KR100755948B1 - 밴드 프로세싱 플랜트 - Google Patents

Abstract

본 발명은 상기 기재를 언와인딩 및 와인딩업하는 두 개의 와인딩 스테이션(10;10'), 두개의 스테이션 사이의 기재 통과를 제공하는 적어도 하나의 프로세싱 스테이션(B), 및 상기 와인딩 스테이션과 적어도 하나의 프로세싱 스테이션 내에서 서로 다른 압력 수준을 달성하기 위하여 와인딩 스테이션(10;10')과 적어도 하나의 프로세싱 스테이션 사이에 제공된 슬루스 밸브(sluice valve)(18)를 특징으로 하고, 상기 와인딩 스테이션이 하나의 베이스(11)상에 위치하고, 예를 들면 상기 기재를 교환하기 위하여 펼쳐질 수 있는, 탄력성 기재(17S)를 통과시키는 연속 프로세싱 장치에 있어서,

- 상기 와인딩 스테이션(10;10') 및 프로세싱 스테이션(B)은 서로 다른 이동가능한 베이스 안에 또는 위에 배치되고, 프로세싱 스테이션의 베이스는 고정되며, 상기 프로세싱 스테이션을 둘러싸고 가동조건에서는 상기 와인딩 스테이션(10;10')을 또한 둘러싸는 하우징(1)의 일부이고, 상기 하우징은 밸브(18)를 포함하며,

- 상기 와인딩 스테이션(10;10')은 이의 연합 베이스(11)를 둘러싸는 구조물(12) 내부에 통합되고, 상기 밸브(18)로부터 폐쇄될 수 있는 개구(opening)를 특징으로 하고, 구조물은 가동상태에서 프로세싱 스테이션의 하우징(1) 내부로 통합되고,

및 상기 밸브(18)가 개방된 조건에서 상기 프로세싱 스테이션(B)과 와인딩 스테이션(10;10')이 공동으로 소개될 수 있고, 밸브(18)가 폐쇄된 상태에서는 상기 와인딩 스테이션이 프로세싱 스테이션과는 별개로 환기될 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 유닛에 관한 것이다.

연속 프로세싱 플랜트, 와인딩업 스테이션, 프로세싱 스테이션, 개구

Description

밴드 프로세싱 플랜트{Band Processing Plant}

본 발명은 청구항 1의 전문의 특징을 갖는 밴드 프로세싱 플랜트에 관한 것이다.

이와 같은 형태의 프로세싱 플랜트들은 주로 탄력성 밴드 기재, 예를 들면 플라스틱 호일, 자기 테이프, 필름 등을 진공중에서 (예를 들면, 궁극적으로 자기장, 증발, PVD 또는 CVD 방법이 보강되는 스퍼터링(sputtering), 즉 목표 원자화(target atomization)에 의해) 코팅하기 위하여, 및 전처리/세척/건조/표면 활성화/중합 등과 같은 추가의 프로세싱 방법을 위하여 주로 설계된다. 이와 같은 경우, 곤포(bales) 또는 호일(foils) 형태로 공급되는 밴드 기재를 플랜트에 도입하는 것이 필요하며, 상기 밴드 기재는 베어링축상에 위치하여 코팅 공정중에 밴드기재가 이와 같은 곤포로부터 언롤링(unrolled)될 수 있다.

코팅 챔버 너머/하류에 코팅된 밴드 기재를 다시 감는 테이크업 릴(take-up reel)을 구비한 또 다른 축이 제공된다.

기본적으로 이와 같은 밴드 코팅 플랜트는 모듈들(언롤링, 코팅 및 테이크업 모듈)로 분리될 수 있다.

알려진 플랜트상에 상기 밴드 기재를 언롤링하거나 와인딩업하기 위하여 양방향으로 장착된 두 개의 축 또는 실린더들은 공지의 프레임 유사 베이스상에 조립되며, 상기 베이스는 축 또는 실린더들이 상호 일정하고 단단한 위치 관계에 있다는 이점을 제공한다. 두 개의 축 또는 실린더들이 코팅 모듈의 양쪽면상에 배치되면 스풀(spool)을 교환하는 중에 진공에서 가동중인 코팅 챔버의 환기를 별도의 수단으로 억제시킬 수 있다.

각각의 기재 곤포 교환시, 즉 밴드 기재로부터 방금 코팅되어 새로이 롤링업된(rolled up) 곤포를 제거하는 경우에 진공에서 가동중인 코팅챔버의 환기를 억제하는 것이 목적이다.

그러므로, 각각의 모듈 사이로 공기 잠금(air-lock) 밸브를 장착하는 것은 이미 알려져 있다. 오직 입장(admittance) 및 제거(removal) 스테이션들만이 각각 환기되고 효과적인 코팅 챔버가 소개 조건에서 영구적으로 잔류할 수 있기 때문에 다시 환기시켜야 하는 용적이 확실하게 감소하였다. 분명하게는, 필요한 경우에는 플랜트 전체를 환기할 수 있다.

DE 197 35 603 C1은 이어서 배치된 서로 다른 코팅 챔버를 갖는 연속 진공 코팅 플랜트를 기술하고 있으며, 상기 각각의 코팅 챔버안에 바이패스 롤(by-pass roll), 밴드 측정 롤 및 냉각 롤을 포함한 롤러 프레임이 제공된다. 상기 롤러 프레임은 각각의 코팅 챔버에서 다음 챔버의 롤 및 실린더들이 상호 조절될 수 있는 방식으로 조절될 수 있다. 상기 코팅 챔버의 마그네트론(magnetron) 원료들은 롤러 프레임과 독립적으로 조립되어 실린더의 위치를 변경하지 않고도 원료들을 조절 및 교환할 수 있다.

처리되어질 밴드 기재는 언와인딩(unwinding) 챔버로부터 코팅 챔버로 도입되고, 코팅 챔버로부터 롤링업(roll up) 또는 와인딩업(winding up) 챔버로 도입되며, 언롤링 및 롤링업 챔버와 코팅 챔버 사이에 꼼꼼하게 커버되지 않는 진공 밸브가 제공된다.

DE 101 57 186 C1은 언롤링, 코팅 및 롤링업 챔버로 나뉘며, 이들 사이에 공기 잠금 또는 밴드 밸브가 제공되는 또 다른 연속 진공 코팅 장치를 기술하고 있다. 소개가능한 언롤링 및 롤링업 챔버 내부에 제공된 스풀축(spool shaft)이 롤러 프레임상에 제공되며, 상기 스풀축은 서로 독립적으로 고정되어 있으며 개별적으로 플랜트 밖으로 이동할 수 있다. 이와 반대로, 프로세싱 모듈에 존재하는 실린더들은 공지의 롤러 프레임상에 배치된다. 모든 롤러 프레임에 대하여 공지의 고정(fixation) 또는 침적(deposition) 포인트가 롤링업 챔버 및 프로세싱 모듈 사이의 분리벽에서 제공된다. 가동중의 롤러 프레임간의 상호 전치(displacement)는 롤링업 챔버 및 프로세싱 모듈사이에 50 Pa의 최대 압력 차이를 가동중에 제공함으로써 가동중에 억제되어야 한다. 상기 프로세싱 모듈은 순서대로 접근 개구(access opening)를 구비한 개별 덮개로 폐쇄될 수 있다.

WO 99/50472는 공지의 챔버에 정렬된 해당 와인딩 및 탈와인딩(dewinding) 릴을 구비한 적재(loading) 및 개별적 방출(discharge) 스테이션, 및 적어도 하나의 개별적으로 제공된 반응 챔버(코팅 모듈)를 포함한 진공 밴드 코팅 플랜트를 기 술하고 있다. 밴드 기재는 적재 및 방출 스테이션 사이의 실린더 공기 잠금을 통과하며, 상기 실린더 공기 잠금은 압력 스테이지(stage) 역할을 한다. 한가지 버젼에서는, 상기 밴드 기재가 서로 롤링업하는 2개의 실린더 사이를 통과할 수 있고, 또 다른 버젼에서는, 상기 밴드 기재가 실린더와 고정된 봉인 블럭 사이를 통과할 수 있다. 이와 같은 실런더 공기 잠금은 예를 들면 새로운 밴드 기재를 주입하기 위하여 개방될 수 있다. 이를 위하여, 실린더중 하나가 펴지고, 이의 회전축(rotary axis)이 회전축(axis of rotation) 근처에서 접힘가능하게 장착될 수 있거나, 봉인 블럭이 실린더에서 제거될 수 있다.

이와 같이 공지된 플랜트의 일 구현예에 있어서, 드라이브(drive)를 구비한 모든 실린더와 밸브들이 공지의 베이시스(basis)에 제공되며, 이들은 하우징으로 도입될 수 있다. 베이시스와 하우징간의 간격은 외주면 봉인에 의해 진공 밀폐될 수 있다. 그럼에도 불구하고, 특히 상기 공기 잠금 밸브 영역에서의 이들의 공간 질서를 고려하여 이와 같은 모든 봉인들이 평면의 봉인 표면상에 적용될 수는 없다. 또한 이와 같은 플랜트에서, 상기 공기 잠금 밸브가 존재함으로써 상기 프로세싱 챔버를 환기하지 않으면서도 밴드 스풀을 교환할 수 있다.

본 발명의 목적은 전체 플랜트를 환기하지 않으면서, 즉 프로세싱 부분을 소개하지 않으면서 언와인딩 및 롤링업 스풀을 교환할 수 있는 또 다른 프로세싱 플랜트를 제공하는 것이다.

본 발명에 따르면, 이와 같은 과제는 청구항 1의 특징에 의해 해소될 수 있을 것이다. 종속항들의 특징들은 본 발명의 바람직한 구현예를 나타낸다.

본 발명에 따르면, 서로 다른 베이스 내부 또는 상부에 롤링업 스테이션 및 프로세싱 스테이션이 제공되며, 이들은 서로 상대적으로 이동될 수 있다. 프로세싱 플랜트의 베이시스는 플랜트 하우징의 단단한 부분이며, 베이시스는 가동 조건중에 와인딩업 부분을 둘러싼다.

공지의 베이시스를 포함하고 프로세싱 모듈쪽으로 개방되어 있으며 플랜트 하우징에 대하여 이동가능한 와인딩업 부분이 구조물에 제공되며, 와인딩업 부분은 실질적인 프로세싱 플랜트(또는 프로세싱 모듈)에 대항하여 밸브로 봉인될 수 있다.

바람직하게는 전체 베이시스는 폐쇄 플레이트(plate)이며, 상기 구조물의 벽 부분을 형성한다. 특히 편리한 구현예에 있어서, 이와 같은 와인딩업 스테이션의 베이직 플레이트는 가동 조건중에 전체 플랜트 하우징의 벽 부분을 동시에 형성한다. 또한, 상기 플레이트는 구조물 자체 내부에 형성된 챔버의 벽을 형성하고, 상기 챔버는 본질적으로 폐쇄된 형태를 특징으로 한다.

상기 플랜트 하우징의 개별적인 개구를 통하여 외부로부터 와인딩업 스테이션에 접근할 수 있으며, 가동조건중에는 상기 와인딩업 스테이션은 단단히 폐쇄될 수 있다. 이와 같은 개구들에게 구조물 벽의 개구이 부합하도록 와인딩업 스테이션을 베어링한다. 상기 밸브를 폐쇄하고 와인딩업 스테이션을 환기한 후, 전체 플랜트를 환기하지 않고, 플랜트 하우징으로부터 와인딩업 스테이션을 추출하지 않으면서 밴드 스풀의 빠른 교환이 가능하다.

특히 바람직한 구현예에 있어서, 구조물 또는 플랜트 하우징은 적재(loading) 및/또는 비적재(unloading) 개구를 둘러싸는 봉인을 포함한다. 이와 같은 봉인은 유체 압력을 통하여 유리하게 작동될 수 있어서 봉인 및 비활성 위치를 특징으로 한다. 비활성 위치에서는 상기 봉인에 대한 노력을 들이지 않고도 상기 와인딩업 부분의 단순한 추출 및 도입이 가능하다. 봉인된 위치에서는 각각의 개구들이 전체 플랜트를 환기하지 않으면서도 적재 작동을 변경하기 위하여 사용될 수 있다. 유리하게는, 이와 같은 봉인이 하우징의 평면 내부벽에 대항하여 적용될 수 있으며, 필요한 경우 구조물의 테두리 부분에 대항하여 적용하기 위하여 이와 같은 벽에 배치될 수 있다.

유리하게는, 상기 밴드 기재를 가로지르는 개구 및 이와 같은 개구를 폐쇄하는 바디(body)를 구비한 공기 잠금 밸브가 제공될 수 있으며, 상기 바디의 폐쇄 위치는 기재 스풀 또는 지지체를 교환하는 동안에 상기 밴드 기재를 보유하기 위하여 사용될 수 있다.

실시예 및 하기의 상세한 설명에 기초한 도면를 통하여 본 발명의 목적에 대한 보다 상세한 사항 및 이점들을 관찰할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 전체 연속 프로세싱 플랜트의 걔략도(절단면)를 도시하고 있다;

도 2는 도 1에 대하여 90도 각도로 기울인 동일한 연속 프로세싱 플랜트를 도시하고 있으며, 상기 플랜트는 하우징으로부터 추출된 위치에서 와인딩업 스테이션에 대한 구조물을 포함하고 있다;

도 3은 가동 위치에서 상기 하우징에 도입된 구조물을 포함한 연속 프로세싱 플랜트를 도시한 것으로 도 2와 유사한 도면을 도시하고 있다;

도 4는 공기 잠금 밸브를 구비한 와인딩업 스테이션의 측면도 및 구조물 및 하우징의 측면도를 도시하고 있다;

도 5는 도 3의 변형도면으로서, 직렬 형식으로 와인딩업 및 언롤링하기 위하여 두개의 와인딩업 스테이션이 제공되고, 두개의 공기 잠금 밸브가 장치에 통합된다;

도 6은 공기 잠금 밸브의 바람직한 구현예이다.

도 1은 연속 프로세싱 플랜트를 구비한 하우징(1)을 도시하고 있으며, 하우징은 상세히 도시되지 않은 수단에 의해 소개될 수 있다. 한쪽면에 위치한 플랜지(flange)(3)로 둘러싸인 대형 개구를 특징으로 한다(이와 같은 도면에서 개구 내부를 관찰할 수 있다). 도 2 및 3은 이와 같은 주요 개구(5)의 목적을 도시하고 있다. 즉, 개구는 와인딩업 스테이션(10)에 대한 구조물(12)의 도입 및 추출을 가능하게 하고, 그 결과 밴드 물질의 전체 스탁(stock)의 도입 및 추출을 가능하게 하며, 상기 밴드 물질은 플랜트 내부에서 하나의 프로세싱 단계에서 처리된다. 상기 플랜지(3)상에 포위 봉인(4)이 제공된다.

상기 하우징(1)의 바닥 영역에는 프로세싱 세트(B)가 유일하게 표시되고, 상기 프로세싱 세트는 예를 들면 적어도 하나의 스퍼터링 캐소드(sputtering cathode)를 포함할 수 있다. 모든 우회(by-pass) 및 냉각 실린더들은 롤링업 시스템의 일부이며, 상기 구조물(12)상에 조립된다. 도 1이 보다 감소된 지름을 갖는 일부의 우회 실린더의 위치를 나타내는 반면에, 보다 낳은 가시도(visibility)를 위해 이들 우회 실린더들이 도 2 및 3에서는 재연되지 않는다. 오직 2개의 실린더만이 도시된다. 즉, (상부) 롤링업 또는 와인딩업 실린더(17) 및 냉각 또는 코팅 실린더만이 하부에 위치한다.

도 2는 추출된 위치에서 구조물(12)을 도시하고 있으며, 전체 플랜트, 즉 전체 하우징(1)이 환기된다.

도 3은 하우징(1)에 도입된 구조물(12)의 가동 위치를 도시하고 있다. 하기에서, 오직 와인딩업 스테이션만이 추후 기술될 것이다. 즉, 이차 와인딩업 스테이션은 기술된 것과 유사한 기능으로 구조화된다. 이와 같은 스테이션이 도 2 및 3에 위치하며, 관찰된 방향에서는 감추어져 있고, 와인딩업 스테이션/실린더(17) 뒤에 위치하며; 도 1 및 5 모두에서는 관찰되어진다.

도 2 및 3의 교차점 궤도는 도 1에서 다중 단선을 갖는 점선으로 표시된다. 도 1의 두개의 와인딩업 스테이션(17) 사이의 분리벽은 기능적으로 필요하지 않으며, 상호 독립적인 방식으로 두개의 와인딩업 스테이션을 환기시킬 의도가 없을 경우 궁극적으로 폐기될 수 있다. 도 1은 절단되어 양쪽으로 가로지르는 하우징(1), 및 통합된 실린더를 구비한 하우징에 포함된 구조물(12)을 특징으로 한다.

코팅되어질 밴드 기재는 프로세싱 스테이션(B)을 통하여 언롤링 실린더(17)로부터 그 하부에 위치한 코팅 실린더 쪽으로 안내될 수 있다. 상기 코팅 실린더는 분명히 서로 다른 스퍼터링 캐소드를 포함할 수 있다. 결국, 상기 기재는 위쪽으로 안내되어 와인딩업 실린더(도 1에서 또한 관찰될 수 있는)에 의해 수용된다.

하우징(1)의 상부벽 및 내벽(6)상에(와인딩업 스테이션(10) 상부) 정상적으로 챔버 덮개(8)로 폐쇄되는 개구(7)가 제공된다. 상기 개구는 개구(7)를 둘러싸고, 외주면 봉인(9)에 의해 안전하게 봉인되는 내벽의 가장자리에 제공된다. 도 1에서 관찰되는 바와 같이, 각각의 와인딩업 스테이션에 대하여 챔버 덮개(8)와 봉인(9)을 구비한 분리된 개구(7)가 제공된다.

동일한 개구로부터 평면 내벽(6)이 (챔버면 상에 위치한) 펌프 소켓(미도시)의 내부 개구에서 형성된다.

유리하게는, 상기 챔버 덮개(8)는 도입 위치에서 와인딩업 스테이션으로 개방될 수 있다.

지지체(12)는 폐쇄되고 와인딩업 스테이션(10)에 속하는 플레이트 유사 베이시스(11)를 지탱한다. 지지체는 또한 상부 개구(13) 및 지지체를 외주면상으로 둘러싸고 유체 압력으로 바람직하게 팽창성인 활성 봉인(14), 폐쇄(저항성) 장착 플레이트(15), 베이시스(11)과 장착 플레이트(15)에 단단하게 배치된 두개의 기재 스풀 또는 곤포용 소켓 및 상기 소켓(160에 회전가능하게 적용되는 기재 스풀(17)을 포함한다. 그 아래 위치한 코팅 실린더는 언와인딩 실린더와는 독립적으로 특정 장착 소켓상에 장착된다.

봉인(14)은 개구(13)를 둘러싼 플랜지상에 제공된다. 즉, 가동에 필요한 유체 압력 연결은 도면을 간단히 하기 위하여 도시되지 않았다. 바람직하게는, 상기 봉인은 활발하게 사용되지 않을 경우 기계적인 손상으로부터 안전하게 보호하기 위하여 상기 플랜지의 둘러싸고 있는 홈 내부에 제공될 것이다.

베이시스(11) 및 장착 플레이트(15)는 구조물(12)의 폐쇄 측벽을 포함한다. 구조물(12)의 상부 부분은 전체적으로 본질적으로 폐쇄되고 상기 기재 스풀(17)을 둘러싸는 챔버를 형성하고, 상기 챔버는 개구(13)만을 통한 접근을 제공한다.

도 3은 봉인(14)의 기능적 세부사항을 도시하고 있으며, 봉인은 하우징(1) 내부로 구조물(12)이 도입된 후 팽창되고, 상기 하우징의 내벽(6)에서 개구(13) 주위에서 병렬 위치로 존재한다. 상기 봉인은 상기 와인딩업 스테이션(10)의 최종 또는 가동 위치에서 플레이트 유사 베이시스(11)의 가장자리가 하우징(1) 개구(5)의 플랜지(3)상에 외주면상으로 존재하고, 봉인을 폐쇄하고, 이의 내부 표면은 봉인(4)을 지탱한다. 그러므로, 상기 개구(5)는 단단히 폐쇄되고, 베이시스(11)가 이와 같은 위치에서 상기 하우징(1)의 벽을 형성한다.

도 3에 상기 카운터-플레이트(15) 하부에 위치한 콘솔(1K)이 표시되어 있으며, 콘솔위에 상기 구조물(12), 즉 챔버가 필요한 경우 하우징(1) 내부에서 지지될 수 있다. 이와 같은 매우 단순화된 표현과는 상이하게, 하우징(1) 안에서 안내 레일 또는 이와 유사한 장치 형태의 구조물(12)에서 및 카운터 플레이트(15) 상에서 해당 카운터 단편을 구비한 이와 같은 지지체가 제공될 수 있으며, 이로써 실린더 전체 세트가 삽입 조건에서 뿐만아니라 각각의 추출과정중 및 도입 단계에서도 지 지될 수 있다.

상기 와인딩업 스테이션(10)의 구조물(12)에 존재하는 개구(13)는 충분히 크며, 이로써 내벽(6)의 개구(7)를 챔버 덮개(8)와 겹치도록 위치한다. 그 결과, 팽창성 봉인(12)이 상기 개구(7)를 둘러싼다.

표시된 것과 상이하게, 팽창 조건하에서 구조물(11)의 개구(13)를 둘러싸는 플랜지에서 병렬배치되도록 하우징(1) 내벽(6)의 동일한 지점에 봉인(14)이 제공될 수 있다.

프로세싱 플랜트를 작동하기 전 및 하우징(1) 내부 구조물(12)의 정확한 고정후 펌프(미도시)에 의해 공기 흡입을 통하여 하우징 구조물을 소개한다. 봉인(14)은 하우징(1)의 평면 내벽(6)에 대항하여 적용될 수 있으며(봉인된 위치), 도시되지 않은 상기 유체 연결에 걸쳐서 봉인에 압력을 적용한다.

그럼에도 불구하고, 하우징(1)이 와인딩업 스테이션과 프로세싱 스테이션 모두를 포함하고, 이로써 두개의 스테이션이 동시에 소개되기 때문에 상기 프로세싱 플랜트의 정상적인 가동중에 봉인이 항상 활성화될 필요는 없다. 잔여 하우징(1)과 독립적으로 와인딩업 스테이션(10)을 환기시키고자 할 경우, 즉 챔버 덮개(8)를 개방하려고 할 경우에만 봉인(14)이 오직 효과적으로 필요할 것이다.

하우징(1)에 대한 와인딩업 스테이션(10)의 이동상중에 -즉, 플랜트가 가동상태가 아닌 경우, 예를 들면 챔버 덮개(8)를 개방한 후에는 단순하게 수행될 수 없는 유지보수 또는 세척 공정중에- 또는 (와인딩업 챔버(10)를 포함하여) 하우징(1)이 완전히 소개되었을 경우, 상기 봉인(14)이 팽창되거나 (이의 내부 압력이 중 화될 것이고) 보다 낮은 하위압력에 노출될 것이다. 결과적으로, 봉인은 착석 홈(후퇴 위치)으로 후퇴될 것이고, 이 위치에서 마찰 및 손상으로부터 보호될 것이다.

도 2 및 3의 비교에서 알 수 있는 바와 같이, 하우징(1)에 대한 구조물(12)의 이동은 각각 와인딩업 스테이션(10) 축 또는 기재 스풀(17) 축에 평행하다.

상기 기재 스풀(17) 하부에서 밴드 기재(17S)가 구조물(12)의 언와인딩 스테이션(10)으로부터 프로세싱 모듈(B)에서 아래방향으로 안내된다. 와인딩업 챔버의 해당 개구 또는 와인딩업 스테이션(10)의 해당 개구는 상기 하우징(1)과 프로세싱 스테이션(B)에 대하여 공기 잠금 밸브(18)에 의해 잠금될 수 있다. 상기 공기 잠금 밸브는 상기 이동가능한 구조물(12) 내부에 제공되며, 구조물(12)의 개방 및 추출과정중 하우징으로부터 제거된다.

공기 잠금 밸브(18)는 하우징(1) 전체를 환기하지 않으면서도 와인딩업 스테이션(10) 내부에 존재하는 기재 지지체 또는 스풀(17)을 교환할 수 있게 한다. 이후 기술되는 바와 같이, 폐쇄 위치에서 상기 공기 잠금 밸브(18)는 와인딩업 스테이션(10)과 프로세싱 스테이션(B)간에 틈이 발생하지 않도록 잠금한다. 공기 잠금 밸브는 플랜트 가동중에 상기 밴드 기재가 접촉없이 통과할 수 있도록 비교적 큰 자유 횡단 부분(free transversal section)을 제공하는 정지(static) 밸브로 설계된다.

도 4는 와인딩업 스테이션(10)의 별도의 기울인 도면을 도시하고 있다. 상기 도면은 챔버 덮개(8)에 의해 폐쇄된 하우징(1)의 개구(7)가 하우징(1)에 대하여 와인딩업 스테이션을 교체하지 않고 챔버 덮개(8)를 개방한 후 기재 스풀(17)을 교환 즉, 들어올리고, 새로운 기재 스풀을 삽입하기에 충분히 크다는 것을 나타내고 있다.

이와 같은 도면에서 기재 스풀(17)로부터 제거될 수 있는 탄력성 기재(17S)가 개략적으로 표시된 하나의 바이패스 실린더에 의하여 공기 잠금 밸브(18)를 통해 구조물(12)로부터 와인딩업 스테이션 하부에 제공된 프로세싱 모듈(B)로 전달되는 방법을 이해할 수 있다. 상기 공기 잠금 밸브는 구조물(12)에 단단히 장착되어 있다.

와인딩업 스테이션(10)의 구조물(12)은 상기 공기 잠금 밸브(18)를 수용하는 개구 및 상기 기재 스풀(17)의 오른쪽 및 왼쪽 측면에서 관찰될 수 있는 측벽을 구비한 또 다른 바닥 부분에 의해 앞서 언급한 바와 같이 공지의 베이시스(11)와 장착 플레이트(15)(도 4 및 5)로 둘러싸인 챔버를 형성한다.

이와 같은 챔버를 챔버 덮개(8)에 의해 폐쇄되고 봉인(14)에 의해 외주 봉인된 개구(7)를 통하여 외부에서 접근할 수 있으며, 또한 상기 프로세싱 플랜트의 하우징(1) 내부에서 가동 조건하에 있을 경우에도 접근할 수 있다.

또한, 도 4에 따른 와인딩업 스테이션(10)을 마주보고, 프로세싱 모듈(B)을 초과하여(아래로) 또 다른 유사 와인딩업 스테이션(미도시)이 제공되며, 개구를 통하여 하우징(1)으로부터 기재 스풀을 제거하고 궁극적으로 교체하는 가능성을 포함하여 유사 와인딩업 스테이션은 와인딩업 스테이션(10)에 대한 반사 위치에서 상상될 수 있다.

와인딩업 스테이션(10)이 서로 독립적으로 개방되고 환기될 수 있으며, 즉 하나의 장치가 환기되는 동안 다른 장치는 소개된채로 유지될 수 있고(이와 같은 경우 도 1에 도시된 분리벽이 자연적으로 가동에 필요하다), 또는 두 개의 와인딩업 스테이션이 연합하여 환기될 수 있다는 것이 제공될 수 있다. 연합 환기될 경우 와인딩업 스테이션들은 서로 분리되어 봉인될 필요가 없다.

도 1의 원리에 해당하는 이와 같은 이차 와인딩업 스테이션(10)이 동일 구조물(12) 내에 제공되며, 와인딩업 스테이션(10)에 대하여 안정한 위치를 갖는다. 결과적으로 봉인(14)을 개방한 후 구조물(12)에 의해 하우징(1)으로부터 두개의 장치가 함께 제거될 수 있다.

가동중에는 상기 공기 잠금 밸브(18)가 예를 들면 대기압 및 진공 사이의 상당한 압력차를 안전하게 제거할 수 있다.

그러나, 상기 공기 잠금 밸브는 한쪽 면에서는 자유로운 통과 및 기재 유동을 가능하게 하기 위하여 개방될 수 있고, 및 다른쪽 면에서는 실행가능한 횡단, 즉 새로운 기재의 도입을 가능하게 하기 위하여 개방될 수 있으며, 앞서 처리되는 경우에는 탄력성 기재가 플랜트로부터 완전하게 제거된다. 분명하게는, 밸브의 개구 넓이는 처리되어질 기재의 크기(특히 넓이)로 조절된 수단으로 치수가 정해질 것이다.

알려진 방식으로 말단 부분에 새로운 밴드 기재를 고정하고, 오래된 잔존 구획(segment)에 의해 복잡한 수동 도입 절차를 대신하여 새로운 밴드 기재를 도입하고 횡단하기 위하여 공기 잠금 밸브(18)에 의해 완성된 밴드 기재의 말단 부분이 유지될 수 있다.

결국, WO-A1 99/50472에 기술된 것과 동일한 방식으로 공기 잠금 밸브를 설계하는 것이 기본적으로 가능하다. 그러나, 다른 구현예들도 사용될 수 있다. 하나의 구현예가 도 5에 기초하여 개략적으로 설명될 수 있다.

결과적으로, 상기 공기 잠금 밸브(18)는 언와인딩 스테이션(10)의 완전한 추출이 없이 기재 스풀을 교환하기 위하여 앞서 기술된 선택사항에 매우 필수적이다. 상기 공기 잠금 밸브는 이후 소개되어질 프로세싱 모듈(B)의 유사한 환기 없이 상기 챔버 덮개(8)를 개방하는 것을 폐쇄 조건하에서 실행할 수 있도록 한다.

도 5는 와인딩업 모듈(10')내 조밀한 공지의 구조물(12")에 직렬로 배치된 두 개의 와인딩업 스테이션을 포함한 본 발명에 따른 프로세싱 플랜트의 또 다른 구현예를 도시하고 있다. 이와 같은 프로세싱 플랜트는 두개의 기재 스풀(17)이 공지의 챔버 덮개(8")을 통하여 접근될 수 있어서 하우징(1)에서 오직 하나의 개구만이 제공되고 봉인된다는 이점을 제공한다.또한 이와 같은 설계에서는 일반적으로 와인딩업 스테이션을 위해 그리고 보다 단순한 방식으로 외주면 봉인(14)이 제공될 수 있다.

또한, 비록 분명하게 기재 부분을 각각 추출 및 도입하기 위하여 특정/독립적인 밸브 기능이 제공되어져야 하지만 두개의 공기 잠금 밸브(18)가 서로 결합하여 하나의 조립 장치(18')를 구성한다.

도 6은 본 명세서에 기술된 연속 장치의 구문에서 바람직하게 사용될 수 있는 공기 잠금 밸브(18)의 일 구현예를 통한 절단을 특징으로 한다. 상기 공기 잠금 밸브(18)를 횡단하는 기재(17S) 및 보다 가까운 감각으로는 밸브에 의해 폐쇄될 수 있는 개구(19)(틈과 유사한)를 인식한다. 또한 상기 밸브(18)의 일부는 점선으로 표시된 도시된 폐쇄 위치 및 개방 위치 사이에서 축(20) 주위의 하우징 또는 구조물안에 회전가능하게 장착된 실린더형 밸브 바디(21)이다. 그럼에도 불구하고, 상기 실린더 바디(21)가 상기 기재(17S)상에 롤링될 수 있지만, 프로세싱 플랜트의 연속 가동에서 상기 밸브 바디(21)가 기재(17S)와 접촉하지 않을 것으로 예상된다. 이와 같은 점을 분명히 하기 위하여, 개방 밸브(18)를 구비한 상기 기재(17S)의 대략적인 궤도를 점선으로 표시하고 있다. 그럼에도 불구하고, 배출되고 마감/코팅된 기재 부분에서 플랜트 성분과의 마찰적 접촉은 가능한한 피해야 한다(공지의 플랜트에서 밸브에 최소의 공기 간격이 때때로 제공된다).

개구(19)가 마감되는 밸브 바디(21)를 향하여 돌려진 하우징 내부의 면이 상기 개구의 가장자리 부분(상기 개구가 동시에 봉인 표면(22)으로 제공하거나 봉인 표면으로 형성될 수 있다)과 폐쇄 위치로 전달된 밸브 바디(21) 사이의 기재(17S)가 공정에서 배타적으로 휘어지지 않으면서 마비 조건하에 장착될 수 있는 방식으로 형성된다. 봉인 가장자리쪽을 향하는 표면(22)은 밴드 기재 평면을 향하여 비스듬하게 적용된다. 또한 밸브 바디(21)에 의해 폐쇄되어, 궁극적으로 중간 위치에서 기재(17S)를 포함할 수 있는 봉인 표면(22)은 개구(19)에서 (궁극적으로 부드럽고 탄성이 있는 물질을 가장자리 또는 표면 봉인으로 사용하여) 밸브 바디(21)가 기재와 독립적으로 또는 연합하여 강제로 적용되는지 여부와는 독립적으로 만족스런 봉인 효과를 보장하는 방식으로 설계된다.

바람직하게는, 상기 공기 잠금 밸브(18)은 분리된 모듈로서 구조물(12 또는 12')에 제공될 것이다. 상기 공기 잠금 밸브는 특히 도 4에 도시된 두개의 공기 잠금 밸브중 하나의 밸브 블럭으로의 융합을 위해 적용되며, 상기 공기 잠금 밸브는 서로 독립적으로 가동될 수 있다.

앞서 언급한 바와 같이, 이와 같은 구현예는 플랜트 내부에 여전히 존재하는 기재를 갖는 한쪽 면에서는 상기 와인딩업 스테이션(10 또는 10')의 환기를 가능하게 하는 반면에, 프로세싱 모듈 B는 소개되어 있고, 다른쪽 면에서는 기재 스풀의 교환후에 밸브에 고정된 잔여 밴드 구획에 의해 새로운 밴드 기재가 삽입될 수 있다. 이를 위해 새로운 밴드 기재의 초기 구획이 잔여 밴드 구획으로 연결될 것이다.

Claims (14)

1. 각각이 탄력성 기재(substrate)를 언롤링(unrolling) 및 와인딩업하는(winding-up) 와인딩업 스테이션(winding up station)(10;10'), 이와 같은 두 개의 스테이션 사이의 기재 통과에 제공되는 적어도 하나의 프로세싱 스테이션(processing station)(B), 및 와인딩업 스테이션(10;10')과 적어도 하나의 프로세싱 스테이션 사이에 각각이 통합되고, 상기 와인딩업 스테이션 및 적어도 하나의 프로세싱 스테이션에서 서로 다른 압력 레벨을 제공하도록 설계된 밸브(18)를 포함하고, 상기 와인딩업 스테이션이 이동가능한 베이스(11) 상에 제공되고 기재를 교환하기 위하여 플랜트로부터 추출될 수 있는, 통과중인 탄력성 기재(17S)를 프로세싱하는 연속 프로세싱 플랜트에 있어서,

   - 상기 와인딩업 스테이션(10;10') 및 프로세싱 스테이션(B)은 상반되게 이동가능한, 서로 다른 베이스 안에 또는 위에 배치되고, 프로세싱 스테이션의 베이스는 고정되며 상기 프로세싱 스테이션을 둘러싸고 가동조건에서는 상기 와인딩업 스테이션(10;10')을 또한 둘러싸는 하우징(1)의 일부로 설계되며, 상기 하우징은 밸브(18)를 포함하며,

   - 상기 와인딩업 스테이션(10;10')은 구조물(12) 내부에 제공되고, 이의 베이스(11)를 포함하며, 가동상태에서 프로세싱 스테이션의 하우징(1) 내부로 통합되는 밸브(18)를 통해 잠금가능한 개구(opening)를 특징으로 하고,

   상기 밸브(18)가 개방된 조건에서는 상기 프로세싱 스테이션(B)과 와인딩업 스테이션(10;10') 모두가 함께 소개될 수 있고, 상기 밸브(18)가 폐쇄된 상태에서는 상기 프로세싱 스테이션(B)이 상기 와인딩업 스테이션에 대항하여 봉인 방식으로(in a sealed manner) 잠김으로써 상기 와인딩업 스테이션이 상기 프로세싱 스테이션과는 별개로 환기될 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
2. 제1항에 있어서, 상기 와인딩업 스테이션의 베이스(11)가 기재 지지체(17)에 대한 적어도 하나의 지지체(16)를 포함하는 상기 구조물(12)의 벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 와인딩업 스테이션의 베이스(11)가 플랜트 가동상태에서 상기 하우징(1)의 적어도 하나의 벽 부분을 형성하는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
4. 제1항에 있어서, 상기 와인딩업 스테이션의 구조물(12)이 공통의 베이스(11) 및 장착 플레이트(mounting plate)(15)에 의해 둘러싸이면서, 또한 공기 잠금 밸브(18)를 향하고 있는 개구를 구비한 또 다른 벽 및 측벽들에 의해 둘러싸여 있는 챔버를 형성하는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
5. 제1항에 있어서, 상기 하우징(1)이 챔버 덮개(8)로 잠금가능한 적어도 하나의 와인딩업 스테이션용 적재(loading) 및 비적재 개구(7)에 의해 특징지워지는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
6. 제4항에 있어서, 하우징(1) 내부에 구조물(12)을 구비한 상기 챔버 구조물(12)의 개구(13)가 챔버 덮개(8)에 의해 폐쇄되는 개구(7)를 향하고, 상기 챔버 덮개(8)를 개방한 후 기재 지지체(17)를 교환할 수 있도록 상기 개구(13)의 상부에 챔버 덮개가 정렬되는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
7. 제6항에 있어서, 상기 개구(13)가 플랜트의 가동 상태에서 상기 하우징(1)의 내벽(6)과 개구(13)의 가장자리 사이에 적용될 수 있는 봉인(seal)(14)으로 둘러싸이고, 상기 봉인(14)은 구조물(12) 또는 하우징(1) 내부에 제공되는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
8. 제7항에 있어서, 상기 봉인(14)이 하우징의 평면 내벽(6)에 대항하여 적용될 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
9. 제7항에 있어서, 상기 봉인(14)이 봉인 위치에서 압력에 노출되어 유체 압력에 의해 조절될 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
10. 제7항에 있어서, 플랜트의 소개(evacuation) 연결이 봉인(14)으로 둘러싸인 영역에 존재하는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
11. 제1항에 있어서, 적어도 하나의 공기 잠금 밸브(18)가 와인딩업 스테이션(10)의 구조물(12) 내부에 제공되는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
12. 제11항에 있어서, 상기 공기 잠금 밸브(18)가 둘러싸고 있는 봉인 표면(5), 기재(17)를 통과시키기 위해 제공되는 개구(19) 및 상기 개구(19)를 폐쇄하는 바디(21)를 포함하고, 상기 바디는 봉인 표면의 가장자리 부분에서 병렬배치(juxtaposition)를 통해 개구(19)를 막는 방식으로 봉인 표면 및 개구(19)를 통해 연장되는 상기 기재(17) 표면에서 압착될 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
13. 제12항에 있어서, 상기 밴드 기재는 공기 잠금 밸브(18) 내부에 고정된 잔존 밴드 부분에 의한 새로운 기재의 도입을 지지하기 위하여 바디(21)에 의해 개구(19) 내부에 부착될 수 있는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.
14. 제1항에 있어서, 상기 밸브(18)들이 개별적으로 또는 연합하여 각각의 하우징 또는 구조물 내부에 배치되고, 구조물(12) 내부에 부착되는 것을 특징으로 하는 연속 프로세싱 플랜트.

Images