JP2001049432A - ワーク移動式反応性スパッタ装置とワーク移動式反応性スパッタ方法 - Google Patents
ワーク移動式反応性スパッタ装置とワーク移動式反応性スパッタ方法Info
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- JP2001049432A JP2001049432A JP11218490A JP21849099A JP2001049432A JP 2001049432 A JP2001049432 A JP 2001049432A JP 11218490 A JP11218490 A JP 11218490A JP 21849099 A JP21849099 A JP 21849099A JP 2001049432 A JP2001049432 A JP 2001049432A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のプロセス部２Ａ、２Ｂを分離部３を
介して連接し、各プロセス部２Ａ、２Ｂにそれぞれ互い
に独立したガス雰囲気をつくり、そのプロセス部２Ａ、
２Ｂにてそれぞれ異なる成膜をスパッタにより行うワー
ク移動式（搬送台車インライン方式）反応性スパッタに
おいて、ＣＲＴ搭載台車１０の大きさの違いに対する対
応度を高め、且つガス交換の必要性をなくし、ガス交換
時間の存在によってＣＲＴ台車１０の転送に時間が長く
かかるという問題をなくす。 【解決手段】 分離用ガス、例えば不活性ガスアルゴン
Ａｒを略垂直方向に供給する手段５を設けて分離用ガス
カーテンを形成するようにし、更に、分離部３内にすだ
れ状遮蔽物８を配設してプロセス２Ａ、２Ｂ内の放電ガ
ス雰囲気間の分離を行い、その状態で、各プロセス部２
Ａ、２Ｂでの独立したスパッタを行うと共に、ＣＲＴ１
１のプロセス部２Ａ・２Ｂ間における移動を行うように
する。
介して連接し、各プロセス部２Ａ、２Ｂにそれぞれ互い
に独立したガス雰囲気をつくり、そのプロセス部２Ａ、
２Ｂにてそれぞれ異なる成膜をスパッタにより行うワー
ク移動式（搬送台車インライン方式）反応性スパッタに
おいて、ＣＲＴ搭載台車１０の大きさの違いに対する対
応度を高め、且つガス交換の必要性をなくし、ガス交換
時間の存在によってＣＲＴ台車１０の転送に時間が長く
かかるという問題をなくす。 【解決手段】 分離用ガス、例えば不活性ガスアルゴン
Ａｒを略垂直方向に供給する手段５を設けて分離用ガス
カーテンを形成するようにし、更に、分離部３内にすだ
れ状遮蔽物８を配設してプロセス２Ａ、２Ｂ内の放電ガ
ス雰囲気間の分離を行い、その状態で、各プロセス部２
Ａ、２Ｂでの独立したスパッタを行うと共に、ＣＲＴ１
１のプロセス部２Ａ・２Ｂ間における移動を行うように
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のプロセス部
を分離部を介して連接し、該各プロセス部にそれぞれ互
いに独立したガス雰囲気をつくり、そのプロセス部にて
それぞれ異なる成膜をスパッタにより行うワーク移動式
（搬送台車インライン方式）反応性スパッタ装置と、そ
れを用いたワーク移動式反応性スパッタ方法に関する。
を分離部を介して連接し、該各プロセス部にそれぞれ互
いに独立したガス雰囲気をつくり、そのプロセス部にて
それぞれ異なる成膜をスパッタにより行うワーク移動式
（搬送台車インライン方式）反応性スパッタ装置と、そ
れを用いたワーク移動式反応性スパッタ方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】陰極線管（ＣＲＴ）の画面（管面）に反
射防止膜等の機能性薄膜を形成する方法の一つとして、
管面に直接コーティングをする方法がある。その直接コ
ーティング方法には、従来、図５（側面図）に示すよう
なインライン方式（ワーク、即ち、被コーティング体、
例えばＣＲＴが移動する方式）の反応性スパッタ装置１
００が使用された。同図において、１０１は第１のプロ
セス部、１０２は第２のプロセス部、１０３はその二つ
のプロセス部１０１・１０２間に配置された分離部、１
０４は第１のプロセス部１０１と分離部１０３との間
に、１０５は第２プロセス部１０１と分離部１０３との
間に、設けられた間仕切り板で、上下方向に移動してそ
の間を開閉する。
射防止膜等の機能性薄膜を形成する方法の一つとして、
管面に直接コーティングをする方法がある。その直接コ
ーティング方法には、従来、図５（側面図）に示すよう
なインライン方式（ワーク、即ち、被コーティング体、
例えばＣＲＴが移動する方式）の反応性スパッタ装置１
００が使用された。同図において、１０１は第１のプロ
セス部、１０２は第２のプロセス部、１０３はその二つ
のプロセス部１０１・１０２間に配置された分離部、１
０４は第１のプロセス部１０１と分離部１０３との間
に、１０５は第２プロセス部１０１と分離部１０３との
間に、設けられた間仕切り板で、上下方向に移動してそ
の間を開閉する。
【０００３】１０６は入り口側（ＣＲＴがローディング
される側）の、１０７は出口（ＣＲＴがアンローディン
グされる側）のゲート、１０８はガスＡをプロセス部１
０１及び分離部１０３に供給するガス管、１０９はガス
Ｂをプロセス部１０２及び分離部１０３に供給するガス
管、１１０はガス管１０８の分離部１０３にガス供給す
る部分に設けたバルブ、１１１はガス管１０９の分離部
１０３にガス供給する部分に設けたバルブである。
される側）の、１０７は出口（ＣＲＴがアンローディン
グされる側）のゲート、１０８はガスＡをプロセス部１
０１及び分離部１０３に供給するガス管、１０９はガス
Ｂをプロセス部１０２及び分離部１０３に供給するガス
管、１１０はガス管１０８の分離部１０３にガス供給す
る部分に設けたバルブ、１１１はガス管１０９の分離部
１０３にガス供給する部分に設けたバルブである。
【０００４】第１と第２の二つのプロセス部１０１、１
０２を設けるのは、機能性薄膜に要求される特性の多様
化に対応して膜が多層化し、多層膜を構成する各膜毎に
別々のガスを形成する必要性に能率的に応えるためであ
る。即ち、一つの装置内に、別々に圧力調整された放電
ガス雰囲気をつくるために、二つのプロセス部１０１、
１０２を設け、その間に２枚の間仕切り板１０４、１０
５を離間して設け（その間仕切り板１０４・１０５間が
分離部１０３である。）ており、その分離部１０３内に
その別々放電ガスを交互に入れ換え、ＣＲＴを載せた台
車をプロセス部１０１、１０２に搬送してそこでＣＲＴ
の管面に薄膜をスパッタにより形成します。
０２を設けるのは、機能性薄膜に要求される特性の多様
化に対応して膜が多層化し、多層膜を構成する各膜毎に
別々のガスを形成する必要性に能率的に応えるためであ
る。即ち、一つの装置内に、別々に圧力調整された放電
ガス雰囲気をつくるために、二つのプロセス部１０１、
１０２を設け、その間に２枚の間仕切り板１０４、１０
５を離間して設け（その間仕切り板１０４・１０５間が
分離部１０３である。）ており、その分離部１０３内に
その別々放電ガスを交互に入れ換え、ＣＲＴを載せた台
車をプロセス部１０１、１０２に搬送してそこでＣＲＴ
の管面に薄膜をスパッタにより形成します。
【０００５】より具体的に説明すると、二つのプロセス
部１０１及び１０２にて間仕切り板１０４及び１０５を
共に閉状態にして、その状態で各プロセス部１０１及び
１０２にて並行してスパッタを行い、そのスパッタが終
わると、その間の分離部１０３に例えばガスＡを供給
し、その分離部１０３をガスＡの雰囲気にし、その後、
間仕切り板１０４を開いてプロセス部１０１をガスＡの
雰囲気にしてその中にＣＲＴを載せた台車を入れる。次
に、間仕切り板１０４及び１０５を閉じた状態にし、分
離部１０３を真空排気し、その後、その分離部１０３を
ガスＢの雰囲気にし、更に間仕切り板１０５を開き、搬
送台車を払い出します。このようにしてＣＲＴ台車の移
動を行います。
部１０１及び１０２にて間仕切り板１０４及び１０５を
共に閉状態にして、その状態で各プロセス部１０１及び
１０２にて並行してスパッタを行い、そのスパッタが終
わると、その間の分離部１０３に例えばガスＡを供給
し、その分離部１０３をガスＡの雰囲気にし、その後、
間仕切り板１０４を開いてプロセス部１０１をガスＡの
雰囲気にしてその中にＣＲＴを載せた台車を入れる。次
に、間仕切り板１０４及び１０５を閉じた状態にし、分
離部１０３を真空排気し、その後、その分離部１０３を
ガスＢの雰囲気にし、更に間仕切り板１０５を開き、搬
送台車を払い出します。このようにしてＣＲＴ台車の移
動を行います。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の上述
したワーク移動式反応性スパッタ装置によれば、上記間
仕切り板１０４、１０５による放電ガス雰囲気の分離を
行うので、間仕切り板１０４、１０５が不可欠であり、
その設置位置が固定され、ＣＲＴ搭載台車の大きさの変
化等に対応することが難しいという問題もあった。とい
うのは、ＣＲＴの多様化により大型のＣＲＴが現れ、そ
れに対応してＣＲＴ搭載台車を大きくして能率低下を回
避する必要があるが、間仕切り板１０４、１０５を完全
に閉じた状態でスパッタをする必要があるため、ＣＲＴ
搭載台車の大型化に対応することが制約されるという問
題があったのである。
したワーク移動式反応性スパッタ装置によれば、上記間
仕切り板１０４、１０５による放電ガス雰囲気の分離を
行うので、間仕切り板１０４、１０５が不可欠であり、
その設置位置が固定され、ＣＲＴ搭載台車の大きさの変
化等に対応することが難しいという問題もあった。とい
うのは、ＣＲＴの多様化により大型のＣＲＴが現れ、そ
れに対応してＣＲＴ搭載台車を大きくして能率低下を回
避する必要があるが、間仕切り板１０４、１０５を完全
に閉じた状態でスパッタをする必要があるため、ＣＲＴ
搭載台車の大型化に対応することが制約されるという問
題があったのである。
【０００７】また、上記機械的なガス雰囲気分離手段に
よれば、間仕切り板１０４、１０５の開閉動作に要する
時間及び間仕切り板１０４・１０５間（分離部１０３）
の放電ガスを交互に入れ換えるに要する時間が長くかか
り、生産性の向上を阻害する要因となるという問題もあ
った。更に、従来においては、図６に示すように、各プ
ロセス部における放電ガスの種類は一つに限定され、そ
のため、膜構成は従来においては、ＧＬＡＳＳ／ＴＩＯ
2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒというような２層構造に限定され
ると言う問題もあった。図６におけるＴｉ、Ｓｉはター
ゲットを示し、スパッタ装置の同図における左側のプロ
セス部には放電ガス０2を、左側のプロセス部には放電
ガスＮ2を供給し、左側のプロセス部ではＴＩＯ2を、右
側のプロセス部ではＳｉ3Ｎ4を形成するようにしてい
る。
よれば、間仕切り板１０４、１０５の開閉動作に要する
時間及び間仕切り板１０４・１０５間（分離部１０３）
の放電ガスを交互に入れ換えるに要する時間が長くかか
り、生産性の向上を阻害する要因となるという問題もあ
った。更に、従来においては、図６に示すように、各プ
ロセス部における放電ガスの種類は一つに限定され、そ
のため、膜構成は従来においては、ＧＬＡＳＳ／ＴＩＯ
2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒというような２層構造に限定され
ると言う問題もあった。図６におけるＴｉ、Ｓｉはター
ゲットを示し、スパッタ装置の同図における左側のプロ
セス部には放電ガス０2を、左側のプロセス部には放電
ガスＮ2を供給し、左側のプロセス部ではＴＩＯ2を、右
側のプロセス部ではＳｉ3Ｎ4を形成するようにしてい
る。
【０００８】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、ＣＲＴ等のワークを搭載するワーク
搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高め、更に膜
特性に対する要求に応じた膜構成の変更、多層化を容易
にし、且つガス交換の必要性をなくし、ガス交換時間の
存在によってワーク搭載台車の転送に時間が長くかかる
という問題をなくし、効率を高めることを目的とする。
されたものであり、ＣＲＴ等のワークを搭載するワーク
搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高め、更に膜
特性に対する要求に応じた膜構成の変更、多層化を容易
にし、且つガス交換の必要性をなくし、ガス交換時間の
存在によってワーク搭載台車の転送に時間が長くかかる
という問題をなくし、効率を高めることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、分離部内に、
不活性ガスを略垂直方向に供給する手段を設け、更に、
上記分離部内にすだれ状遮蔽物を配設してなる、或いは
そのようにすることを特徴とする。
不活性ガスを略垂直方向に供給する手段を設け、更に、
上記分離部内にすだれ状遮蔽物を配設してなる、或いは
そのようにすることを特徴とする。
【００１０】従って、本発明によれば、複数のプロセス
部間に分離部があり、この分離部に複数のプロセス部の
該分離部を介しての連設方向と交差する方向に不活性ガ
スを供給するので、先ずこの不活性ガスの流れによるガ
スカーテンが形成されることから複数のプロセス部の放
電ガス雰囲気間を分離することができるうえ、更に上記
分離部内にすだれ状遮蔽物を配設したので、そのすだれ
状遮蔽物により分離部を挟む複数プロセス部間の放電ガ
スの拡散を抑制することができる。依って、複数のプロ
セス部間の放電ガス雰囲気間を有効に分離することがで
きる。また、図４に示すように、左側の部分及び右側の
部分には例えば放電ガスＮ 2を、中間の部分には例えば
放電ガス０2を供給して、例えばＧＬＡＳＳ／Ｓｉ3Ｎ4
／ＴＩＯ2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒというようなより複雑な
膜構成を容易に得ることができ得る。
部間に分離部があり、この分離部に複数のプロセス部の
該分離部を介しての連設方向と交差する方向に不活性ガ
スを供給するので、先ずこの不活性ガスの流れによるガ
スカーテンが形成されることから複数のプロセス部の放
電ガス雰囲気間を分離することができるうえ、更に上記
分離部内にすだれ状遮蔽物を配設したので、そのすだれ
状遮蔽物により分離部を挟む複数プロセス部間の放電ガ
スの拡散を抑制することができる。依って、複数のプロ
セス部間の放電ガス雰囲気間を有効に分離することがで
きる。また、図４に示すように、左側の部分及び右側の
部分には例えば放電ガスＮ 2を、中間の部分には例えば
放電ガス０2を供給して、例えばＧＬＡＳＳ／Ｓｉ3Ｎ4
／ＴＩＯ2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒというようなより複雑な
膜構成を容易に得ることができ得る。
【００１１】そして、間仕切り板の開閉という動作は全
く必要ではなく、不活性ガスを供給しながらそれによる
ガスカーテンと、すだれ状遮蔽物とにより放電ガス雰囲
気間を分離しながらスパッタ、複数プロセス部間のワー
ク搭載台車の移動を行うことができ、台車移動に面倒な
ガス交換や、間仕切り板の開閉という面倒な作業を必要
としなくなり、延いては生産性の向上を図ることができ
る。
く必要ではなく、不活性ガスを供給しながらそれによる
ガスカーテンと、すだれ状遮蔽物とにより放電ガス雰囲
気間を分離しながらスパッタ、複数プロセス部間のワー
ク搭載台車の移動を行うことができ、台車移動に面倒な
ガス交換や、間仕切り板の開閉という面倒な作業を必要
としなくなり、延いては生産性の向上を図ることができ
る。
【００１２】また、ワーク移動式反応性スパッタ装置内
に間仕切り板を配置する必要がなく、分離部内にＣＲＴ
搭載台車の一部が入っても支障なくスパッタができ、ワ
ーク搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高めるこ
とができる。
に間仕切り板を配置する必要がなく、分離部内にＣＲＴ
搭載台車の一部が入っても支障なくスパッタができ、ワ
ーク搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高めるこ
とができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明において、分離用ガスカー
テンを成すガスは不活性ガスが好適であり、最も好適と
言えるのはアルゴンＡｒである。しかし、それ以外のガ
スを用いても良い。その場合のガスの種類は、分離部の
両側のプロセス部に供給されるガスの種類等に応じて適
宜選択すべきである。
テンを成すガスは不活性ガスが好適であり、最も好適と
言えるのはアルゴンＡｒである。しかし、それ以外のガ
スを用いても良い。その場合のガスの種類は、分離部の
両側のプロセス部に供給されるガスの種類等に応じて適
宜選択すべきである。
【００１４】すだれ状遮蔽物は、例えばテフロン（登録
商標）等の薄い（例えば厚さ０．２ｍｍ）板の上端部を
除く部分を短冊状にしたものを用いると良い。というの
は、すだれ状遮蔽物がＣＲＴと接する部分まで垂下さ
せ、ＣＲＴの基部（ネックの先端）に触れてもそれを傷
付けないようにできるからである。
商標）等の薄い（例えば厚さ０．２ｍｍ）板の上端部を
除く部分を短冊状にしたものを用いると良い。というの
は、すだれ状遮蔽物がＣＲＴと接する部分まで垂下さ
せ、ＣＲＴの基部（ネックの先端）に触れてもそれを傷
付けないようにできるからである。
【００１５】また、短冊状の薄板はＣＲＴ搬送方向に対
して略垂直に設けるのが好ましいと言える。なぜなら
ば、その薄板によりより有効に複数プロセス部間におけ
る放電ガスの拡散に対するコンダクタンスを増加させる
ことができ、分離効果を強めることができるからであ
る。
して略垂直に設けるのが好ましいと言える。なぜなら
ば、その薄板によりより有効に複数プロセス部間におけ
る放電ガスの拡散に対するコンダクタンスを増加させる
ことができ、分離効果を強めることができるからであ
る。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を図示実施例に従って詳細に説
明する。図１、図２は本発明ワーク移動式反応性スパッ
タ装置の一つの実施例の概略構成を示すものであり、図
１（Ａ）は平面断面図、（Ｂ）は正面断面図、図２はワ
ーク移動式反応性スパッタ装置をその分離部で切断した
横断面図である。図面において、１はワーク移動式反応
性スパッタ装置、２Ａは第１のプロセス部、２Ｂは第２
のプロセス部、３はその第１及び第２のプロセス部２Ａ
・２Ｂ間に設けられた分離部で、該分離部３と、プロセ
ス部２Ａ及び２Ｂとの間には間仕切り板が設けられてお
らず、これら分離部３及びプロセス部２Ａ、２Ｂは互い
に連通している。
明する。図１、図２は本発明ワーク移動式反応性スパッ
タ装置の一つの実施例の概略構成を示すものであり、図
１（Ａ）は平面断面図、（Ｂ）は正面断面図、図２はワ
ーク移動式反応性スパッタ装置をその分離部で切断した
横断面図である。図面において、１はワーク移動式反応
性スパッタ装置、２Ａは第１のプロセス部、２Ｂは第２
のプロセス部、３はその第１及び第２のプロセス部２Ａ
・２Ｂ間に設けられた分離部で、該分離部３と、プロセ
ス部２Ａ及び２Ｂとの間には間仕切り板が設けられてお
らず、これら分離部３及びプロセス部２Ａ、２Ｂは互い
に連通している。
【００１７】４Ａは第１のプロセス部２Ａ内に放電ガス
Ａを供給する供給管、４Ｂは第２のプロセス部２Ｂ内に
放電ガスＢを供給する供給管、５は上記分離部３内に分
離用の不活性ガス、例えばアルゴンＡｒガスを供給する
供給管で、該供給管５は例えば３本の供給部５ａ、５
ｂ、５ｃに分岐され、ノズルを通じて下から上に噴出さ
れ、分離用のガスカーテンをつくる。６Ａは第１のプロ
セス部２Ａ内を、６Ｂは第２のプロセス部２Ｂ内を真空
引きする真空ポンプ、７は分圧センサである。
Ａを供給する供給管、４Ｂは第２のプロセス部２Ｂ内に
放電ガスＢを供給する供給管、５は上記分離部３内に分
離用の不活性ガス、例えばアルゴンＡｒガスを供給する
供給管で、該供給管５は例えば３本の供給部５ａ、５
ｂ、５ｃに分岐され、ノズルを通じて下から上に噴出さ
れ、分離用のガスカーテンをつくる。６Ａは第１のプロ
セス部２Ａ内を、６Ｂは第２のプロセス部２Ｂ内を真空
引きする真空ポンプ、７は分圧センサである。
【００１８】８、８、・・・は分離部３の天井に設けら
れたガス吸引部９側から垂下されたすだれ状の遮蔽物
で、例えば、薄い（厚さ例えば０．２ｍｍ）成形したテ
フロン板に切り込み８ａ、８ａ、・・・を入れて短冊状
にしてなる。短冊状にするのは、ＣＲＴ搭載台車１０の
移動時にＣＲＴ１１のネック部１２がすだれ状遮蔽物
８、８、・・・に触れても該すだれ状遮蔽物８、８、・
・・によってネック部１２が傷つくおそれを無くするこ
とができるからである。このすだれ状遮蔽物８はＣＲＴ
搭載台車１０に搭載された下向きのＣＲＴ１１０のネッ
ク部１２が通るところに垂下されており、下から上向き
に噴出される分離用ガスの流れに対してはコンダクタン
スをほとんど増加させないが、プロセス部４Ａ・４Ｂ間
の放電ガスの横方向への流れ、拡散に対してはコンダク
タンスが増える。
れたガス吸引部９側から垂下されたすだれ状の遮蔽物
で、例えば、薄い（厚さ例えば０．２ｍｍ）成形したテ
フロン板に切り込み８ａ、８ａ、・・・を入れて短冊状
にしてなる。短冊状にするのは、ＣＲＴ搭載台車１０の
移動時にＣＲＴ１１のネック部１２がすだれ状遮蔽物
８、８、・・・に触れても該すだれ状遮蔽物８、８、・
・・によってネック部１２が傷つくおそれを無くするこ
とができるからである。このすだれ状遮蔽物８はＣＲＴ
搭載台車１０に搭載された下向きのＣＲＴ１１０のネッ
ク部１２が通るところに垂下されており、下から上向き
に噴出される分離用ガスの流れに対してはコンダクタン
スをほとんど増加させないが、プロセス部４Ａ・４Ｂ間
の放電ガスの横方向への流れ、拡散に対してはコンダク
タンスが増える。
【００１９】従って、プロセス部４Ａの放電ガスＡの雰
囲気とプロセス部４Ｂの放電ガスＢの雰囲気との間を上
記分離用のアルゴンＡｒガスによるガスカーテンと、上
記すだれ状遮蔽物８により分離することができる。従っ
て、各プロセス部４Ａ、４Ｂにおいて、それぞれ独立し
てスパッタができる。尚、１３はターゲットである。
囲気とプロセス部４Ｂの放電ガスＢの雰囲気との間を上
記分離用のアルゴンＡｒガスによるガスカーテンと、上
記すだれ状遮蔽物８により分離することができる。従っ
て、各プロセス部４Ａ、４Ｂにおいて、それぞれ独立し
てスパッタができる。尚、１３はターゲットである。
【００２０】図３は、図５に示す従来のワーク移動式反
応性スパッタ装置での下記の４つの条件下で第２のプロ
セス部２Ｂにおける放電ガスＢの分圧を測定を実施した
ケースでの分圧測定結果を示すものであり（尚、全圧は
一定）、横軸は上記条件（１〜４）、縦軸は分圧（Ｔｏ
ｒｒ）である。これにより、条件の違いによるガス分離
効果の違いが解る。 条件１：間仕切り板を２枚共開にした場合 条件２：間仕切り板を２枚共開にし、更に、本実施例と
同様にＣＲＴ搭載用の台車口部にすだれ状遮蔽物を設
け、更に搬送方向の搬送口以外に隔壁を設置
応性スパッタ装置での下記の４つの条件下で第２のプロ
セス部２Ｂにおける放電ガスＢの分圧を測定を実施した
ケースでの分圧測定結果を示すものであり（尚、全圧は
一定）、横軸は上記条件（１〜４）、縦軸は分圧（Ｔｏ
ｒｒ）である。これにより、条件の違いによるガス分離
効果の違いが解る。 条件１：間仕切り板を２枚共開にした場合 条件２：間仕切り板を２枚共開にし、更に、本実施例と
同様にＣＲＴ搭載用の台車口部にすだれ状遮蔽物を設
け、更に搬送方向の搬送口以外に隔壁を設置
【００２１】条件３：間仕切り板を２枚共開にし、更
に、本実施例と同様にＣＲＴ搭載用の台車口部にすだれ
状遮蔽物を設け、更に搬送方向の搬送口以外に隔壁を設
置（条件２と同じ）した上、本実施例と同様にアルゴン
Ａｒガスによるガスカーテンを形成する。 条件４：間仕切り板２を２枚とも閉にし、プロセス部１
０１（図４参照）には放電ガスＡとアルゴンＡｒガスと
の混合ガスを供給し、プロセス部１０２にはガスＢを供
給し、分離部１０３にはアルゴンＡｒガスを供給
に、本実施例と同様にＣＲＴ搭載用の台車口部にすだれ
状遮蔽物を設け、更に搬送方向の搬送口以外に隔壁を設
置（条件２と同じ）した上、本実施例と同様にアルゴン
Ａｒガスによるガスカーテンを形成する。 条件４：間仕切り板２を２枚とも閉にし、プロセス部１
０１（図４参照）には放電ガスＡとアルゴンＡｒガスと
の混合ガスを供給し、プロセス部１０２にはガスＢを供
給し、分離部１０３にはアルゴンＡｒガスを供給
【００２２】尚、図中において、●は全圧、▲はアルゴ
ンＡｒガス、◆は反応ガスＡ、■は反応ガスＢをそれぞ
れ示す。
ンＡｒガス、◆は反応ガスＡ、■は反応ガスＢをそれぞ
れ示す。
【００２３】図３から明らかなように、条件３は、条件
４の場合よりも反応ガスＡ・Ｂ間の分離効果が悪いが、
しかし、条件１よりも分離効果は良く、条件２と比較し
ても分離効果は同等であり、アルゴンＡｒガスによるガ
スカーテンとすだれ状遮蔽物による分離効果により間仕
切り板を用いなくとも条件１よりも優れ、条件２と同等
の実用上問題のない程度の分離効果を充分に得ることが
できる。
４の場合よりも反応ガスＡ・Ｂ間の分離効果が悪いが、
しかし、条件１よりも分離効果は良く、条件２と比較し
ても分離効果は同等であり、アルゴンＡｒガスによるガ
スカーテンとすだれ状遮蔽物による分離効果により間仕
切り板を用いなくとも条件１よりも優れ、条件２と同等
の実用上問題のない程度の分離効果を充分に得ることが
できる。
【００２４】従って、間仕切り板の開閉というようなこ
とを全くしなくても各プロセス室で独立してスパッタが
でき、また、スパッタ終了後における複数プロセス部間
のＣＲＴ搭載台車の移動を行うことができ、台車移動に
あたっての面倒なガス交換や、間仕切り板の開閉という
面倒な作業を必要としなくなることが図３から解る。将
に、本ワーク移動式反応性スパッタ装置はそのことを最
大限に利用しているのである。
とを全くしなくても各プロセス室で独立してスパッタが
でき、また、スパッタ終了後における複数プロセス部間
のＣＲＴ搭載台車の移動を行うことができ、台車移動に
あたっての面倒なガス交換や、間仕切り板の開閉という
面倒な作業を必要としなくなることが図３から解る。将
に、本ワーク移動式反応性スパッタ装置はそのことを最
大限に利用しているのである。
【００２５】即ち、本ワーク移動式反応性スパッタ装置
を用いて、常にアルゴンＡｒガスによるガスカーテンを
形成する状態で、各プロセス部２Ａ、２Ｂでの独立して
のスパッタによる機能性薄膜の形成を行い、また、その
スパッタ終了後におけるＣＲＴ搭載台車１０の移動を行
うという方法で機能性薄膜の形成を順次進行させるので
ある。従って、本方法によれば、台車移動にあたっての
面倒なガス交換や、間仕切り板の開閉という面倒な作業
を必要としなくなり、延いては生産性の向上を図ること
ができる。
を用いて、常にアルゴンＡｒガスによるガスカーテンを
形成する状態で、各プロセス部２Ａ、２Ｂでの独立して
のスパッタによる機能性薄膜の形成を行い、また、その
スパッタ終了後におけるＣＲＴ搭載台車１０の移動を行
うという方法で機能性薄膜の形成を順次進行させるので
ある。従って、本方法によれば、台車移動にあたっての
面倒なガス交換や、間仕切り板の開閉という面倒な作業
を必要としなくなり、延いては生産性の向上を図ること
ができる。
【００２６】また、本ワーク移動式反応性スパッタ装置
を用いた場合、ワーク移動式反応性スパッタ装置内に間
仕切り板が配置されていないので、分離部内にＣＲＴ搭
載台車の一部が入っても支障なくスパッタができ、ＣＲ
Ｔ搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高めること
ができる。即ち、スパッタ時にＣＲＴ搭載台車１０の一
部が分離部３内に入り込むことが許容され、図５に示す
従来のワーク移動式反応性スパッタ装置において間仕切
り板が存在していた故に存在する物理的制約が軽減され
る。
を用いた場合、ワーク移動式反応性スパッタ装置内に間
仕切り板が配置されていないので、分離部内にＣＲＴ搭
載台車の一部が入っても支障なくスパッタができ、ＣＲ
Ｔ搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高めること
ができる。即ち、スパッタ時にＣＲＴ搭載台車１０の一
部が分離部３内に入り込むことが許容され、図５に示す
従来のワーク移動式反応性スパッタ装置において間仕切
り板が存在していた故に存在する物理的制約が軽減され
る。
【００２７】図４は、本発明の別の実施例を示す平面断
面図である。本発明に係るスパッタ装置は、ガスカーテ
ンによる遮蔽は遮蔽位置を変えたりすることが容易であ
り、また、遮蔽位置間に実質的に一室を形成して、左右
のプロセス部とは別の放電ガスを供給できるようにする
ことが可能である。そこで、同図における左側の部分に
は放電ガスＮ2を供給してＳｉ3Ｎ4を形成し、ガスカー
テン間の部分にはＯ2を供給してＴＩＯ2を形成し、右側
の部分には放電ガスＮ2を供給してＳｉ3Ｎ4を形成する
ようにするようにしたものであり、これによりＧＬＡＳ
Ｓ／Ｓｉ3Ｎ4／ＴＩＯ2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒの三層構造
の膜が一台のスパッタ装置で形成することができる。図
中のＳｉ、Ｔｉはシリコン、チタンのターゲットであ
る。
面図である。本発明に係るスパッタ装置は、ガスカーテ
ンによる遮蔽は遮蔽位置を変えたりすることが容易であ
り、また、遮蔽位置間に実質的に一室を形成して、左右
のプロセス部とは別の放電ガスを供給できるようにする
ことが可能である。そこで、同図における左側の部分に
は放電ガスＮ2を供給してＳｉ3Ｎ4を形成し、ガスカー
テン間の部分にはＯ2を供給してＴＩＯ2を形成し、右側
の部分には放電ガスＮ2を供給してＳｉ3Ｎ4を形成する
ようにするようにしたものであり、これによりＧＬＡＳ
Ｓ／Ｓｉ3Ｎ4／ＴＩＯ2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒの三層構造
の膜が一台のスパッタ装置で形成することができる。図
中のＳｉ、Ｔｉはシリコン、チタンのターゲットであ
る。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、複数のプロセス部間に
分離部があり、この分離部に複数のプロセス部の該分離
部を介しての連設方向と交差する方向に不活性ガスを供
給するので、先ずこの不活性ガスの流れによるガスカー
テンが形成されることから複数のプロセス部の放電ガス
雰囲気間を分離することができるうえ、更に上記分離部
内にすだれ状遮蔽物を配設したので、そのすだれ状遮蔽
物により分離部を挟む複数プロセス部間の放電ガスの拡
散を抑制することができる。依って、複数のプロセス部
間の放電ガス雰囲気間を有効に分離することができる。
分離部があり、この分離部に複数のプロセス部の該分離
部を介しての連設方向と交差する方向に不活性ガスを供
給するので、先ずこの不活性ガスの流れによるガスカー
テンが形成されることから複数のプロセス部の放電ガス
雰囲気間を分離することができるうえ、更に上記分離部
内にすだれ状遮蔽物を配設したので、そのすだれ状遮蔽
物により分離部を挟む複数プロセス部間の放電ガスの拡
散を抑制することができる。依って、複数のプロセス部
間の放電ガス雰囲気間を有効に分離することができる。
【００２９】そして、間仕切り板の開閉という動作は全
く必要ではなく、不活性ガスを供給しながらそれによる
ガスカーテンと、すだれ状遮蔽物とにより放電ガス雰囲
気間を分離しながらスパッタ、複数プロセス部間のＣＲ
Ｔ搭載台車の移動を行うことができ、台車移動に面倒な
ス交換や、間仕切り板の開閉という面倒な作業を必要と
しなくなり、延いては生産性の向上を図ることができ
る。また、図４に示すように、左側の部分及び右側の部
分には例えば放電ガスＮ2を、中間の部分には例えば放
電ガス０2を供給して、例えばＧＬＡＳＳ／Ｓｉ3Ｎ4／
ＴＩＯ2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒというようなより複雑な膜
構成を容易に得ることができ得る。
く必要ではなく、不活性ガスを供給しながらそれによる
ガスカーテンと、すだれ状遮蔽物とにより放電ガス雰囲
気間を分離しながらスパッタ、複数プロセス部間のＣＲ
Ｔ搭載台車の移動を行うことができ、台車移動に面倒な
ス交換や、間仕切り板の開閉という面倒な作業を必要と
しなくなり、延いては生産性の向上を図ることができ
る。また、図４に示すように、左側の部分及び右側の部
分には例えば放電ガスＮ2を、中間の部分には例えば放
電ガス０2を供給して、例えばＧＬＡＳＳ／Ｓｉ3Ｎ4／
ＴＩＯ2／Ｓｉ3Ｎ4／ａｉｒというようなより複雑な膜
構成を容易に得ることができ得る。
【００３０】また、ワーク移動式反応性スパッタ装置内
に間仕切り板を配置する必要がなく、分離部内にＣＲＴ
搭載台車の一部が入っても支障なくスパッタができ、Ｃ
ＲＴ搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高めるこ
とができる。
に間仕切り板を配置する必要がなく、分離部内にＣＲＴ
搭載台車の一部が入っても支障なくスパッタができ、Ｃ
ＲＴ搭載台車の大きさの違いに対する対応度を高めるこ
とができる。
【図１】（Ａ）、（Ｂ）は本発明ワーク移動式反応性ス
パッタ装置の一つの実施例の概略構成を示すものであ
り、（Ａ）は平面断面図、（Ｂ）は正面断面図である。
パッタ装置の一つの実施例の概略構成を示すものであ
り、（Ａ）は平面断面図、（Ｂ）は正面断面図である。
【図２】上記実施例をその分離部で切断した横断面図で
ある。
ある。
【図３】図５に示す従来のワーク移動式反応性スパッタ
装置での下記の４つの条件下で第２のプロセス部２Ｂに
おける放電ガスＢの分圧を測定を実施したケースでの分
圧測定結果を示すものであり（尚、全圧は一定）、横軸
は上記条件（１〜４）、縦軸は分圧（Ｔｏｒｒ）であ
る。
装置での下記の４つの条件下で第２のプロセス部２Ｂに
おける放電ガスＢの分圧を測定を実施したケースでの分
圧測定結果を示すものであり（尚、全圧は一定）、横軸
は上記条件（１〜４）、縦軸は分圧（Ｔｏｒｒ）であ
る。
【図４】本発明の別の実施例におけるターゲットの配置
及び放電ガスの供給の仕方を示す平面断面図である。
及び放電ガスの供給の仕方を示す平面断面図である。
【図５】ワーク移動式反応性スパッタ装置の従来例の概
略構成を示す平面断面図である。
略構成を示す平面断面図である。
【図６】図５に示す従来例におけるターゲットの配置及
び放電ガスの供給の仕方に関する一例を示す平面断面図
である。
び放電ガスの供給の仕方に関する一例を示す平面断面図
である。
１・・・ワーク移動式反応性スパッタ装置、２Ａ、２Ｂ
・・・プロセス部、３・・・分離部、５・・・分離用ガ
ス供給手段、８・・・すだれ状遮蔽物、１０・・・ＣＲ
Ｔ搭載台車、１１・・・ＣＲＴ（ワーク）、１２・・・
ＣＲＴ（ワーク）のネック部。
・・・プロセス部、３・・・分離部、５・・・分離用ガ
ス供給手段、８・・・すだれ状遮蔽物、１０・・・ＣＲ
Ｔ搭載台車、１１・・・ＣＲＴ（ワーク）、１２・・・
ＣＲＴ（ワーク）のネック部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K029 AA09 BA17 BA35 BA48 BA58 BB02 CA06 DA04 DC05 DC16 KA01 KA05 5C012 AA01 5C028 AA01 AA10
Claims (2)
- 【請求項１】 複数のプロセス部を分離部を介して連設
し、該各プロセス部にそれぞれ互いに独立したガス雰囲
気をつくり、そのプロセス部にてそれぞれ独立して成膜
をスパッタにより行うワーク移動式反応性スパッタ装置
において、 上記分離部内に、分離用ガスを複数のプロセス部の連設
方向と交差する方向に供給する分離用ガス給手段を設
け、 更に、上記分離部内にすだれ状遮蔽物を配設してなるこ
とを特徴とするワーク移動式反応性スパッタ装置。 - 【請求項２】 複数のプロセス部を分離部を介して連設
し、該記各プロセス部にそれぞれ互いに独立したガス雰
囲気をつくり、そのプロセス部にてそれぞれ独立して成
膜をスパッタにより行うワーク移動式反応性スパッタ方
法において、 上記分離部内にすだれ状遮蔽物を垂下状に配設し、 上記分離部内に、複数のプロセス部の連設方向と交差す
る方向に不活性ガスをを供給して分離用ガスカーテンを
形成し、該分離用ガスカーテンにより複数のプロセス部
のガス雰囲気を分離した状態で、スパッタ及び被スパッ
タ物の移動を行うことを特徴とするワーク移動式反応性
スパッタ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11218490A JP2001049432A (ja) | 1999-08-02 | 1999-08-02 | ワーク移動式反応性スパッタ装置とワーク移動式反応性スパッタ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11218490A JP2001049432A (ja) | 1999-08-02 | 1999-08-02 | ワーク移動式反応性スパッタ装置とワーク移動式反応性スパッタ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001049432A true JP2001049432A (ja) | 2001-02-20 |
Family
ID=16720756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11218490A Pending JP2001049432A (ja) | 1999-08-02 | 1999-08-02 | ワーク移動式反応性スパッタ装置とワーク移動式反応性スパッタ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001049432A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008032752A1 (en) * | 2006-09-12 | 2008-03-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate production equipment |
| WO2009033674A2 (en) * | 2007-09-11 | 2009-03-19 | Centrotherm Photovoltaics Ag | Method and apparatus for thermally converting metallic precursor layers into semiconducting layers, and also solar module |
| WO2010100560A1 (en) * | 2009-03-06 | 2010-09-10 | Centrotherm Photovoltaics Ag | Process and device for the thermal conversion of metallic precursor layers into semiconducting layers with chalcogen recovery |
| CN102024870A (zh) * | 2010-04-19 | 2011-04-20 | 福建欧德生光电科技有限公司 | 半导体薄膜太阳能电池的制造系统和方法 |
| CN104937706A (zh) * | 2012-07-09 | 2015-09-23 | 法国圣戈班玻璃厂 | 用于处理衬底的设备和方法 |
-
1999
- 1999-08-02 JP JP11218490A patent/JP2001049432A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008032752A1 (en) * | 2006-09-12 | 2008-03-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate production equipment |
| WO2009033674A2 (en) * | 2007-09-11 | 2009-03-19 | Centrotherm Photovoltaics Ag | Method and apparatus for thermally converting metallic precursor layers into semiconducting layers, and also solar module |
| WO2009033674A3 (en) * | 2007-09-11 | 2009-05-22 | Centrotherm Photovoltaics Ag | Method and apparatus for thermally converting metallic precursor layers into semiconducting layers, and also solar module |
| WO2009034131A3 (en) * | 2007-09-11 | 2009-05-22 | Centrotherm Photovoltaics Ag | Method and arrangement for providing chalcogens |
| WO2010100560A1 (en) * | 2009-03-06 | 2010-09-10 | Centrotherm Photovoltaics Ag | Process and device for the thermal conversion of metallic precursor layers into semiconducting layers with chalcogen recovery |
| CN102024870A (zh) * | 2010-04-19 | 2011-04-20 | 福建欧德生光电科技有限公司 | 半导体薄膜太阳能电池的制造系统和方法 |
| CN104937706A (zh) * | 2012-07-09 | 2015-09-23 | 法国圣戈班玻璃厂 | 用于处理衬底的设备和方法 |
| US9926626B2 (en) | 2012-07-09 | 2018-03-27 | Bengbu Design & Research Institute For Glass Industry | System and method for processing substrates |
| CN104937706B (zh) * | 2012-07-09 | 2019-02-26 | 蚌埠玻璃工业设计研究院 | 用于处理衬底的设备和方法 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20041101 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050131 |