JPS6052575A - フイルム類の連続真空処理装置 - Google Patents
フイルム類の連続真空処理装置Info
- Publication number
- JPS6052575A JPS6052575A JP16236883A JP16236883A JPS6052575A JP S6052575 A JPS6052575 A JP S6052575A JP 16236883 A JP16236883 A JP 16236883A JP 16236883 A JP16236883 A JP 16236883A JP S6052575 A JPS6052575 A JP S6052575A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- film
- liquid
- chamber
- chambers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、フィルム類に対して連続的に真空処理を施
すための処理装置に関するものである。
すための処理装置に関するものである。
例えば、フィルム類に対してスパッタエツチングや蒸着
等の真空処理を施す従来の連続処理装置は、真空処理室
のフィルム入口または出口の何れか一方または両方に複
数の真空予備室を連ねて設け、これら各真空予備室の内
部圧力を真空ポンプの吸引により大気側から真空処理側
が順次低くなるようにし、上記各真空予備室内を順次通
過させた被処理フィルムを真空ポンプで内部を所定の圧
力に保った真空処理室内へ出し入れすることにより、連
続的に真空処理を行なうようにしていた。
等の真空処理を施す従来の連続処理装置は、真空処理室
のフィルム入口または出口の何れか一方または両方に複
数の真空予備室を連ねて設け、これら各真空予備室の内
部圧力を真空ポンプの吸引により大気側から真空処理側
が順次低くなるようにし、上記各真空予備室内を順次通
過させた被処理フィルムを真空ポンプで内部を所定の圧
力に保った真空処理室内へ出し入れすることにより、連
続的に真空処理を行なうようにしていた。
ところで、各真空予備室には被処理フィルムの通過を許
容するためにフィルム通過口を設けなければならないが
、フィルムが移動通過する条件下においてその気密化を
はかることは困難である。
容するためにフィルム通過口を設けなければならないが
、フィルムが移動通過する条件下においてその気密化を
はかることは困難である。
このため、大気と真空予備室の間、あるいは真空予備室
相互の間の圧力差により、フィルム通過口に激しい気流
が発生し、この気流により被処理フィルムに激しい振動
が与えられ、これが原因でフィルム通過口の口縁との衝
撃的反覆接触や張力変動等が発生し、被処理フィルムの
損傷が引き起され、満足な処理を施したフィルムが得ら
れず、生産性が著しく低いという欠点がある。
相互の間の圧力差により、フィルム通過口に激しい気流
が発生し、この気流により被処理フィルムに激しい振動
が与えられ、これが原因でフィルム通過口の口縁との衝
撃的反覆接触や張力変動等が発生し、被処理フィルムの
損傷が引き起され、満足な処理を施したフィルムが得ら
れず、生産性が著しく低いという欠点がある。
この発明は、上記のような欠点を解消するためになされ
たものであり、真空予備室に設けたフィルム通過口に気
流の発生がなく、被処理フィルムを損傷させることなく
、連続的に真空処理することができる連続真空処理装置
を提供することを目的とする。
たものであり、真空予備室に設けたフィルム通過口に気
流の発生がなく、被処理フィルムを損傷させることなく
、連続的に真空処理することができる連続真空処理装置
を提供することを目的とする。
この発明の構成は、真空処理室のフィルム入口または出
口の一方または両方に連ねて真空予備室を設け、この予
備室のフィルム通過口に連ねて液浴室を設け、液浴室内
に充填した液体でフィルム通過口を液密閉鎖して気流の
発生を防ぐようにしたものである。
口の一方または両方に連ねて真空予備室を設け、この予
備室のフィルム通過口に連ねて液浴室を設け、液浴室内
に充填した液体でフィルム通過口を液密閉鎖して気流の
発生を防ぐようにしたものである。
以下、この発明の実施例を添付図面にもとづいて説明す
る。
る。
図示のように、被処理フィルム八を真空状態で連続的に
処理する真空処理室１は、排気口２から図示省略した真
空ポンプにより真空排気され、内部が処理に適した圧力
に保たれ、その内部には処理ロール３とガイドロール４
が設けられ、被処理フィルムＡはこれらのロール３，４
を通過して処理される。
処理する真空処理室１は、排気口２から図示省略した真
空ポンプにより真空排気され、内部が処理に適した圧力
に保たれ、その内部には処理ロール３とガイドロール４
が設けられ、被処理フィルムＡはこれらのロール３，４
を通過して処理される。
この真空処理どしては、例えばスパッタエツチング、蒸
着、スパッタ蒸着、プラズマ処理、イオンブレーティン
グなどをあげることができる。
着、スパッタ蒸着、プラズマ処理、イオンブレーティン
グなどをあげることができる。
前記真空処理室１に設けたフィルム人口５の外側に前方
真空予備室６が、またフィルム出ロアの外側に後方真空
子Ｓ室８が配置されている。
真空予備室６が、またフィルム出ロアの外側に後方真空
子Ｓ室８が配置されている。
両真空予備室６と８はその内部圧力が前記真空処理１よ
りも若干高く保たれるように、それぞれ排気口９，１０
から図示省略した真空ポンプで真空排気される。
りも若干高く保たれるように、それぞれ排気口９，１０
から図示省略した真空ポンプで真空排気される。
前方真空予備室６のフィルム入口となる通過口１１の外
側に前方液浴室１２が、また後方真空予備室８のフィル
ム出口となる通過口１３の外側に後方液浴室１４が各々
連通ずるように設けられ、両液浴室１２と１４の内部に
は、例えば水等の液体１５が注液口１６．１７から供給
されるようになっている。
側に前方液浴室１２が、また後方真空予備室８のフィル
ム出口となる通過口１３の外側に後方液浴室１４が各々
連通ずるように設けられ、両液浴室１２と１４の内部に
は、例えば水等の液体１５が注液口１６．１７から供給
されるようになっている。
前記真空処理室１のフィルム人口５における前方真空予
備室６との境界、前方真空予備室６の通過口１１におけ
る前方液浴室１２どの境界および前方液浴室１２の外部
との境界には、表面をウレタンゴムなどで覆った上下一
対のロールからなる前方シールロール１８，１９．２０
が各々設けられ、前方液浴室１２のシールロール２０の
外側に表面がスポンジなどで覆われた上下一対のガイド
ロール２１が配置され３− ている。
備室６との境界、前方真空予備室６の通過口１１におけ
る前方液浴室１２どの境界および前方液浴室１２の外部
との境界には、表面をウレタンゴムなどで覆った上下一
対のロールからなる前方シールロール１８，１９．２０
が各々設けられ、前方液浴室１２のシールロール２０の
外側に表面がスポンジなどで覆われた上下一対のガイド
ロール２１が配置され３− ている。
これど同様に、真空処理室１と後方真空予備室８の境界
、後方真空予備室８と後方液浴室１４の境界、後方液浴
室１４と外部との境界の各々に後方シールロール２２，
２３．２４が設りられ、シールロール２４の外側にガイ
ドロール２５が配置されている。
、後方真空予備室８と後方液浴室１４の境界、後方液浴
室１４と外部との境界の各々に後方シールロール２２，
２３．２４が設りられ、シールロール２４の外側にガイ
ドロール２５が配置されている。
上記各シールロール１８，１９，２０，２２，２３．２
４とガイドロール２１．２５は同期駆動されることによ
り、被処理フィルムＡを搬送すると共に、各境界部分の
シールを行ない、前後液浴室１２．１４内に注入した液
体１５を流出しないようにしている。
４とガイドロール２１．２５は同期駆動されることによ
り、被処理フィルムＡを搬送すると共に、各境界部分の
シールを行ない、前後液浴室１２．１４内に注入した液
体１５を流出しないようにしている。
従って、前後液浴室１２．１４内に注入した液体１５が
前後真空予備室６．８の外部との連通を液密閉鎖し、通
過口１１．１３における気流発生を防いでいる。
前後真空予備室６．８の外部との連通を液密閉鎖し、通
過口１１．１３における気流発生を防いでいる。
なお、被処理フィルム△は、繰出しロール２６から引出
され、巻取りロール２７に巻取られるようになっている
。
され、巻取りロール２７に巻取られるようになっている
。
この発明の処理装置は上記のような構成であり、真空ポ
ンプにより真空処理室１および前後の真空予備室６と８
の内部を各々所定の圧力に保持し、４− また前後の液浴室１２と１４内にはそれぞれ液体１５を
充填しておく。
ンプにより真空処理室１および前後の真空予備室６と８
の内部を各々所定の圧力に保持し、４− また前後の液浴室１２と１４内にはそれぞれ液体１５を
充填しておく。
処理ロール３とガイドロール４、各シールロール１８な
いし２４およびガイドロール２１．２５を回動させた状
態で、被処理フィルムＡを繰出しロール２６から引出し
て大気中から前方液浴室１２、前方真空予備室６を順次
通して真空処理室１に導入し、所定の真空処理を施した
後、後方真空予備室８、後方液浴室１４を通過させて再
び大気中へ導き出し、巻取りロール２７に巻取って行く
。
いし２４およびガイドロール２１．２５を回動させた状
態で、被処理フィルムＡを繰出しロール２６から引出し
て大気中から前方液浴室１２、前方真空予備室６を順次
通して真空処理室１に導入し、所定の真空処理を施した
後、後方真空予備室８、後方液浴室１４を通過させて再
び大気中へ導き出し、巻取りロール２７に巻取って行く
。
このとき、前後真空予備室６と８のフィルム通過口１１
．１３は、シールロール１９．２３と液体１５により完
全に液密閉鎖されているので、真空処理室１、前後真空
予備室６．８前後液浴室１２．１４の各境界部分におけ
る激しい気流の発生がなく、被処理フィルムＡは気流に
よる損傷を生じることなく連続的に真空処理されること
になる。
．１３は、シールロール１９．２３と液体１５により完
全に液密閉鎖されているので、真空処理室１、前後真空
予備室６．８前後液浴室１２．１４の各境界部分におけ
る激しい気流の発生がなく、被処理フィルムＡは気流に
よる損傷を生じることなく連続的に真空処理されること
になる。
なお、実施例では真空予備室を真空処理室の入口および
出口のそれぞれに一室づつを設けたが、その数は必要に
応じて自由に選択すればよい。
出口のそれぞれに一室づつを設けたが、その数は必要に
応じて自由に選択すればよい。
また、被処理フィルムＡの巻取りロールあるいは繰出し
ロールを真空処理内に設置する等して真空処理室１の入
口あるいは出口だけに真空予備室と液浴室を設（）るＪ
：うにしてもよい。
ロールを真空処理内に設置する等して真空処理室１の入
口あるいは出口だけに真空予備室と液浴室を設（）るＪ
：うにしてもよい。
以上のように、この発明ににると、真空処理室の入口お
よび出口の何れか一方または両方に真空予備室を設け、
この真空予備室の外側に接して内部が液体で満たされた
液浴室を設置ノだので、真空予備室と外気とを液浴室で
液密閉鎖することができ、真空予備室と外気の圧力差に
よるフィルム通過口の気流発生を防止できるようになり
、被処理フィルムを気流によって損傷させることなく連
続して真空処理することが可能となり、良質の真空処理
フィルムが安定して得られ、生産性が大幅に向上する。
よび出口の何れか一方または両方に真空予備室を設け、
この真空予備室の外側に接して内部が液体で満たされた
液浴室を設置ノだので、真空予備室と外気とを液浴室で
液密閉鎖することができ、真空予備室と外気の圧力差に
よるフィルム通過口の気流発生を防止できるようになり
、被処理フィルムを気流によって損傷させることなく連
続して真空処理することが可能となり、良質の真空処理
フィルムが安定して得られ、生産性が大幅に向上する。
図面はこの発明に係る連続真空処理装置の一例を示す縦
断面図である。 １・・・真空処理室 ５・・・入口 ６・・・前方真空予備室 ７・・・出口８・・・後方真
空予備室 １２・・・前方液浴室１４・・・後方液浴室
１５・・・液体１８．１９，２０，２２，２３．２４
・・・シールロール２１．２５・・・ガイドロール Ａ・・・被処理フィルム 特許出願人 日東電気工業株式会社 代 理 人 弁即十 和 １） 昭
断面図である。 １・・・真空処理室 ５・・・入口 ６・・・前方真空予備室 ７・・・出口８・・・後方真
空予備室 １２・・・前方液浴室１４・・・後方液浴室
１５・・・液体１８．１９，２０，２２，２３．２４
・・・シールロール２１．２５・・・ガイドロール Ａ・・・被処理フィルム 特許出願人 日東電気工業株式会社 代 理 人 弁即十 和 １） 昭
Claims (1)
- 内部でフィルム類の真空処理を行なう真空処理室のフィ
ルム類入口および／または出口に真空予備室を設け、こ
の真空予備室のフィルム類通過口に接して、この通過口
を内部に満した液体で液密閉鎖する液浴室を設けたこと
を特徴とするフィルム類の連続真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16236883A JPS6052575A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | フイルム類の連続真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16236883A JPS6052575A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | フイルム類の連続真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052575A true JPS6052575A (ja) | 1985-03-25 |
Family
ID=15753237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16236883A Pending JPS6052575A (ja) | 1983-09-01 | 1983-09-01 | フイルム類の連続真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052575A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0260948A2 (en) * | 1986-09-19 | 1988-03-23 | The Dow Chemical Company | Process and apparatus for producing extruded thermoplastic foam bodies |
| US6484415B2 (en) | 1990-08-29 | 2002-11-26 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus |
-
1983
- 1983-09-01 JP JP16236883A patent/JPS6052575A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0260948A2 (en) * | 1986-09-19 | 1988-03-23 | The Dow Chemical Company | Process and apparatus for producing extruded thermoplastic foam bodies |
| US6484415B2 (en) | 1990-08-29 | 2002-11-26 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus |
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