CN210560733U - 一种立式真空镀膜炉 - Google Patents

Abstract

本实用新型具体公开了一种立式真空镀膜炉，包括真空室（1）、真空镀膜室（2）、低真空系统（3）、高真空系统（4）、维护系统（5）和输送装置（6），所述低真空系统（3）和高真空系统（4）位于真空室（1）的左端并且与真空室（1）相连通，所述真空镀膜室（2）位于真空室（1）的右端并且与真空室（1）相连通，所述维护系统（5）位于真空室（1）的上端并且与真空室（1）相连通，所述输送装置（6）连接在真空镀膜室（2）的后端。本实用新型的立式真空镀膜炉抽真空速度快，保压稳定，同时实现多种工艺不同颜色的产品加工和提高产品质量。

Description

一种立式真空镀膜炉

技术领域

本实用新型涉及钢材生产加工领域，具体涉及一种立式真空镀膜炉。

背景技术

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。真空镀膜室一般包含有测温组件、弧源组件、加热管组件、固定架和反应气体组件等。

但是，现有的卧室真空镀色结构比较复杂、保压不稳定、抽真空速度比较慢、颜色不可控和质量不稳定。

实用新型内容

本实用新型发明要解决的技术问题是克服现有技术的保压不稳定、抽真空速度比较慢、颜色不可控的不足，提供一种立式真空镀膜炉。该立式真空镀膜炉抽真空速度快，保压稳定，同时实现多种工艺不同颜色的产品加工和提高产品质量。

本发明所要解决的上述问题通过以下技术方案以实现：

一种立式真空镀膜炉，包括真空室、真空镀膜室、低真空系统、高真空系统、维护系统和输送装置，所述低真空系统和高真空系统位于真空室的左端并且与真空室相连通，所述真空镀膜室位于真空室的右端并且与真空室相连通，所述维护系统位于真空室的上端并且与真空室相连通，所述输送装置连接在真空镀膜室的后端。

优选的，所述低真空系统包括低速扩散泵、低速罗茨泵、低速电机、低速粗抽泵和第二抽气炉，所述低速扩散泵、低速罗茨泵和低速粗抽泵均通过低速电机与第二抽气炉连通，所述第二抽气炉通过连接管与真空室连接为一体。本方案通过低速的扩散泵、罗茨泵、电机、粗抽泵可以迅速的将真空室的空气抽完，并且适应钢材表面所需的颜色等要求。

优选的，所述高真空系统包括高转速电机、高速扩散泵、高速罗茨泵、高速粗抽泵和第一抽气炉，所述速扩散泵、高速罗茨泵和高速粗抽泵均通过高转速电机与第一抽气炉连接为一体，所述第一抽气炉通过连接管与真空室连接为一体。本方案通过高转速的电机、扩散泵、罗茨泵、粗抽泵和第一抽气炉使得真空室的空气更加迅速稳定地抽取掉，并且还可以使得真空镀膜室的产品表面的镀层的工艺颜色等达到不同的要求。

优选的，所述维护系统包括维护电机、维护维持泵、维护罗茨泵、维护扩散泵和维护粗抽泵，所述维护维持泵、维护罗茨泵、维护扩散泵和维护粗抽泵均通过维护电机与真空室连接为一体。本方案通过维护系统的各大设备在抽真空流程结束后能够使得真空室和真空镀膜室的各大系数保持稳定，进而使得钢材表面的镀层保持稳定，提高质量。

优选的，所述输送装置包括第一分输送装置、第二分输送装置、输送架和机械抓臂，所述第一分输送装置固定在输送架上部，所述第二分输送装置固定在第一分输送装置的上端，所述机械抓臂固定在第二分输送装置的上端。本方案通过机械抓臂抓住钢材在第一分输送装置和第二分输送装置的运转至真空镀膜室的内部的安装架上，可以减少人工的操作，还可以避免完成镀层后操作人员无意触碰高温的钢材造成损伤。

优选的，所述第一分输送装置包括第一输送电机和第一输送板，所述第一输送电机固定在输送架的上端侧壁，所述第一输送板活动连接在输送架的上表面并且通过输送链和输送滚轮与第一输送电机连接。本方案通过第一分输送装置的第一输送板使得第二分输送装置更加快速便捷地在输送架运输，提高工作效率。

优选的，所述第二分输送装置包括第二输送电机和输送块，所述第二输送电机固定在第一输送板的侧端，所述输送块活动连接在第一输送板的输送空腔并且通过输送链和输送滚轮与第二输送电机连接，所述输送块的上端连接着机械抓臂。本方案通过第二分输送装置的输送块使得机械抓臂再进一步快速便捷稳定地将钢材在真空镀膜室运输。

优选的，所述第二分输送装置还包括支撑板，所述支撑板固定在第一输送板的上表面前后两端。本方案通过支撑板增加对钢材的支撑能力，同时还可以在完成镀层后对钢材的冷却。

优选的，还包括控制面板，所述控制面板固定在输送装置的侧端。

有益效果：采用本实用型所述的结构后，由于结构设有真空室、真空镀膜室、低真空系统、高真空系统、维护系统和输送装置，根据钢材表面所需要的工艺的颜色程度分别控制低真空系统和高真空系统，使得真空镀膜炉实现多种工艺不同颜色的产品加工，又可以控制维护系统的各大设备保障真空室的各个系数均处于安全状态从而提高产品质量的稳定性，便可得到抽真空速度快，保压稳定，同时实现多种工艺不同颜色的产品加工的立式真空镀膜炉。

附图说明

图1是本实用新型所述的一种立式真空镀膜炉的俯视主要结构图。

图2是本实用新型所述的一种立式真空镀膜炉的主视主要结构图。

图 3 是本实用新型所述的一种立式真空镀膜炉的部分主要结构图。

图 4 是本实用新型所述的一种立式真空镀膜炉的第二分输送装置的主要结构图。

图1-4：1-真空室；2-真空镀膜室；3-低真空系统；4-高真空系统；5-维护系统；6-输送装置；7-维护电机；8-维护维持泵；9-维护罗茨泵；10-维护扩散泵；11-维护粗抽泵；12-高转速电机；13-高速扩散泵；14-高速罗茨泵；15-高速粗抽泵；16-第一抽气炉；17-低速扩散泵；18-低速罗茨泵；19-低速电机；20-低速粗抽泵；21-第二抽气炉；22-第一分输送装置；23-第二分输送装置；24-第一输送电机；25-第一输送板；26-机械抓臂；27-第二输送电机；28-支撑板；29-输送块；30-输送空腔；31-输送架；32-控制面板。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步详细的说明，但实施例对本发明不做任何形式的限定。

实施例1：

本说明书所描述的“前”、“后”、“左”和“右”等方位名称都是根据本说明书所用的示意图所决定的。

图1-4所示的一种立式真空镀膜炉，包括真空室1、真空镀膜室2、低真空系统3、高真空系统4、维护系统5和输送装置6，所述低真空系统3和高真空系统4位于真空室1的左端并且与真空室1相连通，所述真空镀膜室2位于真空室1的右端并且与真空室1相连通，所述维护系统5位于真空室1的上端并且与真空室1相连通，所述输送装置6连接在真空镀膜室2的后端；所述低真空系统3包括低速扩散泵17、低速罗茨泵18、低速电机19、低速粗抽泵20和第二抽气炉21，所述低速扩散泵17、低速罗茨泵18和低速粗抽泵20均通过低速电机19与第二抽气炉21连通，所述第二抽气炉21通过连接管与真空室1连接为一体；所述高真空系统4包括高转速电机12、高速扩散泵13、高速罗茨泵14、高速粗抽泵15和第一抽气炉16，所述速扩散泵13、高速罗茨泵14和高速粗抽泵15均通过高转速电机12与第一抽气炉16连接为一体，所述第一抽气炉16通过连接管与真空室1连接为一体；所述维护系统5包括维护电机7、维护维持泵8、维护罗茨泵9、维护扩散泵10和维护粗抽泵11，所述维护维持泵8、维护罗茨泵9、维护扩散泵10和维护粗抽泵11均通过维护电机7与真空室1连接为一体；所述输送装置6包括第一分输送装置22、第二分输送装置23、输送架31和机械抓臂26，所述第一分输送装置22固定在输送架31上部，所述第二分输送装置23固定在第一分输送装置22的上端，所述机械抓臂26固定在第二分输送装置23的上端；所述第一分输送装置22包括第一输送电机24和第一输送板25，所述第一输送电机24固定在输送架31的上端侧壁，所述第一输送板25活动连接在输送架31的上表面并且通过输送链和输送滚轮与第一输送电机24连接；所述第二分输送装置23包括第二输送电机27和输送块29，所述第二输送电机27固定在第一输送板25的侧端，所述输送块29活动连接在第一输送板25的输送空腔30并且通过输送链和输送滚轮与第二输送电机27连接，所述输送块29的上端连接着机械抓臂26；所述第二分输送装置23还包括支撑板28，所述支撑板28固定在第一输送板25的上表面前后两端；还包括控制面板32，所述控制面板32固定在输送装置6的侧端。

使用方法：首先将钢材置放在输送装置的第一输送板的支撑板上部，启动第一分输送装置的输送电机使得第一输送板将钢材输送到真空镀膜室的门口，然后启动第二输送装置将钢材输送至真空镀膜室的内部，紧接着控制机械抓臂将钢材置放到真空镀膜室的安装架上，关上真空镀膜室的密封门；然后根据钢材表面所需要的工艺的颜色程度分别控制低真空系统和高真空系统，使得真空镀膜炉实现多种工艺不同颜色的产品加工，又可以控制维护系统的各大设备保障真空室的各个系数均处于安全状态从而提高产品质量的稳定性，进而提高产品质量。

当然，以上所述仅表达了本实用新型的某种实施方式，其描述较为详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种立式真空镀膜炉，其特征在于，包括真空室（1）、真空镀膜室（2）、低真空系统（3）、高真空系统（4）、维护系统（5）和输送装置（6），所述低真空系统（3）和高真空系统（4）位于真空室（1）的左端并且与真空室（1）相连通，所述真空镀膜室（2）位于真空室（1）的右端并且与真空室（1）相连通，所述维护系统（5）位于真空室（1）的上端并且与真空室（1）相连通，所述输送装置（6）连接在真空镀膜室（2）的后端。

2.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述低真空系统（3）包括低速扩散泵（17）、低速罗茨泵（18）、低速电机（19）、低速粗抽泵（20）和第二抽气炉（21），所述低速扩散泵（17）、低速罗茨泵（18）和低速粗抽泵（20）均通过低速电机（19）与第二抽气炉（21）连通，所述第二抽气炉（21）通过连接管与真空室（1）连接为一体。

3.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述高真空系统（4）包括高转速电机（12）、高速扩散泵（13）、高速罗茨泵（14）、高速粗抽泵（15）和第一抽气炉（16），所述速扩散泵（13）、高速罗茨泵（14）和高速粗抽泵（15）均通过高转速电机（12）与第一抽气炉（16）连接为一体，所述第一抽气炉（16）通过连接管与真空室（1）连接为一体。

4.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述维护系统（5）包括维护电机（7）、维护维持泵（8）、维护罗茨泵（9）、维护扩散泵（10）和维护粗抽泵（11），所述维护维持泵（8）、维护罗茨泵（9）、维护扩散泵（10）和维护粗抽泵（11）均通过维护电机（7）与真空室（1）连接为一体。

5.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述输送装置（6）包括第一分输送装置（22）、第二分输送装置（23）、输送架（31）和机械抓臂（26），所述第一分输送装置（22）固定在输送架（31）上部，所述第二分输送装置（23）固定在第一分输送装置（22）的上端，所述机械抓臂（26）固定在第二分输送装置（23）的上端。

6.根据权利要求5所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述第一分输送装置（22）包括第一输送电机（24）和第一输送板（25），所述第一输送电机（24）固定在输送架（31）的上端侧壁，所述第一输送板（25）活动连接在输送架（31）的上表面并且通过输送链和输送滚轮与第一输送电机（24）连接。

7.根据权利要求5所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述第二分输送装置（23）包括第二输送电机（27）和输送块（29），所述第二输送电机（27）固定在第一输送板（25）的侧端，所述输送块（29）活动连接在第一输送板（25）的输送空腔（30）并且通过输送链和输送滚轮与第二输送电机（27）连接，所述输送块（29）的上端连接着机械抓臂（26）。

8.根据权利要求7所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述第二分输送装置（23）还包括支撑板（28），所述支撑板（28）固定在第一输送板（25）的上表面前后两端。

9.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，还包括控制面板（32），所述控制面板（32）固定在输送装置（6）的侧端。

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