UA73290C2 - Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття шляхом конденсації з парової фази (варіанти) - Google Patents
Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття шляхом конденсації з парової фази (варіанти) Download PDFInfo
- Publication number
- UA73290C2 UA73290C2 UA2001032041A UA2001032041A UA73290C2 UA 73290 C2 UA73290 C2 UA 73290C2 UA 2001032041 A UA2001032041 A UA 2001032041A UA 2001032041 A UA2001032041 A UA 2001032041A UA 73290 C2 UA73290 C2 UA 73290C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- chamber
- coating
- electron beam
- wall
- aperture
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 99
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 91
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000009833 condensation Methods 0.000 title claims description 15
- 230000005494 condensation Effects 0.000 title claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 claims 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005328 electron beam physical vapour deposition Methods 0.000 abstract 4
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 abstract 1
- 239000012720 thermal barrier coating Substances 0.000 abstract 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 14
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 229910000951 Aluminide Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004901 spalling Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Електронно-променевий пристрій (10) для нанесення покриття (наприклад керамічного теплоізоляційного покриття) конденсацією із парової фази (ЕПНПКПФ) на виріб (20). Пристрій (10) ЕПНПКПФ взагалі включає покривну камеру (12), що функціонує в умовах підвищених температур та субатмосферних тисків. Електронно-променева пушка (30) проектує електронний промінь (28) в покривну камеру (12) та на покривний матеріал (26) в ділянці покриття, розплавлюючи та випаровуючи його при цьому. Для спрощення функціонування пристрою ЕПНПКПФ (10) покривну камеру (12) додатково оснащено другою камерою (64) з можливістю закриття апертури (68) для відокремлення цієї апертури (68) від ділянки покриття. Крім того, пристрій ЕПНПКПФ (10) оснащено засобами (66) для підтримування тиску в другій камері (64) не вищим, ніж в ділянці покриття. В результаті в ділянці покриття можна застосовувати робочі тиски, вищі ніж 0,010 Мбар, з мінімальним впливом або без нього на функціонування та надійність електронно-променевої пушки (30).
Description
Опис винаходу
Ця заявка використовує пріоритет попередньої заявки на видачу патенту США за номером 60/147,231, 2 поданої 4 серпня 1999 року.
Ця заявка стосується заявки на видачу патенту США за реєстраційним номером 130М-13041, що розглядається одночасно із даною, зміст якої наданий в цьому описі у вигляді посилання.
Цей винахід взагалі стосується електронно-променевого пристрою для нанесення покриття конденсацією із парової фази. Зокрема, цей винахід спрямовано на створення такого пристрою для нанесення покриття, з 70 можливістю нанесення керамічних покриттів на деталі, наприклад теплоізоляційних покриттів на деталі із жароміцного сплаву газотурбінних двигунів.
Вищі робочі температури для газотурбінних двигунів постійно досліджуються для збільшення їх продуктивності. Однак, по мірі збільшення робочих температур термін дії деталей двигуна, що працюють в умовах високої температури, теж повинен відповідно збільшуватись. В той час, як значні переваги були 12 досягнуті при застосуванні жароміцних сплавів на основі заліза, нікелю та кобальту, окремо жароміцні здібності цих сплавів часто неадекватні для деталей, визначено розташованих в газотурбінному двигуні, наприклад такому двигуні, як камера сгоряння та форсажна камера. Спільним рішенням є виконання теплової ізоляції таких деталей для мінімізації їх робочих температур. З цією метою широке застосування знайшли теплоізоляційні покриття (ТІП), нанесені на зовнішні поверхні деталей, що працюють при високих температурах.
Для ефективності теплоізоляційні покриття (ТІП) повинні мати низьку теплопровідність та легко приставати до поверхні деталей. Різні керамічні матеріали застосовуються як ТІП, зокрема, диоксид цирконія (7гО 5), що стабілізується окисом іттрія (203), магнезією (МодО) або іншими окисами. Такі спеціальні матеріали широко застосовуються в цій галузі техніки, оскільки вони легко осаджуються при нанесенні покриття плазменим напиленням або конденсацією парової фази. Прикладом останньої є електронно- променеве нанесення покриття с конденсацією парової фази (ЕПНПКПФ), при якому виробляється теплоізоляційне покриття, що має стовбурну Ге) зернисту структуру, підоснова якої має можливість розширюватись, не викликаючи при цьому пошкоджуючих стресів, що приводять до скалювання, і цим підвищує допустимий рівень деформації. Прилипання ТІП до деталі часто в подальшому зміцнюється наявністю металевого з'єднувального покриття, такого як дифузійний алюмінід або стійкий до окислення сплав, такий як МегАїЇМ, де М це залізо, кобальт та/або нікель. Способи виробництва о
Тіп шляхом ЕГШПКПФ взагалі включають попереднє нагрівання деталі до прийнятної температури для Ге»! нанесення покриття та потім занурення деталі в нагріту покривальну камеру. В процесі покриття, деталь тримають поблизу із злитком покривного керамічного матеріалу (наприклад, окисом цирконія, стабілізованим сч оксидом ітрію) та електронний промінь, вироблений електронно-променевою пушкою, проектують на злиток (У таким чином, щоб розплавити поверхню злитку та виробити конденсат покривного матеріалу для осадження на деталь. В минулому в покривній камері підтримували тиск приблизно 0,005мбар. Вищих тисків уникали через те, в що управління електронним променем більш важке при тисках вище приблизно О,005мбар, при цьому помічається хаотичний процес нанесення при тиску в покривній камері вище О,01Омбар. Крім того, вважають, що термін дії нитки накалювання електронно-променевої пушки буде знижено або пушку буде забруднено при тиску «ФК вище 0,005мбар. З 50 За патентною заявкою США Реєстраційний Мо 09/108,201, Кідпеу еї аї. ( передана тому ж уповноваженому с агенту, що й даний винахід) при ЕПНІКПФ застосовують робочі тиски більше 0,01Омбар для вироблення ТІП із з» значно покрашеним опором скалюванню та зниженою теплопровідністю . Відповідно було бажаним, щоб в удосконаленому за вище вказаним патентом пристрої для ЕПНІКПФ був знижений ризик забруднення електронно-променевої пушки та скорочений термін дії нитки накалювання пушки при застосуванні в пристрої тиску вище 0,01Омбар. 7 Цей винахід спрямовано на створення електронно-променевого пристрою для нанесення покриття оз (наприклад, керамічного теплоізоляційного покриття) конденсацією парової фази (ЕПНПКПФ) на виріб. Пристрій
ЕПНПКПФ згідно з цим винаходом взагалі включають покривну камеру, що функціонує в умовах підвищених о температурах ( наприклад, принаймні 80022) та субатмосферному тиску взагалі вище 0,01Омбар. (Се) 50 Електронно-променева пушка використовується для проекції електронного променя в покривну камеру та на покривний матеріал, розташований усередині камери. Функція електронно-променевої пушки полягає в с розплавленні та випаровуванні покривного матеріалу. Крім того, в пристрій вмонтовано пристосування для підтримки виробу у середині покривної камери таким чином, щоб пари покривного матеріалу могли осаджуватися на виріб. 99 Згідно з цим винаходом продуктивність функціонування пристрою ЕПНІКПФ при робочих тисках вище
ГФ) 0,01Омбар можна підвищити, розташовуючи в покривній камері другу камеру з можливістю закриття апертури т для відокремлення Її від ділянки покриття. Крім того, пристрій оснащено засобами для підтримання в другій камері тиску, нижчого ніж в ділянці покриття . В результаті, значення робочого тиску більше 0,010мбар можна застосовувати, відповідно до патентної заявки США Реєстраційний Мо 09/108,201, Кідпеу еї а). при мінімальному 60 впливі або його відсутності на функціонування та надійність електронно-променевої пушки.
Інші об'єкти та переваги цього винаходу будуть краще визначені в наступному детальному описі.
На фігурі 1 та 2 зображені відповідно план та вид спереду електронно-променевого пристрою для нанесення покриття конденсацією із парової фази, який використовують для осадження покривного матеріалу згідно із цим винаходом. На фігурі З більш детально показано вид спереду поперечного перерізу внутрішніх деталей бо покривної камери пристрою за фігурами 1 та 2, включаючи другу камеру , вмонтовану у верхню стінку покривної камери згідно із переважним варіантом виконання винаходу.
Пристрій 10 ЕПНПКПФ згідно із цим винаходом зображено в загальному вигляді на фігурах 1 та 2. Пристрій 10 зокрема добре прилаштований для осадження керамічного теплоізоляційного покриття на металеву деталь, призначену для експлуатації в несприйнятному термальному середовищі. Відомі приклади таких деталей включають сопла та лопаті турбін високого та низького тиску, кожухи, деталі камери згоряння, агрегати форсажної камери газотурбінних двигунів. Незалежно від того, що удосконалення, досягнуті цим винаходом, будуть надані описом процесу осадження керамічного покриття на такого роду деталі, цей винахід можна застосовувати також для різних покривних матеріалів та деталей, що покриваються ними. 70 З метою ілюстрації цього винаходу пристрій 10 ЕПНПКПФ, показаний на фігурах 1 та 2, що включає покривну камеру 12, пару камер попереднього нагрівання 14, та дві пари завантажувальних камер 16 та 18, розташованих так, що пристрій 10 має симетричну конфігурацію. Як показано, злитки 26 бажаного покривного матеріалу завантажуються підйомниками 61 в покривну камеру 12 із каналів 104 магазину 102, розташованого під покривною камерою 12. Для фіксації випарювальних злитків по місцю служать рукоятки для захвату 60. Передні /5 завантажувальні камери 16 розташовані на одній лінії із їх відповідними камерами 14 попереднього нагрівання, причому деталі 20, початково завантажені на грабельний механізм 22 в лівій камері 16, пересуваються в ліву камеру 14 попереднього нагрівання та, як показано на фігурі 1, в покривну камеру 12. При симетричній конфігурації пристрою 10, в той час як деталі 20, завантажені через передню ліву завантажувальну камеру 16, покриваються в покривній камері 12, друга партія деталей у передній правій комері 16 можуть попередньо 2о нагріватись у правій камері попереднього нагрівання 14, третя партія деталей може завантажуватись у задню ліву завантажувальну камеру 18, а четверта партія деталей може бути вивантажена із правої задньої завантажувальної камери 18. Отже, чотири стадії процесу можна виконувати одночасно за допомогою пристрою
ЕПНІКПФ згідно з цим винаходом.
Згідно з переважним варіантом виконання цього винаходу завантажувальні камери 16 та 18 монтуються до сч об НИзькопрофільних пересувних платформ 24 таким чином, щоб завантажувальні камери 16 та 18 можна було вибірково вирівняти в одну лінію із їх камерами 14 попереднього нагрівання. Крім того, кожна платформа 24 і) переважно має можливість пересуватись у позицію технічного обслуговування, в якій жодна із завантажувальних камер 16 та 18 не вирівнюватиметься в одну лінію із своєю камерою попереднього нагрівання 14 з метою створення доступу у середину завантажувальних камер 16 та 18 та камери 14 попереднього нагрівання для о
Зр Можливості їх очищення. Платформи 24 переважно підтримуються принаймні частково роликопідшипниками 44, вмонтованими в підлогу, хоча передбачено вживання і безліч інших підшипників. Платформи 24 переважно Ме мають низький профіль узвишшя (виступ над підлогою) не більше приблизно 2,5 см із закругленим краєм, які с разом практично виключають потенціал зчеплення оператора з краєм платформи 24 . Стаціонарні об'єкти, навколо пристрою 10 переважно розташовують на відстані від країв платформ 24 для запобігання притискання ме) зв оператора платформою під час зміни її положення. ї-
Завантажувальні камери 14 та 16 взагалі мають повздовжню форму та обладнані завантажувальними дверми 40, через які завантажують деталі на грабельний механізм 22. Крім того, завантажувальні камери 16 та 18 обладнують прохідними дверми 42 до приводів ( схематично показані на фігурі 1 позицією 46), які управляють функціонуванням грабельного механізму 22. Точніше деталі 20, які підтримуються на грабельному механізмі 22, « переважно обертаються та /або качаються в покривній камері 12 для сприяння бажаному розподіленню покриття (2-3) с по деталях 20. Прохідні двері 42 дозволяють оператору пристрою 10 швидко відрегулювати або перенастроїти приводи 46 без втручання в робочий процес завантаження та вивантаження деталей із завантажувальних камер ;» 16 та 18.
Як видно на фігурі З нанесення покриття виконують в покривній камері 12, розплавлюючи та випаровуючи злитки 26 електронними променями 28, виробленими електронною пушкою (ЕП) 30 та сфокусованими на злитках -І 26. Інтенсивне нагрівання керамічного матеріалу електронними променями 28 викликає плавлення кожного злитку 26, утворюючи розплавлений керамічний матеріал, молекули якого випаровуються конденсуються та о осаджуються на поверхнях деталей 20, виробляючи бажане керамічне покриття, товщина якого залежить від ко тривалості процесу покриття. Не зважаючи на те, що на фігурі З показано два злитки, за межі винаходу не 5р Виходить наявність одного або більше злитків 26 для одночасного випаровування. ік Як видно на фігурі З, гази кисень та аргон вводять в покривну камеру через вхід 54, розташований біля о тиглів 56, що підтримують злитки 26 в покривній камері 12 та утримують в розплавленому стані керамічний матеріал, вироблений за допомогою електронних променів 28. Швидкості потоків кисню та аргону індивідуально регулюють на основі наміченого робочого тиску та визначеного парціального тиску кисню. Для зниження випадків в Коливання тиску в покривній камері час регулювання циклічної реакції цих газів переважно знижується шляхом фізичного розташування розподільчого клапана 58 для газів, який безпосередньо з'єднується із входом 54
Ф) одразу на виході покривної камери 12. Розташування розподільчих клапанів 58 так близько до покривної камери ка забезпечує несподіване значне покращення регулювання тиску, знижуючи коливання тиску в покривній камері 12 та знижуючи дислокації фокуса та позиції електронних променів 28 на злитках 26. во Після відкачування механічним насосом 31 покривної камери 12 на попередній вакуум можна застосувати криогенний та дифузійний насоси 32 та 34 відомого типу в даній галузі для вакуумування покривної камери 12 до процесу випаровування. Для вакуумування камери 14 попереднього покриття, як показано, застосовують окрему пару дифузійних насосів 38. Як показано на фігурі 1 дифузійний насос 34 для покривної камери 12 може бути модифікований дросельним клапаном 36 для регулювання робочого режиму насосу 34 при відносно високому б5 тиску, наприклад, вище 0О,01Омбар, згідно із переважним варіантом цього винаходу, як сказано нижче. Дифузійні насоси 38 для камер 14 попереднього нагрівання подібно оснащені дросельними клапанами для такої самої мети.
Покривні камери ЕПНІПКПФ звичайно мають здатність підтримувати рівень вакууму приблизно 0,001мбар (приблизно 1х10 Тор) або менше. В прототипі до даного винаходу відкачується максимально 0,01Омбар, а більш типово приблизно 0,005мбар, для створення вакууму в покривній камері протягом процесу покриття; таке обмеження спричинено тим, що більш високий тиск, як відомо, викликає хаотичну дію ЕП пушки 30 та робить проблематичним регулювання електронних променів, припускаючи, що в результаті покриття буде другого гатунку. Крім того, можна з впевненістю сказати, що термін дії нитки накалювання пушки буде знижений або пушка буде забруднена при її експлуатації із значеннями тиску в покривній камері вище 0,005мбар. Однак, 70 згідно із патентною заявкою США Мо 09/108,201 Кідпеу еї а!., що розглядається одночасно із даною, та передана тому ж самому уповноваженому агенту, як і цей винахід, покривна камера 12 переважно експлуатується при більш вищих значеннях тиску, при чому несподівано отримується керамічне покриття із покращеними відшаруванням та протиударною стійкістю, а також прискорюється осадження покриття за рахунок більш високої швидкості випаровування злитків, ніж в прототипі.
З метою вирішення вищезазначених проблем стосовно управління електронними променями 28 та захисту
ЕП пушки 30 при більш вищих робочих тисках, що застосовуються згідно із цим винаходом, ЕП пушки ЗО відносно ізолюють від підвищеного робочого тиску в покривній камері 12. На фігурі З показано конденсаційну бленду 52, яка уловлює більшість надлишкового керамічного пару, що не осадився на деталі 20. Бленді 52 надана форма згідно з винаходом для визначення ділянки покриття деталей 20, в межах якої спеціально підтримується підвищений тиск, бажаний для виконання покриття. Для полегшення очищення пристрою між покривальними кампаніями бленда 52 переважно оснащена екранами 76 з можливістю її зняття та очищення за межами покривної камери 12. Переважно екрани 76 утримуються підпружиненими штифтами 78 замість нарізних кріплень для спрощення вилучення екранів 76, якщо вони були вкриті шаром покривного матеріалу на при кінці кампанії. Га
Оскільки бленда 52 оточує деталі 20, як видно на фігурі 3, потрібна апертура 62 для кожного електронного променя 28 крізь бленду 52. Для сприяння здатності утримувати більш високий тиск в межах конденсаційної і9) бленди, ніж в решта ділянках покривної камери 12, включаючи ділянки навколо ЕП пушок ЗО, апертури 62 переважно мають розміри , не більше необхідних для того, щоб пропустити електронні промені 28 крізь бленду 52. З цією метою апертури 62 переважно обрізають електронними променями в процесі настроювання пристрою (3 190.
Згідно із цим винаходом для більш надійної ізоляції ЕП пушок ЗО від підвищеного тиску в ділянці покриття, іа визначеній межами конденсаційної бленди 52, промені 28 проходять із їх відповідних пушок ЗО крізь камери 64, Ге утворені між внутрішніми стінками покривної камери 12 та конденсаційною блендою 52. Як показано на фігурі З, кожна із камер 64 переважно утворена верхньою стінкою покривної камери 12 та боковими стінками , що о примикають до її верхньої стінки. Крім того, на фігурі З показано, що нижній край кожної камери 64 закритий р стінкою паралельно стінці конденсаційної бленди 52, в якій утворена апертура 62, при цьому ця стінка конденсаційної бленди може служити для закриття нижніх торців камер 64. Конденсаційна бленда переважно не примикає до стінок камер 64. В такий спосіб конденсаційна бленда може пересуватись в покривній камері 12, не « вимагаючи при цьому фізичного роз'єднання камер 64 із покривної камерою 12.
Переважно дифузійний насос 34 має вхід поблизу та пневматично з'єднаний із кожною камерою 64. Через ЩО с мінімальний розмір апертур 62 підвищений тиск в межах конденсаційної бленди 52 ( досягнутий введенням ц кисню та аргону Через вхід 54) поступає в камери 64 на значно зниженій швидкості для активізації дифузійного "» насосу 34 підтримувати тиск камер 64 нижче , ніж в межах конденсаційної бленди 52. Під час процесу покриття електронні промені 28 фокусуються на злитках 26, утворюючи цим розплавлений керамічний матеріал та пари, що осаджуються на деталі 20. При можливості використання різних покривних матеріалів, переважними -І керамічними матеріалами для електронно-променевого покриття ( а саме, злитки 26) можуть бути окис цирконія (2705) частково або повністю стабілізований окисом ітрію ( наприклад, З - 2095, переважно 4-895 М2Оз3), хоча о можна застосовувати і ітрій, стабілізований окисами магнію, церію, кальцію, скандію або іншими окисами. Процес ко покриття продовжується до утворення бажаної товщини покриття деталей 20, після чого деталі 20 переміщуються через камеру 14 попереднього нагрівання у завантажувальну камеру 16, після чого іш відкриваються вентиляційні отвори для піддання її природній вентиляції. о Не дивлячись на те, що цей винахід було описано на базі переважних варіантів виконання, очевидно, що спеціаліст в цій галузі може застосовувати інші варіанти. Відповідно обсяг винаходу слід обмежувати тільки наступною формулою винаходу.
Ф) іме) 60 б5 ше ше ши ши ще Ши -ї Ще шшщ шишшшшшще: з І позу ві їй зи клю 22 ор зе 229 он, Що 46 Я се МК ї - 32 А ч Пенн Я плення п ОЇ С ее тер Лев ЇМ ес : 70 ЕЕ 15 І и УпИе. ЩО Гн еннн Дн н! сн пнннннтн сн) ПО Пп У ііноннінні пивний
ЕЕ 25 Пе ін ЕН 5-42, ЖЖ ло дав б 0040 42 6 ЗУ зі з хто в. ло й Со 3 15 ! (З Сг, о т8- я т-ї-
ИН с 11 44 44 і 44 ду виш з-ї 20 Фіг 1.
Ще 30 50 12 2 пара с 42 16- 1 «тр УТ я ще: дл 16 42
А А - - о я в; | пе--І о мі--ББ-ЖШБ-- Дом З І : І 24 44 -44 зр ! ! 44 44 7 Фо й й. 102 іа с
Фіг 2. о і - 70-21 -70 74 - -30 мщі 6б вв 70 « 68. з ен ни | 6в ! шк -2 то 6-- р З | --64 З с 78 їла кій ж ва -78 те ен я и рнстсненася сне ;» ув М 764572 76 / 767 Д., щі 55 ді 27 пен ни -1 х ту в в! у 565 56 Й о І Я 6Оов- ЩІ Ї з 78 54 во Хв во 77|-ві ісе) ТИ Пеня метуюя (иа ДИ ИЙ ИЙ о | 58 | ГГ ю А ше: 4. -ї-
Ф) о Фіг. З
Claims (1)
- Формула винаходу1. Електронно-променевий пристрій (10) для нанесення покриття конденсацією із парової фази, який б Включає: покривну камеру (12), яка виконана з можливістю функціонування в умовах підвищеної температури та субатмосферного тиску; конденсаційну бленду (52), що визначає ділянку покриття в покривній камері (12); електронно-променеву пушку (30) для проектування електронного променя (28) на ділянку покриття; апертуру (68) в стінці покривної камери (12), крізь яку електронний промінь (28) проходить в покривну камеру (12); другу камеру (64), розташовану усередині покривної камери (12) з можливістю закриття апертури (68) для Її відокремлення від ділянки покриття; та засоби (66) для підтримки тиску в другій камері (64) не вищим, ніж в ділянці покриття. 70 2. Електронно-променевий пристрій за п. 1, який відрізняється тим, що частина стінки другої камери (64) не примикає до конденсаційної бленди (52).З. Електронно-променевий пристрій за п. 2, який відрізняється тим, що частина стінки має другу апертуру (62), крізь яку електронний промінь виходить із другої камери (64) та входить в ділянку покриття.4. Електронно- променевий пристрій за п. 1, який відрізняється тим, що друга камера (64) має частину 7/5 бтінки, що утворена верхньою стінкою покривної камери (12).5. Електронно-променевий пристрій за п. 4, який відрізняється тим, що друга камера (64) має нижній край, закритий стінкою, що паралельна верхній стінці конденсаційної бленди та не примикає до бленди (52).6. Електронно-променевий пристрій за п. 5, який відрізняється тим, що частина стінки нижнього краю має другу апертуру (62), крізь яку електронний промінь (28) виходить із другої камери (64) та входить в ділянку 2о покриття.7. Електронно- променевий пристрій (10) для нанесення покриття конденсацією із парової фази, який включає: покривну камеру (12); бленду (52), яка визначає ділянку покриття в покривній камері (12), причому ділянка покриття пристосована для обробки в умовах підвищеної температури та субатмосферного тиску; електронно-променеву пушку (30) для сч ов проектування електронного променя (28) на ділянку покриття та на покривний матеріал (26), причому зазначена електронно-променева пушка (30) здатна розплавити покривний матеріал (26) та випарити розплавлений і) покривний матеріал (26); засоби (22) для підтримки виробу (20) в ділянці покриття так, щоб пари покривного матеріалу (26) осаджувалися на виробі (20); о зо апертуру (68) в стінці покривної камери (12), крізь яку електронний промінь (28) проходить в покривну камеру (12); Ме другу камеру (64), розташовану усередині покривної камери (12) з можливістю вміщення апертури (68) дляїї су відокремлення від ділянки покриття; та засоби (66) для підтримки тиску в другій камері (64) нижчим, ніж у ділянці покриття. ме)8. Електронно-променевий пристрій за п. 7, який відрізняється тим, що частина стінки другої камери (64) не ї- примикає до конденсаційної бленди (52).9. Електронно-променевий пристрій за п. 8, який відрізняється тим, що частина стінки має другу апертуру (62), крізь яку електронний промінь виходить із другої камери (64) та входить в ділянку покриття.10. Електронно-променевий пристрій за п. 7, який відрізняється тим, що друга камера (64) має першу « частину стінки, що примикає до стінки покривної камери (12). з с 11. Електронно-променевий пристрій за п. 10, який відрізняється тим, що друга камера (64) має другу частину стінки, яка не примикає до бленди (52). ;» 12. Електронно-променевий пристрій за п. 11, який відрізняється тим, що друга частина стінки нижнього краю має другу апертуру (62), крізь яку електронний промінь (28) виходить із другої камери (64) та входить у Ділянку покриття. -І Офіційний бюлетень "Промислоава власність". Книга 1 "Винаходи, корисні моделі, топографії інтегральних о мікросхем", 2005, М 7, 15.07.2005. Державний департамент інтелектуальної власності Міністерства освіти і ко науки України. о 50 (42) Ф) іме) 60 б5
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14723199P | 1999-08-04 | 1999-08-04 | |
US62175500A | 2000-07-24 | 2000-07-24 | |
PCT/US2000/021132 WO2001011107A1 (en) | 1999-08-04 | 2000-08-03 | Electron beam physical vapor deposition apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
UA73290C2 true UA73290C2 (uk) | 2005-07-15 |
Family
ID=26844715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
UA2001032041A UA73290C2 (uk) | 1999-08-04 | 2000-03-08 | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття шляхом конденсації з парової фази (варіанти) |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1121476B1 (uk) |
JP (1) | JP4841776B2 (uk) |
DE (1) | DE60024051T2 (uk) |
UA (1) | UA73290C2 (uk) |
WO (1) | WO2001011107A1 (uk) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7556695B2 (en) | 2002-05-06 | 2009-07-07 | Honeywell International, Inc. | Apparatus to make nanolaminate thermal barrier coatings |
KR101146415B1 (ko) * | 2009-04-24 | 2012-05-17 | 하상훈 | 조리용기의 가공방법 및 그 조리용기 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1515318A1 (de) * | 1964-12-28 | 1969-07-31 | Hermsdorf Keramik Veb | Einrichtung zur Herstellung duenner Schichten auf einem Traeger mittels Ionenstrahl-Zerstaeubung |
WO1986002774A1 (en) * | 1984-10-26 | 1986-05-09 | Ion Beam Systems, Inc. | Focused substrate alteration |
US4885070A (en) * | 1988-02-12 | 1989-12-05 | Leybold Aktiengesellschaft | Method and apparatus for the application of materials |
EP0308680A1 (de) * | 1987-09-21 | 1989-03-29 | THELEN, Alfred, Dr. | Vorrichtung zum Kathodenzerstäuben |
US5637199A (en) * | 1992-06-26 | 1997-06-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Sputtering shields and method of manufacture |
JPH1081959A (ja) * | 1996-09-03 | 1998-03-31 | Sony Corp | テープ蒸着装置の電子銃取付け構造 |
JPH10130815A (ja) * | 1996-10-28 | 1998-05-19 | Sony Corp | 蒸着薄膜形成装置 |
-
2000
- 2000-03-08 UA UA2001032041A patent/UA73290C2/uk unknown
- 2000-08-03 DE DE60024051T patent/DE60024051T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-03 WO PCT/US2000/021132 patent/WO2001011107A1/en active IP Right Grant
- 2000-08-03 JP JP2001515351A patent/JP4841776B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-03 EP EP00950949A patent/EP1121476B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003522293A (ja) | 2003-07-22 |
EP1121476B1 (en) | 2005-11-16 |
WO2001011107A1 (en) | 2001-02-15 |
EP1121476A1 (en) | 2001-08-08 |
DE60024051D1 (de) | 2005-12-22 |
DE60024051T2 (de) | 2006-08-03 |
JP4841776B2 (ja) | 2011-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6365013B1 (en) | Coating method and device | |
US6054184A (en) | Method for forming a multilayer thermal barrier coating | |
US6589351B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus and crucible therefor | |
US6770333B2 (en) | Method of controlling temperature during coating deposition by EBPVD | |
US20100247809A1 (en) | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating | |
US6863937B2 (en) | Method of operating an electron beam physical vapor deposition apparatus | |
KR102144321B1 (ko) | 직접 액상 증착 | |
US6983718B1 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus | |
US8404047B2 (en) | Electron beam vapor deposition apparatus and method | |
JPH11315369A (ja) | 部材の予熱方法及びコーティング装置 | |
UA73290C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття шляхом конденсації з парової фази (варіанти) | |
UA78487C2 (uk) | Спосіб нанесення керамічного покриття та пристрій для його здійснення | |
EP2374913A1 (en) | Deposition apparatus with preheating chamber having thermal hood | |
UA71573C2 (uk) | Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття конденсацією із парової фази | |
CN214937772U (zh) | 通过电子束蒸发在部件上沉积保护涂层的设备 | |
EP1144710A2 (en) | Electron beam physical vapor deposition apparatus and control panel therefor | |
JP4780884B2 (ja) | 電子ビーム物理蒸着装置 | |
JP4662323B2 (ja) | 電子ビーム物理蒸着被覆装置と該装置用のるつぼ | |
JP2004043853A (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | |
JP2003522292A (ja) | 電子ビーム物理蒸着被覆装置と該装置用のインゴット・マガジン | |
UA72742C2 (en) | An electron beam coating deposition apparatus by vapor phase condensation (variants) | |
JPH0499864A (ja) | 分離セル内の蒸着金属清掃方法 | |
UA71924C2 (en) | An electron beam physical vapor deposition apparatus for deposition of coating by condensation of vapor phase |