CN113862632A - 一种柔性镀膜设备的真空腔室 - Google Patents

一种柔性镀膜设备的真空腔室 Download PDF

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Abstract

本申请涉及一种真空腔室，尤其是涉及一种柔性镀膜设备的真空腔室，其技术方案要点是：一种柔性镀膜设备的真空腔室包括溅镀腔室、主鼓以及阴极组件；溅镀腔室内部设置有隔舱机构，隔舱机构包括前法兰和后法兰，前法兰与后法兰之间设置有隔舱，隔舱设置在主鼓的一侧并沿主鼓的轴线方向延伸；隔舱靠近主鼓的一侧开设有用于连通隔舱与溅镀腔室的溅镀窗口，溅镀窗口沿隔舱的长度方向延伸，且溅镀窗口的两端分别设置有能够隔舱长度方向滑动的遮板，遮板的宽度不小于溅镀窗口的宽度；达到了实现镀膜幅宽的调整，以适用于对不同幅宽规格的柔性薄膜的镀制的目的。

Description

一种柔性镀膜设备的真空腔室
技术领域
本申请涉及一种真空腔室，尤其是涉及一种柔性镀膜设备的真空腔室。
背景技术
目前，柔性导电薄膜沉积技术已在柔性触摸屏以及锂电池等行业广泛推广，柔性薄膜通过卷绕镀膜设备在真空环境下完成镀制。
当前业界主要通过在溅镀腔室内设置多个隔舱，将溅镀腔室分为多个等容积或不等容积的磁控溅射空间，在每个磁控溅射空间内对各个柔性薄膜卷单独进行相同靶材材质溅镀物的溅射；具体的，溅镀腔室的一侧设置有阴极组件，阴极组件包括能够插入隔舱内部的靶材；溅镀腔室的另一侧设置有能够置入溅镀腔室内部并用于放置柔性薄膜的卷绕组件，具体的，卷绕组件包括能够围绕自身轴线定轴转动的主鼓，柔性薄膜贴合在主鼓的周面上。
针对当前业界的柔性镀膜设备，发明人发现一些相关技术中的柔性镀膜设备存在的各种问题：1、镀膜幅宽为固定规格，无法适应不同幅宽规格的柔性薄膜；2、溅镀物易绕镀在柔性薄膜卷意外的区域；3、不同隔舱之间易发生工艺气体串气的情况，进而影响镀膜质量。
发明内容
为了实现镀膜幅宽的调整，以适用于对不同幅宽规格的柔性薄膜的镀制，本申请提供一种柔性镀膜设备的真空腔室。
本申请提供的一种柔性镀膜设备的真空腔室采用如下的技术方案：
一种柔性镀膜设备的真空腔室，包括溅镀腔室、主鼓以及阴极组件；溅镀腔室内部设置有隔舱机构，隔舱机构包括前法兰和后法兰，前法兰与后法兰之间设置有隔舱，隔舱设置在主鼓的一侧并沿主鼓的轴线方向延伸；隔舱靠近主鼓的一侧开设有用于连通隔舱与溅镀腔室的溅镀窗口，溅镀窗口沿隔舱的长度方向延伸，且溅镀窗口的两端分别设置有能够隔舱长度方向滑动的遮板，遮板的宽度不小于溅镀窗口的宽度。
通过采用上述技术方案，溅镀物通过溅镀窗口溅射在贴合于主鼓周面上的柔性薄膜表面，实现对柔性薄膜的镀制；当需要对幅宽较小的柔性薄膜进行镀制时，滑动两个遮板以使两个遮板向相互靠近的方向移动，以增大对溅镀窗口的遮挡面积即减小溅镀窗口的有效幅宽，进而减小了溅镀物的有效溅射面积；当需要对幅宽较大的柔性薄膜进行镀制时，滑动两个遮板以使两个遮板向相互背离的方向移动，以减小对溅镀窗口的遮挡面积即增大溅镀窗口的有效幅宽，进而增大了溅镀物的有效溅射面积；综上，本申请实现了镀膜幅宽的调整，以适用于对不同幅宽规格的柔性薄膜的镀制。
可选的，隔舱的外周面上固定有盖板，溅镀窗口开设在盖板上；遮板上穿设有多个滑动螺钉，滑动螺钉上旋拧有位于遮板背离盖板一侧的定位螺母；盖板上开设有供滑动螺钉沿隔舱长度方向滑动的调节槽，定位螺母用于将遮板压紧在盖板上。
通过采用上述技术方案，当需要滑动遮板时，推拉遮板以使滑动螺钉在调节槽内部沿隔舱的长度方向滑动，进而实现对遮板滑动的导向作用；定位螺母的设置，实现对遮板的固定作用，防止在溅镀物溅射的过程中，由于遮板的移动而导致镀膜幅宽的波动，进而导致镀膜效果变差。
可选的，隔舱设置有多个并围绕主鼓的轴线分布；相邻隔舱之间设置有挡板，挡板沿隔舱的长度方向延伸并沿主鼓的径向延伸，挡板可拆卸连接于前法兰与后法兰之间。
通过采用上述技术方案，当需要对柔性薄膜进行同种靶材镀制时，随着主鼓的转动，多个隔舱同时向贴合在主鼓上的柔性薄膜表面溅射相同溅镀物，以使柔性薄膜表面能够尽快镀制所需厚度的镀层，提高了镀制效率；当需要对柔性薄膜进行不同靶材镀制时，只需向隔舱内部提供不同的靶材即溅射源，进而随着主鼓的转动，多个隔舱能够向贴合在主鼓上的柔性薄膜表面依次溅射不同溅镀物，以使柔性表面形成多层不同的镀层。
可选的，调节槽为阶梯槽，定位螺母的头部下沉至调节槽内部；盖板上可拆卸连接有用于密封调节槽的盖片。
通过采用上述技术方案，针对向柔性薄膜进行不同靶材的镀制情况，盖片的设置能够减少隔舱内部的溅镀物通过调节槽从隔舱内部逸出，并通过其它隔舱上的调节槽进入其它隔舱内部而造成隔舱之间串气情况的发生。
可选的，盖板上设置有两个沿溅镀窗口长度方向延伸的侧沿，两个侧沿分别靠近溅镀窗口的两个长边设置，侧沿向盖板背离隔舱内部的一侧延伸。
通过采用上述技术方案，侧沿的设置有效缩减了主鼓与溅镀窗口之间的距离，大幅度减少了溅镀物从溅镀窗口的两侧与主鼓周面之间的空隙通过，进而减少了溅镀物弥散至溅镀腔室以及其它隔舱内部而造成隔舱之间串气情况的发生。
可选的，两个遮板相互靠近的一端设置有位于溅镀窗口内部的折边，折边向遮板背离隔舱内部的方向延伸，且折边沿溅镀窗口的宽度方向延伸；折边背离遮板的一侧形状为与主鼓同轴分布的圆弧，该圆弧的半径大于主鼓的半径。
通过采用上述技术方案，配合侧沿实现对溅镀窗口四周的围挡，减少溅镀物从溅镀窗口有效幅宽的两端与主鼓之间的空隙通过，进一步减少了溅镀物弥散至溅镀腔室以及其它隔舱内部而造成隔舱之间串气情况的发生。
可选的，盖板与遮板之间存在空隙，盖板靠近遮板的一侧设置有多条冷却水道，冷却水道外接有冷却水源。
溅镀物溅射到盖板上时会加热盖板以使盖板温度升高，热量将通过盖板传递至主鼓周面上的柔性薄膜上，柔性薄膜进而由于高温环境而发生损坏。通过采用上述技术方案，冷却水道能够有效对盖板进行降温，进一步解释为，冷却水道中的冷却水能够吸收盖板上的热量，进而有效减少传递至柔性薄膜上的热量，降低柔性薄膜由于高温环境而发生损坏的可能性。
可选的，主鼓设置在溅镀腔室的一侧，溅镀腔室背离主鼓的一侧敞开，溅镀腔室的内壁上设置有沿主鼓轴线方向延伸的轨道；前法兰与后法兰之间设置有多个沿主鼓轴线方向延伸的滑轨，滑轨与轨道相适配。
通过采用上述技术方案，柔性薄膜贴合在主鼓周面上后，将前法兰、后法兰以及各个隔舱一同推入溅镀腔室内部，滑轨与轨道的设置实现导向作用；本申请将各个隔舱通过前法兰以及后法兰等制造为一个有机整体，可整体取出或整体推入，组装拆卸简单并便于定期维护。
可选的，隔舱内部设置有气管，气管外接有工艺气体源；隔舱的一侧设置有与隔舱内部连通的真空管道，真空管道外接有真空系统。
通过采用上述技术方案，将隔舱安装在溅镀腔室内部后，通过真空系统以及真空管道对隔舱内部进行抽真空处理，接着通过气管以及工艺气体源向隔舱内部充入工艺气体，使得隔舱内部处于满足对柔性薄膜进行镀制要求的工艺气体真空环境。
可选的，还包括阴极组件，阴极组件包括能够与前法兰贴合的阴极板，阴极板上设置有能够插入隔舱内部的靶材，前法兰上开设有供靶材穿过的舱口；舱口的边缘处设置有密封圈。
通过采用上述技术方案，密封圈的设置提高了阴极板与舱口之间的密闭性，防止阴极板与舱口之间的空隙对隔舱内部以及溅镀腔室内部的真空环境造成影响。
综上所述，本申请具有以下技术效果：
1.通过设置了能够在溅镀窗口一侧往复滑动的遮板，实现了对镀膜幅宽的调整，以适用于对不同幅宽规格的柔性薄膜的镀制；
2.通过设置了盖片、侧沿以及折边，减少了隔舱内部的溅镀物从隔舱内部溢出，进而减少了溅镀物弥散至溅镀腔室以及其它隔舱内部而造成隔舱之间串气情况的发生；
3.通过设置了连接有冷却水源的冷却水道，进而有效减少传递至柔性薄膜上的热量，降低柔性薄膜由于高温环境而发生损坏的可能性。
附图说明
图1是本申请实施例中的柔性镀膜设备的整体结构示意图，此时对应卷绕组件、隔舱机构以及阴极组件均与溅镀腔室相互拆分的状态；
图2是本申请实施例中的隔舱机构的整体结构示意图；
图3是本申请实施例中的隔舱机构沿垂直于隔舱轴线方向的截面示意图；
图4是图3中A处的局部放大图；
图5是本申请实施例中的盖板位置处的正视图,图中盖片未示出；
图6是本申请实施例中的侧沿与主鼓周面之间以及折边与主鼓周面之间的位置关系示意图。
图中，1、溅镀腔室；11、轨道；12、抽真空管；2、卷绕组件；21、卷绕板；22、主鼓；3、隔舱机构；31、前法兰；311、舱口；32、后法兰；321、让位孔；322、安装槽；33、隔舱；34、溅镀窗口；35、幅宽调节组件；351、遮板；352、安装法兰；353、盖板；354、调节槽；355、滑动螺钉；356、定位螺母；357、盖片；358、侧沿；359、折边；36、滑轨；4、挡板；41、安装块；5、冷却水道；6、气管；71、真空管道；72、真空连接块；73、真空接口；8、阴极组件；81、阴极板；82、靶材；9、密封圈。
具体实施方式
以下结合附图对本申请作进一步详细说明。
参照图1，本申请提供了一种柔性镀膜设备的真空腔室，包括内部中空且两侧敞开的溅镀腔室1，溅镀腔室1的一侧设置有用于放置柔性薄膜的卷绕组件2，溅镀腔室1的另一侧设置有用于为柔性薄膜提供溅镀物的阴极组件8，阴极组件8与卷绕组件2之间设置有用于引导溅镀物溅射在柔性薄膜表面上的隔舱机构3。
具体的，参照图1，卷绕组件2包括设置在溅镀腔室1开口一侧的卷绕板21以及转动连接在卷绕板21靠近溅镀腔室1一侧的主鼓22，卷绕板21能够与溅镀腔室1的开口侧贴合并对该侧进行密封，主鼓22的轴线与卷绕板21垂直并能够围绕自身轴线定轴转动，柔性薄膜贴合在主鼓22的周面上并能够随着主鼓22转动。
参照图1和图2，隔舱机构3包括能够从溅镀腔室1的另一侧开口推入溅镀腔室1或从溅镀腔室1内部拉出，进一步设置为，隔舱机构3包括两个相互平行的前法兰31和后法兰32，后法兰32靠近卷绕板21设置并与卷绕板21平行；后法兰32靠近主鼓22轴线的边角处开设有供主鼓22通过并进入到前法兰31与后法兰32之间的让位孔321，让位孔321为四分之一圆孔；前法兰31与后法兰32之间固定有沿平行于主鼓22轴线方向延伸且内部中空的隔舱33，隔舱33的形状可以为矩形、圆柱形或其它形状，在本实施例中，隔舱33为轴线与主鼓22轴线平行的圆柱形隔舱33，前法兰31上开设有用于贯通隔舱33靠近前法兰31一端的舱口311，舱口311的直径等于隔舱33的直径；隔舱33靠近主鼓22轴线的一侧开设有沿隔舱33轴线方向延伸的溅镀窗口34，进而当主鼓22进入到前法兰31与后法兰32之间时，溅镀窗口34能够朝向主鼓22周面。
参照图1，阴极组件8包括设置在前法兰31背离后法兰32一侧的阴极板81，阴极板81靠近前法兰31的一侧固定有至少一个能够插入隔舱33内部的靶材82，靶材82的轴线与隔舱33的轴线平行，阴极板81能够与溅镀腔室1背离卷绕板21的一侧表面贴合并将溅镀腔室1背离卷绕板21一侧的开口封闭起来，与此同时阴极板81与前法兰31贴合并将舱口311封闭。
参照图1和图2，当需要对贴合在主鼓22上的柔性薄膜进行镀制时，将隔舱机构3插入溅镀腔室1内部并将卷绕组件2安装在溅镀腔室1上，此时主鼓22进入到前法兰31与后法兰32之间，并使溅镀舱口311朝向主鼓22周面即柔性薄膜表面；接着对隔舱33以及溅镀腔室1内部进行抽真空处理并向隔舱33内部充入工艺气体如氩气，以营造满足镀制要求的镀制环境；启动阴极板81，靶材82进而在隔舱33内部溅射出溅镀物，这些溅镀物进而通过溅镀窗口34溅射在主鼓22周面上，柔性薄膜随着主鼓22转动的过程中接受溅镀物的轰击，溅镀物进而轰击在整个柔性薄膜上以完成镀制；为了提高隔舱33内部的密封性，舱口311的边缘处固定有密封圈9，防止阴极板81与舱口311之间的空隙对隔舱33内部以及溅镀腔室1内部的真空环境造成影响。
但由于溅镀窗口34的开口宽度无法改变，进而无法调整镀膜幅宽，为此，参照图2和图3，隔舱33上设置有用于对溅镀窗口34进行局部遮挡以改变溅镀窗口34的有效面积，继而实现溅镀物溅射宽度即镀膜幅宽的幅宽调节组件35。
具体的，参照图4和图5，幅宽调节组件35包括固定在隔舱33靠近主鼓22轴线一侧的安装法兰352，安装法兰352沿平行于主鼓22轴线的方向延伸；安装法兰352背离隔舱33的一侧固定有沿平行于主鼓22轴线方向延伸的盖板353，溅镀窗口34同时贯穿盖板353、安装法兰352以及隔舱33舱壁开设，其中安装法兰352与隔舱33之间、盖板353与隔舱33之间的固定方式可以是焊接、栓接、铆接或其它固接方式；溅镀窗口34的两端分别设置有一个遮板351，遮板351设置在盖板353靠近隔舱33内部的一侧，遮板351的宽度不小于隔舱33上溅镀窗口34的宽度，两个遮板351能够向相互靠近或背离的方向移动，以实现对溅镀窗口34在宽度方向上的遮挡。
当需要对小宽幅的柔性薄膜进行镀制时，使两个遮板351向相互靠近的方向移动，以增大对溅镀窗口34的遮挡面积即减小溅镀窗口34的有效幅宽，进而减小了溅镀物的有效溅射面积；当需要对幅宽较大的柔性薄膜进行镀制时，滑动两个遮板351以使两个遮板351向相互背离的方向移动，以减小对溅镀窗口34的遮挡面积即增大溅镀窗口34的有效幅宽，进而增大了溅镀物的有效溅射面积；这样，实现了对镀膜幅宽的调整，以适用于对不同幅宽规格的柔性薄膜的镀制。
继续参照图4和图5，进一步的，盖板353上开设有两组成对设置的调节槽354，两组调节槽354分别位于溅镀窗口34的两端，每组中的两个调节槽354相互平行并沿溅镀窗口34的长度方向延伸，且每组中的两个调节槽354分别靠近溅镀窗口34的两个长边设置；调节槽354为阶梯槽，遮板351上设置有多个插入调节槽354内部的滑动螺钉355，进一步的，滑动螺钉355的头部搭接在调节槽354宽度尺寸较大的一侧内部，滑动螺钉355的杆部贯穿遮板351并向遮板351背离盖板353的一侧延伸，滑动螺钉355上旋拧有一个带盖的定位螺母356，定位螺母356能够抵紧在遮板351背离盖板353一侧的表面上；在本实施例中，每个调节槽354内部的滑动螺钉355设置有三个。
当需要滑动遮板351时，推拉遮板351以使滑动螺钉355在调节槽354内部沿隔舱33的长度方向滑动，进而实现对遮板351滑动的导向作用；定位螺母356的设置，一方面实现对遮板351滑动的支撑作用，即防止遮板351从盖板353的一侧脱落；另一方面实现对遮板351的固定作用，当遮板351位置调节至预设位置以得到预设的镀膜幅宽时，旋拧定位螺母356直至定位螺母356抵紧在遮板351背离盖板353的表面上，遮板351进而被压紧固定在盖板353上，防止在溅镀物溅射的过程中，由于遮板351的移动而导致镀膜幅宽的波动，进而导致镀膜效果变差。
参照图4，溅镀物溅射到盖板353上时会加热盖板353以使盖板353温度升高，热量将通过盖板353传递至主鼓22周面上的柔性薄膜上，柔性薄膜进而由于高温环境而发生损坏，为了解决此技术问题，盖板353与遮板351之间存在空隙，且盖板353与遮板351之间设置有多个固定在盖板353靠近遮板351一侧的表面上的冷却水道5，在本实施例中，每个盖板353上的冷却水道5设置有四个并沿盖板353的长度方向延伸；冷却水道5外接有冷却水源，二者之间可通过贯穿溅镀腔室1的软管或其它方式实现连接，以二者之间的连接不影响溅镀腔室1的密封性为准；冷却水道5能够有效对盖板353进行降温，进一步解释为，冷却水道5中的冷却水能够吸收盖板353上的热量，进而有效减少传递至柔性薄膜上的热量，降低柔性薄膜由于高温环境而发生损坏的可能性。
参照图1和图2，为了提高镀制效率并可实现同时对柔性薄膜表面进行多种不同靶材82的镀制，隔舱机构3设置有两个且平列设置；每个隔舱机构3中的隔舱33设置有两个并围绕主鼓22的轴线分布，这样，本申请中的柔性镀膜设备的隔舱33共设置有四个并沿主鼓22的轴线分布；当需要对柔性薄膜进行同种靶材82镀制时，使阴极组件8中对应不同隔舱33的靶材82为同种靶材82，随着主鼓22的转动，多个隔舱33同时向贴合在主鼓22上的柔性薄膜表面溅射相同溅镀物，以使柔性薄膜表面能够尽快镀制所需厚度的镀层，提高了镀制效率；当需要对柔性薄膜进行不同靶材82镀制时，更换靶材82以使对应不同隔舱33的靶材82各不相同，进而实现向隔舱33内部提供不同的靶材82即溅射源，随着主鼓22的转动，多个隔舱33能够向贴合在主鼓22上的柔性薄膜表面依次溅射不同溅镀物，以使柔性表面形成多层不同的镀层。
但多个隔舱33的设置，不同隔舱33之间的串气问题也随之产生，导致串气问题的因素在于：1、溅射源随着工艺气体通过调节槽354弥散至溅镀腔室1以及其它隔舱33中；2、溅射源随着工艺气体通过溅镀窗口34与主鼓22周面之间的空隙弥散至溅镀腔室1以及其它隔舱33中；3、弥散至溅镀腔室1内部的不同溅镀物易通过相邻隔舱33之间的空隙进入到其它隔舱33内部。
为此，参照图2和图4，盖板353上设置有用于密封调节槽354的盖片357，盖片357为长度大于调节槽354的长度且宽度大于调节槽354宽度的长方形片状结构，盖片357与盖板353之间通过栓接的方式可拆卸固连；进而能够减少隔舱33内部的溅镀物通过调节槽354从隔舱33内部逸出，并通过其它隔舱33上的调节槽354进入其它隔舱33内部而造成隔舱33之间串气情况的发生。
此外，参照图4和图5，盖板353上设置有两个相互平行并沿溅镀窗口34的长度方向延伸的侧沿358，侧沿358同时向背离隔舱33内部的方向固接或一体成型在盖板353表面上，两个侧沿358分别靠近溅镀窗口34的两个长边设置；再结合图6，两个遮板351相互靠近的一端设置有沿遮板351宽度方向延伸的折边359，折边359同时向遮板351背离隔舱33内部的方向延伸，折边359背离遮板351的一侧为与主鼓22同轴的圆弧，该圆弧的半径大于主鼓22的半径并靠近主鼓22的周面设置。
侧沿358的设置有效缩短了主鼓22周面与溅镀窗口34长边之间的轴向空隙，折边359的设置有效缩短了遮板351端部与主鼓22周面之间的周向空隙，侧沿358与折边359配合共同形成对溅镀窗口34四周实现围挡的矩形框状结构，大幅度减少了溅镀物从溅镀窗口34的两侧与主鼓22周面之间以及溅镀窗口34有效面积的两端与主鼓22周面之间的空隙通过，进而减少了溅镀物弥散至溅镀腔室1以及其它隔舱33内部而造成隔舱33之间串气情况的发生。
进一步的，参照图2和图3，相邻隔舱33之间设置有沿主鼓22径向延伸的挡板4，挡板4可拆卸连接于前法兰31与后法兰32之间，挡板4的长度方向沿平行于隔舱33轴线的方向延伸；挡板4为逸出的溅镀物以及工艺气体起到导向作用，即溅镀物以及工艺气体将顺着挡板4向隔舱33背离主鼓22的一侧弥散，现将隔舱33水平设置，溅镀物以及工艺气体在挡板4的导向作用下向气压较低的溅镀隔舱33底部扩散，而溅射窗口处的气压相比于溅镀隔舱33底部更高，进而逸出的溅镀物以及工艺气体将更少地甚至不会上升并通过其它溅镀窗口34弥散至隔舱33中，进一步减少了溅镀物弥散至溅镀腔室1以及其它隔舱33内部而造成隔舱33之间串气情况的发生。
其中，后法兰32上的让位孔321边缘处开设有沿让位孔321径向延伸的安装槽322，挡板4靠近后法兰32的一端设置有能够嵌入安装槽322内部的安装块41，安装块41与后法兰32之间、挡板4靠近前法兰31的一端与前法兰31之间均通过螺钉可拆卸固连；当需要对柔性薄膜进行同种靶材82的镀制时，旋下螺钉并使安装块41沿主鼓22径向从安装槽322内部移出，挡板4进而从相邻隔舱33之间移除，溅镀物能够更加顺畅地向主鼓22周面溅射，提高了镀制效率。
对于前文提及的，对隔舱33以及溅镀腔室1内部进行抽真空处理并向隔舱33内部充入工艺气体，进一步设置为，参照图1，溅镀腔室1的外壁上设置有多个与溅镀腔室1内部连通的抽真空管12；再结合图3，隔舱33的一侧设置有与隔舱33内部连通的真空管道71，真空管道71以及抽真空管12均外接有真空系统；具体的，溅镀腔室1的内壁上固定有真空连接块72，真空连接块72上开设有真空接口73，真空接口73与真空系统连接；当隔舱33向溅镀腔室1内部推入并使后法兰32贴合在真空连接块72上，此时真空管道71与真空接口73对接并相互连通，进而实现真空管道71与真空系统的连通；此外，隔舱33内部设置有多个与隔舱33连通的气管6，气管6外接有工艺气体源，气管6与工艺气体源的接通方式可参考真空管道71与真空系统之间的接通方式设置，这里不再赘述。
参照图1，溅镀腔室1的内部底壁上固定有多条沿平行于主鼓22轴线方向延伸的轨道11，前法兰31与后法兰32之间设置有多条与轨道11相适配并滑动连接的滑轨36，以实现隔舱机构3的推拉。
本具体实施例仅仅是对本申请的解释，其并不是对本申请的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本申请的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (10)

1.一种柔性镀膜设备的真空腔室，包括溅镀腔室(1)、主鼓(22)以及阴极组件(8)；其特征在于：溅镀腔室(1)内部设置有隔舱机构(3)，隔舱机构(3)包括前法兰(31)和后法兰(32)，前法兰(31)与后法兰(32)之间设置有隔舱(33)，隔舱(33)设置在主鼓(22)的一侧并沿主鼓(22)的轴线方向延伸；隔舱(33)靠近主鼓(22)的一侧开设有用于连通隔舱(33)与溅镀腔室(1)的溅镀窗口(34)，溅镀窗口(34)沿隔舱(33)的长度方向延伸，且溅镀窗口(34)的两端分别设置有能够隔舱(33)长度方向滑动的遮板(351)，遮板(351)的宽度不小于溅镀窗口(34)的宽度。
2.根据权利要求1所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：隔舱(33)的外周面上固定有盖板(353)，溅镀窗口(34)开设在盖板(353)上；遮板(351)上穿设有多个滑动螺钉(355)，滑动螺钉(355)上旋拧有位于遮板(351)背离盖板(353)一侧的定位螺母(356)；盖板(353)上开设有供滑动螺钉(355)沿隔舱(33)长度方向滑动的调节槽(354)，定位螺母(356)用于将遮板(351)压紧在盖板(353)上。
3.根据权利要求2所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：隔舱(33)设置有多个并围绕主鼓(22)的轴线分布；相邻隔舱(33)之间设置有挡板(4)，挡板(4)沿隔舱(33)的长度方向延伸并沿主鼓(22)的径向延伸，挡板(4)可拆卸连接于前法兰(31)与后法兰(32)之间。
4.根据权利要求3所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：调节槽(354)为阶梯槽，定位螺母(356)的头部下沉至调节槽(354)内部；盖板(353)上可拆卸连接有用于密封调节槽(354)的盖片(357)。
5.根据权利要求3或4所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：盖板(353)上设置有两个沿溅镀窗口(34)长度方向延伸的侧沿(358)，两个侧沿(358)分别靠近溅镀窗口(34)的两个长边设置，侧沿(358)向盖板(353)背离隔舱(33)内部的一侧延伸。
6.根据权利要求5所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：两个遮板(351)相互靠近的一端设置有位于溅镀窗口(34)内部的折边(359)，折边(359)向遮板(351)背离隔舱(33)内部的方向延伸，且折边(359)沿溅镀窗口(34)的宽度方向延伸；折边(359)背离遮板(351)的一侧形状为与主鼓(22)同轴分布的圆弧，所述圆弧的半径大于主鼓(22)的半径。
7.根据权利要求2-6任一项所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：盖板(353)与遮板(351)之间存在空隙，盖板(353)靠近遮板(351)的一侧设置有多条冷却水道(5)，冷却水道(5)外接有冷却水源。
8.根据权利要求1所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：主鼓(22)设置在溅镀腔室(1)的一侧，溅镀腔室(1)背离主鼓(22)的一侧敞开，溅镀腔室(1)的内壁上设置有沿主鼓(22)轴线方向延伸的轨道(11)；前法兰(31)与后法兰(32)之间设置有多个沿主鼓(22)轴线方向延伸的滑轨(36)，滑轨(36)与轨道(11)相适配。
9.根据权利要求1所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：隔舱(33)内部设置有气管(6)，气管(6)外接有工艺气体源；隔舱(33)的一侧设置有与隔舱(33)内部连通的真空管道(71)，真空管道(71)外接有真空系统。
10.根据权利要求1所述的一种柔性镀膜设备的真空腔室，其特征在于：还包括阴极组件(8)，阴极组件(8)包括能够与前法兰(31)贴合的阴极板(81)，阴极板(81)上设置有能够插入隔舱(33)内部的靶材(82)，前法兰(31)上开设有供靶材(82)穿过的舱口(311)；舱口(311)的边缘处设置有密封圈(9)。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115433917A (zh) * 2022-10-18 2022-12-06 北京北方华创真空技术有限公司 一种主鼓组件及其应用的真空镀膜设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0428358A2 (en) * 1989-11-13 1991-05-22 Optical Coating Laboratory, Inc. Geometries and configurations for magnetron sputtering apparatus
CN201317807Y (zh) * 2008-11-18 2009-09-30 昆明理工大学 真空多功能连续镀膜装置
WO2012053171A1 (ja) * 2010-10-20 2012-04-26 株式会社アルバック 真空処理装置
CN103334086A (zh) * 2013-07-01 2013-10-02 南昌欧菲光科技有限公司 镀膜腔用隔板
CN105671508A (zh) * 2016-03-31 2016-06-15 成都西沃克真空科技有限公司 一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置
CN110100041A (zh) * 2017-11-28 2019-08-06 应用材料公司 沉积设备、涂布柔性基板的方法、及具有涂层的柔性基板
US20200165721A1 (en) * 2016-02-12 2020-05-28 Neil Morrison Vacuum processing system and methods therefor
CN212713735U (zh) * 2020-07-28 2021-03-16 绍兴精功装备检测科技有限公司 一种磁控溅射设备

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0428358A2 (en) * 1989-11-13 1991-05-22 Optical Coating Laboratory, Inc. Geometries and configurations for magnetron sputtering apparatus
CN201317807Y (zh) * 2008-11-18 2009-09-30 昆明理工大学 真空多功能连续镀膜装置
WO2012053171A1 (ja) * 2010-10-20 2012-04-26 株式会社アルバック 真空処理装置
CN103334086A (zh) * 2013-07-01 2013-10-02 南昌欧菲光科技有限公司 镀膜腔用隔板
US20200165721A1 (en) * 2016-02-12 2020-05-28 Neil Morrison Vacuum processing system and methods therefor
CN105671508A (zh) * 2016-03-31 2016-06-15 成都西沃克真空科技有限公司 一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置
CN110100041A (zh) * 2017-11-28 2019-08-06 应用材料公司 沉积设备、涂布柔性基板的方法、及具有涂层的柔性基板
CN212713735U (zh) * 2020-07-28 2021-03-16 绍兴精功装备检测科技有限公司 一种磁控溅射设备

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115433917A (zh) * 2022-10-18 2022-12-06 北京北方华创真空技术有限公司 一种主鼓组件及其应用的真空镀膜设备
CN115433917B (zh) * 2022-10-18 2023-07-18 北京北方华创真空技术有限公司 一种主鼓组件及其应用的真空镀膜设备

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