушки 30 проксимальну точку перехрестя 100 та розташовану с протилежно периферичну точку перехрестя 101 із тиглем 56 по периметру форми променя. Як показано на о фігурі 11, переважна інтенсивність форми променя на злиток 26 та тигель 56 злегка зменшується, переважно від 3095 до 7095 відносно решти периметру форми променя, в місцях на тиглі 56, відповідних проксимальній та периферичній точкам 100 та 101 перехрестя. Метою зниження інтенсивності форми променя в проксимальній точці перехрестя 100 є зниження ерозії тиглів 56 від променя 28, тоді як показано, що зниження інтенсивності Ге променя в дистальній точці перехрестя 101 знижує висоту хвиль від променів 26, спрямованих на утворення з розплавленим керамічним матеріалом для уникнення перетікання розплавленого керамічного матеріалу через ге край тиглю 56. Іншою переважною відзнакою керування електронним променем 28 згідно з цим винаходом є ІС о) здатність тимчасового переривання форми променя на поверхні тиглів 56 окремою формою високоінтенсивного променя 97, призначеного для досягнення більш високої швидкості випаровування з невеликої ділянки, щоб - випарити будь-яку кількість керамічного матеріалу , що може осаджуватися на тигель 56 в результаті ї- розпліскування. Ця відзнака даного винаходу може бути реалізована при виконанні покриття з мінімальним або без негативного впливу на процес його нанесення. В переважному виконанні, коли оператор починає виконувати відхилення окремої форми 97 для випаровування накопиченого шару кераміки на тиглі 56, форма 97 спочатку « автоматично переміщується у нову позицію, із якої цю форму 97 можна механічно пересувати під наглядом оператора в напрямку накопичення. При автоматичному повертанні форми 97 у нову позицію вірогідність - с помилок, що можуть призвести до пошкодження тиглю, знижується. Альтернативно позицію форми 97 можна а перепрограмувати таким чином, щоб оператор міг увійти в місце на тиглі 56, на яке треба спроектувати промінь "» 97. Накопичення керамічного матеріалу на тиглі 56, яке важко вилучається формою 97, можна вилучити маніпулятором 77, як показано на фігурі 7.
Магазини 102, що вміщують в собі та подають злитки 26 через основу покривної камери 12 та в тиглі 56, -і можна побачити на фігурах 1-7. Як чітко показано на фігурах 2, б та 7, кожний магазин 102 має ряд - циліндричних каналів 104, в яких утримуються злитки 26. Магазини 102 обертаються до відмічених позицій злитків 26, що співпадають з позиціями тиглів 56. Крім того, магазини 102 можуть пересуватись в 1 прямолінійно-зворотному напрямку один до/від одного (тобто убік відносно стінок покривної камери 12) для - 50 виконання регулювань відокремлення тиглів та оптимізації цим зони покриття, над якою відхилення товщини покриття знаходяться в допустимих межах. Механізми подачі, які використовують для захвату та подачі злитків що) 26 у тиглі 56, взагалі включають рукоятки захвату 60, кожна з яких розташована під кутом до горизонталі та прилаштована для утримання випарювального злитка 26 у визначеному місці при наміченому обертанні магазину 102. Верхній кінець кожної рукоятки 60 зачіпляє випарювальний злиток 26 у верхньому напрямку підйомним пристроєм 61, не дозволяючи рукоятці захвату 60 ковзати вниз в напрямку горизонтальної позиції, що, як визначено, спричиняє заклинювання механізму подачі. Згідно з даним винаходом кожний магазин 102 о послідовно вирівнює наступний злиток 26 з нижнім кінцем злитку 26, що випаровується, в межах тиглю 56, а іме) підйомний пристрій 61 подає наступний злиток 26 в покривну камеру 12 ззаду злитка 26, що випаровується, без або з мінімальним перериванням осадження керамічного матеріалу на деталі 20. Поле індикації 48, яке було 60 згадано при посиланні на фігури 3-5, показано більш детально на фігурі 13. Поле індикації має таку конфігурацію, яка дозволяє оператору пристрою 10 слідкувати за процесом покриття, включаючи деталі для покриття, за утвореннями з розплавленим керамічним матеріалом, рефлекторами 80 навколо тиглів 56 та маніпуляторами 77 для пересування рефлекторів 80. Як показано, поле індикації 48 взагалі є огорожею, що включає пластину 106 з рідинно-охолоджувальною апертурою та, при необхідності, з вікном 108 із сапфіру для 65 витримування високих температур (грубо 800" та більше) поблизу процесу покриття. Показано, що захисний газ спрямовано на апертурну пластину 106 крізь прохідний канал 110 для мінімізації осадження покриття на вікно
108 або обладнання за апертурною пластиною 106. В межах поля індикації 48, обертовий стробоскопічний барабан 112 служить для мінімізації дії випромінювального тепла, світла та іншого опромінення із покривної камери 12 на оглядове вікно 114. Згідно із відомою практикою стінка барабану 112 має отвори 116 і барабан обертається із високою швидкістю для уникнення мелькання перед очима оператора. Вікно 114 переважно зроблено із багатогранного кварцового скла, свинцевого скла та/або кольорового скла. Кварцове скло забезпечує фізичну міцність, свинцеве скло - захист від рентгенівських променів та кольорове скло використовують для зниження інтенсивності світла. Крім того, поле індикації 48 включає ущільнення магнітними частками, яке забезпечує високотемпературне вакуумне ущільнення для стробоскопічного барабану. Іншою /о переважною відзнакою є те, що поле індикації забезпечує стереоскопічний огляд внутрішнього простору покривної камери 12, який можуть виконувати один або більше операторів одночасно, зберігаючи глибину сприйняття.
На фігурі 14 показано переважний пульт 118 керування для керування та моніторингу пристрою ЕПНІПКПФ згідно з цим винаходом. Показано, що пульт 118 керування відображає схематику пристрою 10 та його деталей, /5 Включаючи вказівники 120 для окремих деталей (наприклад, покривна камера 12). Крім того, показані візуальні індикатори 122, розташовані суміжно із індикатором 120 для індикації робочого стану компонентів, та вимикачі 124 для зміни дії відповідних компонентів. Навколо пульта розташовані контрольно-вимірювальні прилади для підрахування параметрів процесу, наприклад, тиску. Використовуючи пульт 118 керування, інформація про робочий стан пристрою ЕПНІКПФ може бути негайно та точно занотована і дозволить оператору внести необхідні поправки в пристрій 10 та в процес покриття. В робочому режимі пристрій 10 згідно з цим винаходом може мати початковий вигляд, як показано на фігурах 1 та 2. Як обговорювалось вище, деталі 20, що призначені для покриття, завантажують на грабельний механізм 22 в завантажувальних камерах 16 та 18. Деталі 20 можуть бути виготовлені із будь-якого принадного матеріалу, наприклад, із жароміцних сплавів на основі нікелю або кобальту, якщо деталі 20 - це лопаті газотурбінних двигунів. У випадку лопатей газотурбінних двигунів перед сч г покриттям за допомогою пристрою 10 на поверхні деталей звичайно наносять зв'язувальне покриття типу грунтовки відомого складу, як було описано раніше. Крім того, для нанесення керамічного покриття ТІП поверхню і) зв'язувального покриття переважно шліфують піскоструминним апаратом для її очищення та виробляють оптимальну поверхню, необхідну для нанесення стовбурних керамічних покриттів ЕПНІКПФ. Крім того, до нанесення керамічного покриття на зв'язувальне покриття слід утворити окалину глинозему при підвищеній с зо температурі для сприяння адгезії покриття. Окалина глинозему, яку часто відносять до термально зростаючих окисів або ТО, утворюють шляхом окислення зв'язувального покриття з вмістом алюмінію, піддаючи або - підвищеним температурам до або протягом нанесення керамічного матеріалу, або тепловій обробці за ю спеціальною методикою. Згідно з цим винаходом деталі 20 переважно попередньо нагрівають до температури 11007С в атмосфері аргону. У разі невиконання попереднього нагрівання деталей 20 камера попереднього -- нагрівання 14 переважно тримає температуру 600"С для мінімізації температурного діапазону, якому камера 14 ї- піддається під час покривальної кампанії.
Після попереднього нагрівання в камері попереднього нагрівання 14 грабельний механізм 22 входять далі в покривну камеру 12. Як було сказано вище, пристрій 10 згідно з цим винаходом має особливу конфігурацію для нанесення керамічного покриття в умовах підвищеного тиску за визначенням Кідпеу еї а). До початку процесу « покриття переважно виконують швидку перевірку вакууму для обстеження рівня відкачування та тиску, в с створеного в середині кожної з камер: покривної 12, завантажувальних 14 та 16 та попереднього покриття 18 протягом встановленого періоду часу. Виконання такої перевірки служить для визначення вакуумної цілісності ;» пристрою, яку виконували в процесі ЕПНІПКПФ шляхом проведення тесту окислення на дослідній установці, як зазначено в прототипі. Камери 12, 14, 16 та 18 вакуумували механічними насосами 31 під атмосферним тиском та потім включали повітродувку при падінні тиску приблизно до 20мбар. Криогенний насос 32 переважно -І включають, коли тиск досягає приблизно 5х10 мбар. Після цього включають дифузійні насоси 32 та 34 для - камер покриття 12 та попереднього нагрівання 14, коли тиск досягає приблизно 5 х10 "мбар. Значення робочого тиску в завантажувальних камерах 14 та 16 та камері попереднього нагрівання 18 приблизно досягають о 1033-10 мбар, причому принадні значення робочого тиску складають приблизно від 102 до 5Х10 "мбар в -І 50 ділянці покриття , визначеній блендою 52. Двохелементний іонізаційний манометр 55, забезпечений механічним відсічним клапаном 57, переважно використовують для вимірювання вакуумного тиску в покривній камері 12. із Користуючись манометром 55 із незалежно діючими елементами, можна застосовувати будь-який елемент, не перериваючи процес покриття. Альтернативно можна підключити два іонізаційні манометри, розділені клапаном, з можливістю включення будь-якого з них, не перериваючи процесу покриття. В переважному виконанні цього 29 винаходу кріогенний насос 32 переважно включають до дифузійного насосу 34, в протилежність відомій практиці, (ФІ де обидва насоси 32 та 34 звичайно одночасно включають для зменшення шару льоду на кріогенному насосі 32.
Включаючи кріогенний насос 32 перед дифузійним насосом 34, було виявлено , що при цьому значно о зменшується час, необхідний для досягнення значень тиску в покривній камері, бажаних для виконання цього винаходу. При тому, що включення кріогенного насосу 32 до дифузійного насосу 34 спричиняє нашарування бо льоду на кріогенному насосі 32, цей лід можна зняти в кінці покривної кампанії або в будь-який зручний час.
Під час процесу покриття електронні промені 28 фокусуються на злитках 26, утворюючи цим розплавлений керамічний матеріал та пари, що осаджуються на деталі 20. При можливості використання різних покривних матеріалів переважними керамічними матеріалами для електронно-променевого покриття (а саме, злитки 26) можуть бути окис цирконію (2705), частково або повністю стабілізований окисом ітрію (наприклад, 3-20905, бо переважно 4-8956 М2О3), хоча можна застосовувати і ітрій, стабілізований окисами магнію, церію, кальцію,
скандію або іншими окисами. Процес покриття продовжується до утворення бажаної товщини покриття деталей 20, після чого деталі 20 переміщуються через камеру 14 попереднього нагрівання у завантажувальну камеру 16, після чого відкриваються вентиляційні отвори для піддання її природній вентиляції. Вентиляційні отвори мають діаметр принаймні ЗОмм для збільшення швидкості вентиляції, але взагалі не більше, ніж бомм в діаметрі для запобігання проникнення пилу та іншого забруднення в камери 12, 14, 16 та 18. Для цього бажано спочатку провентилювати крізь отвори, застосовуючи клапан маленького діаметру, а потім більшого діаметру.
Не дивлячись на те, що цей винахід було описано на базі переважних варіантів виконання, очевидно, що спеціаліст у цій галузі може застосовувати інші варіанти. Відповідно обсяг винаходу слід обмежувати тільки /о наступною формулою винаходу. 10------- 5-4 ЩО 3. що -4 з я з зу з ву юя ФРМ.ри у «ЕН -----ААА ЩІ ИХ АЗК ОД 6 5
Ді іон пінних МИЖИЙ М - ї дл 3 Де п! МАВ, ОСА т. 2 ее Ме М І 2 я шк ЕТ я | ММ У ПоОЖОБО Ткееніяня Діла 4 з ЕЕ Я Інееке ян 6 м.42 40 022 404 КК 4
Пе. во у (т) з 19
З 12-13 чогрре(ум з в І 5» Ф. а
ІЙ г з м 44 44. ще 3-ї . с
Фіг. щі 6) 10-- у 50. 12 12, у;
З |. 32 42 16-- ме» ПІДУ 16 2 сч г 'Н ВАХ 7 В 7 00000 м де зо» ----- Гени А, 44 м зе-КТНІ Є - м 44 че що точ,
ЩІ, ю 102. «-
Фіг 2. м. 12- 48- Й -т І
Те « ее не І 7 те щ с чне 10; 34 . и?
ЗО. -і - п Фіг 3. - і 27 І 485 ет го Ї - 363
ШЕ -БЗБЗ-65 5 3; ши 90 52 ря Ст
Б.-І | м м
ГФ) ШИ 102 іме) 60 Фіг 4. б5 в 12. ; З і
І
; шо Й -ї
І жи ЩІ ше з я-4--------.
Б юю
Фіг 5. л- Й (Ен-то 3зо-| ЛК вв | " Ото Дю от Й с 7 вві, ЗО ве ей ВЛ спліт) І ії й й Ї -64 ее Й Х во | Ми ДО тер в са 78: ей БИ а щі х Й / ний 5271 хе ТИВ у ! х м р-52
Д ее
Ї мк ех ди ! 7в Зк є З 78 50 Б! 04 роя, ши 77777777 см 5 | в та Щ о
Й - і | бі с зо Фіг 6. 12-- й
ВИ ІС о) --02 В 097, й с-их ви ся | 27 й. не и х у х 104. ,-56 56 / 104 , ду 1 М стрчннтиня т, КУ і. 26 7 Що З с п/ хи и 7 7 Її хз» и я в т -І Я, і 79 7в шк о -1 50 що)
Фіг. 7 ко бо б5
| ЇЇ і в шо ПК
Й Ії ЇЇ Й о
Фіг. 8 пРототиц сч я | | Що ;
Що
ЗІ
В о фіг. 9 ни ра на й | , м ст БА мо са р о ХГ | з хх "7 ей М | | й "7
Фіг 10. дтп
ІК
98 ук Що ад 97- / й М сч вв | А о
Ши сч
Кк во І в) - іг.11
Фіг - ї 98 26 гай в « їх ші с Е ;» ВІДСТАНЬ -І т і. 12
Фіг. сл ріг ; - 70 я овінннкя я п) т денне, а ик. з у ще р х (Ф, ; е У 4: М клдррилтя КИ бо Еш" ;
Фіг 13. 65
А ' ШИ 72122 ЩІ й 122 в НН с ще ід Тит шій ГО бір ГІ: 22 11
Е порей є МЕ ал ; сор ее ВА ері р н ПІНА свя в у ор в и: кв шен й по,
С.І М во плете, дім чаш лі ше зни о Пиши МашЕНИ "ЕЕ тя кі боб дв! | Б а! Трач ВЕ ві в її Ї. т5 5 ТД трону лайки ШИ тер Р ов Ї
М у т хи дн 2
Шен:
Ах "лег уогоорвєтетЬ с Ї -АНЯН пр порт сч
Ж , ' (я с----тт т; ЩА о с1 767574737271 70696867 55 65 БІ 6362 61 60 59 58 57 56
Фіг. 14 с
Claims (1)
- Формула винаходу м1. Електронно- променевий пристрій (10) для нанесення покриття на вироби (20) конденсацією із парової юю фази, який включає: покривну камеру (12), що містить покривний матеріал (26), причому покривна камера (12) -- функціонує в умовах підвищеної температури та субатмосферного тиску, електронно-променеву пушку (30) для проектування електронних променів (28) на покривний матеріал (26), розташований в покривній камері (12), - тигель (56), який підтримує покривний матеріал (26) усередині покривної камери (12) та має першу деталь (82), що оточує та утримує розплавлений покривний матеріал (26), та другу деталь (86), яка прикріплюється до першої деталі (82) та оточує нерозплавлену частину покривного матеріалу (26), причому перша та друга деталі « (82, 86) тиглю (56) визначено утворюють між собою кільцевий охолоджувальний прохідний канал (88), та засоби З т0 (22) для підтримки виробу (20) в покривній камері (12) так, щоб пари покривного матеріалу (26) осаджувалися с на виробі (20). "з 2. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що перша деталь (82) тиглю (56) має стінку (96), яка нагрівається від електронного променя (28), визначає частину охолоджувального прохідного каналу (88) та має мінімальну товщину не більше 10 мм.З. Електронно- променевий пристрій (10) за п.1ї7, який відрізняється тим, що електронний промінь (28) - проектується на покривний матеріал (26) для визначення форми електронного променя на покривному - матеріалі, та пристрій (10) додатково включає засоби для утворення проекцій окремої форми електронного променя (97) на тигель (56) для випаровування з нього крапель розплавленого покривного матеріалу (26), і-й причому окрема форма електронного променя (97) має більшу інтенсивність, ніж форма електронного променя -І 20 на покривному матеріалі (26).4. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що додатково включає конденсаційну ї» бленду (52), розташовану в покривній камері (12), яка принаймні частково оточує підтримуючі вироби (20), засоби (22), причому конденсаційна бленда (52) має першу пластину (72), що відбиває тепло, розташовану в покривній камері (12) таким чином, щоб виріб (20), підтримуваний засобами підтримки (22), був розташований 22 між розплавленим покривним матеріалом (26) та першою відбивальною пластиною (72), яка має можливість ГФ) пересуватись між першою та другою позиціями відносно розплавленого покривного матеріалу, при цьому перша юю позиція розташована ближче до засобів (22) для підтримки виробів (20), ніж друга настільки, щоб піддати виріб (20), підтримуваний засобами підтримки (22), відбивальному нагріванню від розплавленого покривного матеріалу (26) більшою мірою при розташуванні першої відбивальної пластини (72) в першій позиції, ніж при її 60 розташуванні в другій позиції.5. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що додатково включає вихідний отвір (54), що примикає до розплавленого покривного матеріалу (26) в покривній камері (12), і служить для впуску газу в покривну камеру (12), та засоби (58) для регулювання швидкості потоку газу крізь отвір (54) в покривну камеру (12), які розташовані зовні покривної камери (12) але примикають до отвору (54) у середині покривної бо камери (12).6. Електронно-променевий пристрій (10) за п. 1, який відрізняється тим, що додатково включає: камеру попереднього нагрівання (14), розташовану суміжно із покривною камерою (12) для попереднього нагрівання виробу (20), підтримуваного засобами підтримки (22), до введення виробів (20) в покривну камеру, завантажувальні камери (16, 18), розташовані суміжно із камерою попереднього нагрівання та навпроти покривної камери (12), засоби (46) в завантажувальних камерах (16, 18) для пересування виробів (20) при їх розташуванні на засобах підтримки (22), перші двері (40) до завантажувальних камер (16, 18) для завантаження та розвантаження виробів (20) із засобів підтримки (22), та другі двері (42) до завантажувальних камер (16, 18) для пропуску пересувних засобів (46). 70 7. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що перша частина покривної камери (12) виконана із можливістю пересуватися між робочою позицією, яка є місцем з'єднання першої та другої частин покривної камери (12), та позицією технічного обслуговування, яка є можливим місцем їх роз'єднання.8. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що додатково включає принаймні два іонних сенсори (55) для визначення субатмосферного тиску в покривній камері (12), які діють незалежно для /5 Можливості селективного застосування одного із них, не перериваючи процесу покриття виробу (20)9. Електронно-променевий пристрій (10) за п.1, який відрізняється тим, що додатково включає принаймні один обертовий магазин (102), який підтримує блок злитків покривного матеріалу (26) під покривною камерою (12), і розташовує принаймні один із злитків на одній лінії з апертурою (56) покривної камери (12) для подачі злитків (26) в покривну камеру (12).10. Електронно-променевий пристрій (10) за п.9, який відрізняється тим, що магазин (102) виконаний з можливістю прямолінійного пересування під покривною камерою (12) для бічного розташування покривного матеріалу (26) в покривний камері (12). Офіційний бюлетень "Промислоава власність". Книга 1 "Винаходи, корисні моделі, топографії інтегральних сч об Мікросхем", 2004, М 12, 15.12.2004. Державний департамент інтелектуальної власності Міністерства освіти і науки України. і) с ча ІС) «- і - -с . и? -І - 1 - 50 Ко) Ф) іме) 60 б5
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14723599P | 1999-08-04 | 1999-08-04 | |
PCT/US2000/021263 WO2001011106A1 (en) | 1999-08-04 | 2000-08-03 | Electron beam physical vapor deposition apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
UA71572C2 true UA71572C2 (uk) | 2004-12-15 |
Family
ID=22520775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
UA2001042220A UA71572C2 (uk) | 1999-08-04 | 2000-03-08 | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття на вироби конденсацією із парової фази |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6589351B1 (uk) |
EP (1) | EP1121475B1 (uk) |
UA (1) | UA71572C2 (uk) |
WO (1) | WO2001011106A1 (uk) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6983718B1 (en) * | 1999-08-04 | 2006-01-10 | General Electric Company | Electron beam physical vapor deposition apparatus |
WO2004043691A1 (en) * | 2002-11-12 | 2004-05-27 | University Of Virginia Patent Foundation | Extremely strain tolerant thermal protection coating and related method and apparatus thereof |
GB0307745D0 (en) * | 2003-04-03 | 2003-05-07 | Microemissive Displays Ltd | Method and apparatus for depositing material on a substrate |
US20050092595A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Infineon Technologies Richmond, Lp | Ion gauge condition detector and switching circuit |
US7175888B2 (en) * | 2004-03-03 | 2007-02-13 | General Electric Company | Mischmetal oxide TBC |
DE502004009166D1 (de) * | 2004-05-25 | 2009-04-23 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Bandbehandlungsanlage |
US7838083B1 (en) | 2005-01-28 | 2010-11-23 | Sandia Corporation | Ion beam assisted deposition of thermal barrier coatings |
WO2007005832A2 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-11 | University Of Virginia Patent Foundation | Reliant thermal barrier coating system and related methods and apparatus of making the same |
US20080041314A1 (en) * | 2006-08-18 | 2008-02-21 | Robert William Bruce | Vaccum coater device and mechanism for transporting workpieces in same |
EP1932935A1 (de) * | 2006-12-05 | 2008-06-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung einer Turbinenschaufel mit einem Oxid auf einer metallischen Schicht, eine Turbineschaufel ,Verwendung einer solchen Turbinenschaufel und ein Verfahren zum Betreiben einer Turbine |
US20100247952A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-09-30 | Latour Robert F | Controlled oxidation of bond coat |
US8350180B2 (en) * | 2010-03-12 | 2013-01-08 | United Technologies Corporation | High pressure pre-oxidation for deposition of thermal barrier coating with hood |
US20110223354A1 (en) * | 2010-03-12 | 2011-09-15 | United Technologies Corporation | High pressure pre-oxidation for deposition of thermal barrier coating |
DE102010017896A1 (de) * | 2010-04-21 | 2011-10-27 | Ald Vacuum Technologies Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von Substraten nach dem EB/PVD-Verfahren |
DE102010017895A1 (de) * | 2010-04-21 | 2011-10-27 | Ald Vacuum Technologies Gmbh | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten nach dem EB/PVD-Verfahren |
US8337989B2 (en) | 2010-05-17 | 2012-12-25 | United Technologies Corporation | Layered thermal barrier coating with blended transition |
US9581042B2 (en) | 2012-10-30 | 2017-02-28 | United Technologies Corporation | Composite article having metal-containing layer with phase-specific seed particles and method therefor |
CN104630718A (zh) * | 2013-11-13 | 2015-05-20 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 一种五腔体全自动电子束沉积系统 |
TWI513839B (zh) * | 2013-12-12 | 2015-12-21 | Nat Inst Chung Shan Science & Technology | An apparatus and method for improving sublimation deposition rate |
US10889895B2 (en) | 2014-06-12 | 2021-01-12 | Raytheon Technologies Corporation | Deposition apparatus and use methods |
US20160281212A1 (en) | 2015-03-24 | 2016-09-29 | Siva Power, Inc. | Thermal management of evaporation sources |
US20170144181A1 (en) | 2015-11-23 | 2017-05-25 | United Technologies Corporation | Tooling for vapor deposition |
US20170218505A1 (en) | 2016-02-03 | 2017-08-03 | United Technologies Corporation | System and Method for Low Thermal Shock-Fast Cooling of Thermal Barrier Coating |
JP6595421B2 (ja) * | 2016-08-24 | 2019-10-23 | 東芝メモリ株式会社 | 気化システム |
DE102017100507B4 (de) * | 2017-01-12 | 2021-11-25 | Ald Vacuum Technologies Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung von Werkstücken |
EP3508611B1 (en) * | 2018-01-04 | 2023-03-15 | Raytheon Technologies Corporation | Metallic coating process for combustor panels using a barrel configuration |
DE102018108726B4 (de) | 2018-04-12 | 2019-11-07 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Elektronenstrahlverdampfer und Verfahren zum Verdampfen eines Verdampfungsguts mittels eines Elektronenstrahls |
DE102018117130A1 (de) * | 2018-07-16 | 2020-01-16 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Beschichtungsanordnung und Verfahren |
RU2702537C1 (ru) * | 2018-08-23 | 2019-10-08 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН") | Способ оперативной оценки результатов электронно-пучкового термического воздействия на объекты в вакуумной камере |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3590777A (en) * | 1969-03-13 | 1971-07-06 | United Aircarft Corp | Ingot feed drive |
AR206001A1 (es) * | 1974-04-23 | 1976-06-23 | Firestone Tire & Rubber Co | Cubierta neumatica mejorada para ruedas |
US4226208A (en) * | 1977-08-04 | 1980-10-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Vapor deposition apparatus |
DE2841969C2 (de) | 1978-09-27 | 1985-10-17 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verdampfertiegel für das Verdampfen von Legierungen mit Komponenten mit unterschiedlichen Dampfdrücken |
DE3420246A1 (de) | 1984-05-30 | 1985-12-05 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verdampfertiegel fuer vakuum-aufdampfanlagen |
US4823358A (en) * | 1988-07-28 | 1989-04-18 | 501 Axel Johnson Metals, Inc. | High capacity electron beam cold hearth furnace |
KR930003307B1 (ko) * | 1989-12-14 | 1993-04-24 | 주식회사 금성사 | 입체용 프로젝터 |
US5008897A (en) * | 1990-03-23 | 1991-04-16 | The Boc Group, Inc. | Water cooled crucible |
US5277746A (en) * | 1992-07-27 | 1994-01-11 | Texas Instruments Incorporated | High pressure liquid phase epitaxy reactor chamber and method with direct see through capability |
US5795399A (en) * | 1994-06-30 | 1998-08-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device manufacturing apparatus, method for removing reaction product, and method of suppressing deposition of reaction product |
US5898261A (en) * | 1996-01-31 | 1999-04-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Fluid-cooled particle-beam transmission window |
-
2000
- 2000-03-08 UA UA2001042220A patent/UA71572C2/uk unknown
- 2000-07-24 US US09/624,808 patent/US6589351B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-03 WO PCT/US2000/021263 patent/WO2001011106A1/en active Application Filing
- 2000-08-03 EP EP00950977A patent/EP1121475B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6589351B1 (en) | 2003-07-08 |
WO2001011106A1 (en) | 2001-02-15 |
EP1121475B1 (en) | 2009-04-08 |
EP1121475A1 (en) | 2001-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
UA71572C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття на вироби конденсацією із парової фази | |
EP1123422B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus and method | |
US6946034B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus | |
EP2261387B1 (en) | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating | |
EP1177327B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition method | |
JP2001521989A (ja) | 被膜形成方法及びこの方法を実施するための装置 | |
Willey | Practical production of optical thin films | |
UA71573C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази | |
UA71922C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази, що містить магазин зі злитками покривного матеріалу | |
UA72742C2 (en) | An electron beam coating deposition apparatus by vapor phase condensation (variants) | |
UA71924C2 (en) | An electron beam physical vapor deposition apparatus for deposition of coating by condensation of vapor phase | |
EP1131474B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus with ingot magazine | |
GB2146046A (en) | Evaporation cell | |
JP4662323B2 (ja) | 電子ビーム物理蒸着被覆装置と該装置用のるつぼ | |
JP4982004B2 (ja) | 防着板装置 | |
US11021787B2 (en) | Coating arrangement and method | |
WO2001011103A2 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus and control panel therefor | |
UA73290C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття шляхом конденсації з парової фази (варіанти) |