JPH0243364A

JPH0243364A - 帯板保持装置

Info

Publication number: JPH0243364A
Application number: JP19279188A
Authority: JP
Inventors: Seishiro Saida; 才田　誠四郎; Shoji Nagashima; 長島　祥司
Original assignee: Nippon Steel Corp
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 1988-08-03
Filing date: 1988-08-03
Publication date: 1990-02-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、金属やプラスチック等の各種帯板の表面に真
空中てコーティング等の処理をＭ続して行うラインにお
いて、帯板のパスラインを所定位置に保持するための装
置に関するものである。

［従来の技術］金属やプラスチック等の帯板に装飾性、耐食性、耐摩耗
性、電気的特性等を４＝１与するために、真空中でイオ
ンブレーテインク、スパッタリンク、プラスマＣＶＤ（
ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ
　）等により、帯板の表面に連続的にセラミックスや金
属の皮膜を形成するコープインク技術か開発されつつあ
る。このような処理を行うライン等において、帯板を大
気中から真空の処理室に入れるためには、大気圧から順
次圧力を下げた多段の真空室を通過させることか必要で
ある。また、一つのラインて複数の処理を行う場合は、
真空度の異なる処理室を連続的に通過させることが要求
され、処理室の間に多段の真空室か必要である。

このような要求に応える装置として、帯板を上下から挟
んてシールする一対のロールを多段配置したシール装置
を、真空度の異なる処理室の間に配したもの（＃開閉５
７−１９５７５３）、ざらに真空の処理室と大気の間に
配したもの（特開昭５７−１９５７５４）か知られてい
る。しかし、真空処理を行う装置において、高真空を得
るため、また高温に耐えるために、装置を金属製にする
必要があり、金属製のシールロールを使用するとつきの
ような問題が生じる。すなわち、コーティング等の処理
を行った帯板に金属ロールが接触すると、帯板の表面に
形成された皮膜に疵がつき、またコーティングされる前
の帯板に金属ロールが接触しても、帯板の表面に疵がつ
いてコーテイング後の表面疵になる。

このような問題か生じない装置として、本出願人は、複
数の真空室間の隔壁にスリットを設け、該スリットの上
縁の両端にガイドローラーを設けて、帯板の上面のみが
カイトローラーに接し長さ方向下方に凸となるよう張力
がかかった状態で搬送できる装置（特願昭６２−２２１
３０１）を提案している。

［発明が解決しようとする課題］前記特願昭５２−２２１３０１の装置によると、帯板の
下面が無接触の状態て搬送されコーティングが施される
ので、コーテイング面に疵や汚れが付かず、しかも各真
空室は所定の真空度および雰囲気に維持されるのて、安
定して良質のコーチインク帯板か得られる。しかし、こ
の装置は、装置の全長か長くなった場合あるいは帯板か
厚く自重か増した場合には、帯板か下方に深く湾曲する
のて装置の高さを高くしなければならない。したかって
、装置自体およびそれを収容する建屋か大きくなり好ま
しくない。

本発明は、金属やプラスチック等の各種帯板の表面に真
空中てコープインク等の処理を連続して行うラインにお
いて、ライン長か長くても、また板厚に関係なく帯板の
パスラインを所定位置に保持し、しかも帯板の処理面に
疵や汚れを発生させず、安定して良質な処理面を得るこ
とのてきる装置を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］本発明装置を第１図に示す具体例により説明する。

本発明の帯板保持装置は、水平方向に搬送される帯板Ｓ
の下面に処理を行う処理ラーインにおいて、天板１と底
板２と側壁３，４（第１図ては側壁４は図示されず）と
前方隔壁５と後方隔壁６て囲まれた室をなし、前方隔壁
５および後方隔壁６にはそれぞれ帯板Ｓを通過させる前
方スリット７および後方スリッ）−８か形成されている
。

前方スリット７および後方スリット８の上縁には、それ
ぞれ前方上プレート９および後方上フレート１０か帯板
Ｓの搬送方向と平行に設けられ、前方スリット７および
後方スリット８の下縁には、それぞれ前記−上プレート
９および１０に対向して前方下プレート１１および後方
下プレート１２が帯板Ｓの搬送方向と平行に設けられて
いる。

前方上プレート９の後部には前方ガイドロール１３か、
軸を前方上プレート９と平行にかつ帯板Ｓの搬送方向と
直角にして、前方上プレート９の下面よりも突出しかつ
前方下プレート１１との間に間隙をもって設けられてい
る。

また１、後方上プレート１０の前部には後方ガイドロー
ル１４か、軸を後方上プレート１０と平行にかつ帯板Ｓ
の搬送方向と直角にして、後方上プレート１０の下面よ
りも突出しかつ後方１プレート１２との間に間隙をもっ
て設けられている。

さらに、前方ガイドロール１３と後方ガイドロール１４
の間には、サポートロール１５か、軸を前方ガイドロー
ル１３および後方ガイドロール１４と平行にしかつ上面
を前方ガイドロール１３および後方ガイドロール１４の
下面を結ぶ平面以上の高さにして設けられ”Ｃいる。

第１図において、１６は室内を排気する排気口、１７は
前方上プレート９を前方隔壁５に取り付けるための前方
上フレーム、１８は後方上プレート１０を後方隔壁６に
取り付けるための後方上フレーム、１９は前方下プレー
ト１１を前方隔壁５に取り付けるための前方下フレーム
、２０は後方下プレート１２を後方隔壁６に取り付ける
ための後方下フレーム、２１は前方ガイドロール１３を
前方上プレート９に取り伺けるための前方軸受ツロツク
、２２は後方ガイドロール１４を後方上プレー１−１０
に取り付けるための後方軸受ツロツク、２３は前方上フ
レーム１７および前方下フレーム１９を前方隔壁５に固
定するとともに前方上プレート９および前方下プレート
１１に穿けられた長穴を通して前方隔壁５に対する取り
付は高さを調節するためのネジ、２４は後方上フレーム
１８および後方下フレーム２０を後方隔壁６に固定する
とともに後方上プレート１０および後方下プレート１２
に穿けられた長大を通して後方隔壁６に対する取り付は
高さを調節するためのネジである。

［作用］第１図に示すような本発明装置において、下面にコーチ
インク等の処理か施された後の帯板Ｓあるいは施される
前の帯板Ｓは、略水平方向（図の左右方向）に搬送され
る。帯板Ｓは、前方スリット７を通り、前方ガイドロー
ル１３の下面に接し、サポートロール１５の上面に接し
、後方ガイドロール１４の下面に接し、後方スリット８
を通って、パスラインがほぼ直線的に保たれる。

帯板Ｓの下面はサポートロール１５と接触するか、サポ
ートロール１５は天板１と底板２と側壁３．４と前方隔
壁５と後方隔壁６で囲まれた室内にあり、前方スリット
７および後方スリット８か、それぞれプレート９，１】
および１０．１２によって、帯板Ｓか通るのに必要な最
小間隔りをもって形成されていて通気抵抗か大きいため
、室外から異物等が侵入し難く、室内はクリーン状態に
維持されるのて、サポートロール１５によって帯板に疵
や汚れが付くことか防止される。

前方スリット７及び後方スリット８の通気抵抗は、スリ
ット間隔りが狭いほど、各プレート９゜１０．１１．１
２の長さか長いほど大きく、室内外の真空度、帯板の厚
さ、帯板の形状等に応して、適正な間隔にネジ２３．２
４によって調節される。

室内は排気口１６から排気できるようになっている。隣
室かコーテイング物質等によって汚染され易く、異物か
侵入するおそれのあるときは、該隣室よりも圧力がやや
高くなるように排気することにより、異物の侵入を防止
することかてきる。

なお、前方スリット７あるいは後方スリット８を通して
、若干の異物の侵入が避けられないときは、第２図に示
すように、サポートロール１５に別途設けたフェルト２
５を圧接し、サポートロール１５の表面に付着した異物
を除去することかてきる。

フェルト２５はピン２７を回動支点とするアーム２６に
取り付けられ、スプリンタ２８によってサポートロール
１５に圧接される。

また、室内に搬送される帯板か加熱されていて、ガイド
ロール１３．１４あるいはサポートロール１５か熱によ
って損傷を受けるおそれかあるときは、第３図に示すよ
うに、入側のスリットを形成するプレート（図ては後方
上プレート１０および後方下プレート１２）に水冷ジャ
ケット２９を設けて、帯板Ｓを冷却することかてきる。

［実施例］本発明装置を第４図に示す連続複合コーティング設備に
適用した。２基の巻出巻取装置３０ａ、３０ｂの間にプ
ラズマＣＶＤ装置３１とスパッタリンク装置３２とイオ
ンプレーテインク装置３３か直列に配置されている。こ
れら各装置は一つの真空装置内に収容され、帯板Ｓの下
面にコーティングされるようになっている。各装置内は
それぞれ独立に排気され、コーチインク装置には所定の
ガスか導入されるようになっている。プラズマＣＶＤ装
置３１とスパッタリンク装置３２の間には、再装置間の
差圧をシールするために多段スリット装置３４が設けで
ある。第４図において、３５か本発明の帯板保持装置て
あり、３５ａおよび３５ｂは多段スリット装置３４を構
成する真空室にもなっており、３５ｃはスパッタリンク
装置３２とイオンブレーティング装置３３の間に設けで
ある。このように、本発明装置を設けることにより、全
長の長いラインの帯板パスラインがほぼ水平に保持され
、設備をコンパクトにすることができた。

第４図の設備において、厚さ０．５ｍｍ　、幅３７０ｍ
ｍのＳＵＳ　４３０系ステンレス鋼帯をラインスピード
０．１ｍ／［ｌ１ｉｎで右から左へ搬送しつつ、まずイ
オンブレーティング装置３３において、Ｔｉを蒸発源と
しＮ２ガスを導入し真空度７　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒに
維持して、ＴｉＮをコーチインクし、ついて、プラズマ
ＣＶＤ装置３１において、ＳｊＨ，＋とＮ２０の混合ガ
スを導入し真空度２　ｘ　１０−’Ｔｏｒｒに維持して
、アモルファス５ｉ０２をコーティングした。帯板保持
装置３５の真空度は、３５ａを２．５　Ｘ　１０−’Ｔ
ｏｒｒ、　３５ｂをｌ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ、　３５
ｃをＩ’ｘ　１Ｏ−３Ｔｏｒｒに維持した。コーティン
グされたステンレス鋼帯は、全長にわたって−様な金色
を呈し、耐食性に優れ、かつ表面疵かなく汚れもない美
麗なものてあった。

［発明の効果］金属やプラスチック等の各種帯板の表面に真空中てコー
ティング等の処理を連続して行うラインにおいて、本発
明装置を適用することにより、帯板のパスラインを所定
位置に保持し、はぼ直線に維持することもてきるのて、
設備かコンパクトになり、設備費の低減や設備の保守等
に多大の効果かある。しかも帯板の処理面に疵や汚れを
発生させず、安定して良質な処理面を得ることかてきる
。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図および第３図は本発明装置の具体例を示
す図、第４図は本発明装置の適用例を示す図である。１・・・天板、２・・・底板、３，４・・・側壁、５・
・・前方隔壁、６・・・後方隔壁、７・・・前方スリッ
ト、８・・・後方スリット、９・・・前方上プレート、
１０・・・後方上プレート、１１・・・前方下プレート
、１２・・・後方下プレート、１３・・・前方ガイドロ
ール、１４・・・後方ガイドロール、１５・・・サポー
ト・ロール、１６・・・排気口、１７・・・前方上フレ
ーム、１８・・・後方上フレーム、１９・・・前方下フ
レーム、２０・・・後方下フレーム、２１・・・前方軸
受ブロック、２２・・・後方軸受ブロック、２３．２４
・・・ネジ、２５・・・フェルト、２６・・・アーム、
２７・・・ピン、２８・・・スプリンタ、２９・・・水
冷ジャケット、３０・・・巻出巻取装置、３１・・・プ
ラズマＣＶＤ装置、３２・・・スパッタリング装置、３
３・・・イオンブレーティング装置、３４・・・多段ス
リット装置、３５・・・帯板保持装置。

Claims

【特許請求の範囲】

１、略水平方向に搬送される帯板（Ｓ）の下面に処理を
行う処理ラインにおいて、天板（１）と底板（２）と側
壁（３）、（４）と前方隔壁（５）と後方隔壁（６）で
囲まれた室をなし、前方隔壁（５）および後方隔壁（６
）にはそれぞれ帯板（Ｓ）を通過させる前方スリット（
７）および後方スリット（８）が形成されており、前方
スリット（７）および後方スリット（８）の上縁にはそ
れぞれ前方上プレート（９）および後方上プレート（１
０）が帯板（Ｓ）の搬送方向と平行に設けられ、前方ス
リット（７）および後方スリット（８）の下縁にはそれ
ぞれ前方下プレート（１１）および後方下プレート（１
２）が帯板（Ｓ）の搬送方向と平行に設けられ、前方上
プレート（９）の後部には前方ガイドロール（１３）が
軸を前方上プレート（９）と平行にかつ帯板（Ｓ）の搬
送方向と直角にして前方上プレート（９）の下面よりも
突出しかつ前方下プレート（１１）との間に間隙をもっ
て設けられ、後方上プレート（１０）の前部には後方ガ
イドロール（１４）が軸を後方上プレート（１０）と平
行にかつ帯板（Ｓ）の搬送方向と直角にして後方上プレ
ート（１０）の下面よりも突出しかつ後方下プレート（
１２）との間に間隙をもって設けられ、前方ガイドロー
ル（１３）と後方ガイドロール（１４）の間にはサポー
トロール（１５）が軸を前方ガイドロール（１３）およ
び後方ガイドロール（１４）と平行にしかつ上面を前方
ガイドロール（１３）および後方ガイドロール（１４）
の下面を結ぶ平面以上の高さにして設けられていること
を特徴とする帯板保持装置。