TWM509425U - 具升降裝載之連續式真空鍍膜設備 - Google Patents

Description

具升降裝載之連續式真空鍍膜設備

本新型為有關一種鍍膜設備，尤指一種具升降裝載之連續式真空鍍膜設備。

真空鍍膜技術是利用物理或化學手段將固體表面塗覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、導電和絕緣等許多優於固體材料本身的優越性能，達到提高產品品質、延長產品壽命等作用，並已應用於航空、電子、機械、化工、軍事等領域。

如中華民國新型專利公告第M426600號之「連續式真空鍍膜設備輸送裝置」，其包含有依序設置的一前端升降機構、一進料機台、一鍍膜機台、一出料機台、一後端升降機構以及一設置於該進料機台、該鍍膜機台與該出料機台下方的回傳機構，一載具由該前端升降機構輸送至該進料機台、該鍍膜機台、該出料機台，最後輸出至該後端升降機構，該後端升降機構下降，再將該載具由該回傳機構輸送回該前端升降機構，藉由將該回傳機構設置於機台下方，可以不須額外設置一循環輸送設備於鍍膜設備之外，以減少占地空間。

雖然將循環輸送設備整合於鍍膜設備內可以減少循環輸送設備的占地空間，然而，相較於循環輸送設備，鍍膜設備因包含複數個大型機台，使其所佔的空間更大，且有些大型機台具有相同的功用，卻因為製程順序而需增加配置，無法節省機台設置，並且，若強制共用該些相同功能的大型機台，各機台之間的等待時間會拉長許多，其製程效率必定大幅降低。因此，如何重複利用機台並減少鍍膜設備佔據廠房空間，以增加廠房空間與機台的利用率，降低製程成本，並且不能額外增加太多的製程時間，實為一重大課題。

本新型的主要目的，在於解決鍍膜設備大幅佔據廠房空間，而使廠房空間與機台利用率低落的問題。

為達上述目的，本新型提供一種具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，係對一載具上的一基材進行鍍膜，其包含有一前置模組、一連接於該前置模組的低壓處理室以及一連接於該低壓處理室的鍍膜室，該前置模組包含有一準備平台，該載具放置於該準備平台上，該低壓處理室包含有一相鄰於該前置模組的第一閘門、一第一上輸送平台、一第一下輸送平台以及一連接於該第一上輸送平台、該第一下輸送平台的第一升降裝置，該第一升降裝置控制該第一上輸送平台與該第一下輸送平台的升降，該第一閘門開啟後供該載具進入該低壓處理室，該鍍膜室包含有一相鄰於該低壓處理室的第二閘門以及一鍍膜輸送平台。

當該第二閘門開啟時，該第一升降裝置控制該第一上輸送平台與該第一下輸送平台分別對應於該鍍膜輸送平台於同一平面，而使分別載有鍍膜前及鍍膜後之該基材的該載具由該第一上輸送平台及該第一下輸送平台輸入及輸出該鍍膜室。

綜上所述，藉由將該第一上輸送平台與該第一下輸送平台設置於該該低壓處理室內，可以藉由該第一升降裝置的控制而使該載具與該基材輸入及輸出該鍍膜室，再由該前置模組輸出，如此一來，可以重複利用該低壓處理室與該前置模組，進而減少機台的設置，因此可以減少本新型所佔據的廠房空間，提升廠房空間與機台的利用率，並降低製程成本。

有關本新型的詳細說明及技術內容，現就配合圖式說明如下：

請參閱「圖1」所示，本新型為一種具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，係對一載具60上的一基材61進行鍍膜，該具升降裝載之連續式真空鍍膜設備包含有一前置模組10、一低壓處理室20以及一鍍膜室32，該前置模組10包含有一準備平台11，該載具60放置於該準備平台11上，該鍍膜室32包含有一鍍膜輸送平台321，該低壓處理室20包含有一相鄰於該前置模組10的第一閘門21、一第一上輸送平台22、一疊置於該第一上輸送平台22下的第一下輸送平台23以及一連接於該第一上輸送平台22與該第一下輸送平台23的第一升降裝置24，該第一升降裝置24控制該第一上輸送平台22與該第一下輸送平台23的升降，使該第一上輸送平台22與該第一下輸送平台23與該鍍膜輸送平台321位於同一平面，於本實施例中，該低壓處理室20可以在低壓力的環境下對該基材61進行鍍膜前的前置處理，例如電漿清潔、加熱等處理，以提高製程的良率。

於本實施例中，本新型更包含有一低真空室40、一第一鍍膜緩衝室33以及一第二鍍膜緩衝室34，該低真空室40設置於該前置模組10與該低壓處理室20之間，該低壓處理室20透過該低真空室40而與該前置模組10連接，並包含有一相鄰於該前置模組10的第三閘門41、一第二上輸送平台42、一疊置於該第二上輸送平台42下的第二下輸送平台43以及一連接於該第二上輸送平台42、該第二下輸送平台43的第二升降裝置45，該第二升降裝置45控制該第二上輸送平台42與該第二下輸送平台43的升降。該第一鍍膜緩衝室33設置於該鍍膜室32及該低壓處理室20之間，並具有一第一鍍膜緩衝輸送平台331，該第二鍍膜緩衝室34設置於該鍍膜室32遠離該低壓處理室20之一側，具有一第二鍍膜緩衝輸送平台341，該第一鍍膜緩衝室33與一第二鍍膜緩衝室34分別置於該鍍膜室32之兩側，以進行鍍膜前及鍍膜後之緩衝調整。

此外，本新型更包含有一連接於該低壓處理室20的第一粗真空機51、一連接於該低真空室40的第二粗真空機52以及一連接於該鍍膜室32的高真空機53，於此實施例中，該鍍膜室32、該第一鍍膜緩衝室33與該第二鍍膜緩衝室34互為連通的，該高真空機53的數量為兩個，並分別設置於該第一鍍膜緩衝室33與該第二鍍膜緩衝室34處，但可以配合使用者的需求而配置不同的數量。該第一粗真空機51、該第二粗真空機52以及該高真空機53分別對該低壓處理室20、該低真空室40與該鍍膜室32進行壓力控制，使壓力大小從該低壓處理室20至該鍍膜室32逐漸遞減，以確保達成鍍膜時所需的真空度，以及降低該第一粗真空機51、該第二粗真空機52以及該高真空機53的工作時間，提升效率。

續搭配參閱「圖2A」至「圖2F」所示，為本新型的操作示意圖，首先，如「圖2A」所示，當該第三閘門41開啟時，該第二升降裝置45控制該第二上輸送平台42對應於該準備平台11於同一平面，該基材61會隨著該載具60而從該準備平台11輸送至該低真空室40的該第二上輸送平台42，而後該第三閘門41關閉，該第二粗真空機52開始對該低真空室40進行壓力控制，直到達到一適當的真空度，若有額外程序處理，亦可於該低真空室40一併進行，並有另一組該載具60a與該基材61a準備於該前置模組10上，接著，如「圖2B」所示，完成於該低真空室40之程序後，該第一閘門21開啟，將該載具60與該基材61輸送至該第一上輸送平台22，進行鍍膜前的準備，而該第一閘門21關閉後，該第一粗真空機51對該低壓處理室20進行壓力控制，使達到該低壓處理室20所需的真空度。在同時，當該第一閘門21關閉後，該第三閘門41便可開啟，輸送該載具60a與該基材61a至該第二上輸送平台42。

再參閱「圖2C」，當該低壓處理室20的真空度達到適當值時，該第二閘門31開啟，該第一升降裝置24控制該第一上輸送平台22對應於該第一鍍膜緩衝輸送平台331於同一平面，而使該載具60與該基材61由該第一上輸送平台22輸入該第一鍍膜緩衝室33。之後，該第二閘門31關閉，該高真空機53對該鍍膜室32、該第一鍍膜緩衝室33與該第二鍍膜緩衝室34進行壓力控制，並將該載具60與該基材61由該第一鍍膜緩衝輸送平台331運送至該鍍膜輸送平台321及該第二鍍膜緩衝輸送平台341，至此，完成一次鍍膜程序。若需進行第二次鍍膜，則可以再反向運送回該第一鍍膜緩衝輸送平台331，以對該基材61進行第二次鍍膜以及鍍膜前後之條件緩衝，鍍膜次數可依據製程需求而有所不同，若只需鍍膜一次，當該載具60與該基材61反向運送回該第一鍍膜緩衝輸送平台331時，該鍍膜室32不會進行鍍膜的動作，而該載具60a與該基材61a則如前述步驟，運送至該第一上輸送平台22，進行鍍膜前的準備，於此實施例中，為一邊輸送該載具60與該基材61一邊進行鍍膜，即該鍍膜室32中的鍍膜機為固定不動，僅依靠該第一鍍膜緩衝輸送平台331、該鍍膜輸送平台321與該第二鍍膜緩衝輸送平台341的輸送使該載具60與該基材61經過鍍膜機的下方，而進行鍍膜。此外，於另一實施方式中，亦可利用定點鍍膜的方式，即當該載具60與該基材61輸送至該鍍膜室32後，該鍍膜室32中的鍍膜機會進行三維或二維的運作，以對該基材61進行鍍膜。需特別說明的是，該低壓處理室20的真空度大於該低真空室40的真空度，該鍍膜室32、該第一鍍膜緩衝室33與該第二鍍膜緩衝室34的真空度大於該低壓處理室20。

續參閱「圖2D」，該基材61鍍膜完畢後，該第二閘門31開啟，該第一升降裝置24控制該第一下輸送平台23對應於該第一鍍膜緩衝輸送平台331於同一平面，而使載有鍍膜後之該基材61的該載具60由該第一鍍膜緩衝室33輸出至該第一下輸送平台23，接著，該第一升降裝置24再控制該第一上輸送平台22對應於該第一鍍膜緩衝輸送平台331於同一平面，使該載具60a與該基材61a由該第一上輸送平台22輸入該第一鍍膜緩衝室33，繼續下一次的鍍膜流程。換句話說，利用該第一升降裝置24控制該第一上輸送平台22以及該第一下輸送平台23便可交換兩個該載具60、60a之位置，達到共用之目的。最後，如「圖2E」及「圖2F」所示，該載具60、60a與該基材61、61a依序從該第一下輸送平台23輸送至該第二下輸送平台43，該第二升降裝置45再控制該第二下輸送平台43對應於該準備平台11於同一平面，而使該載具60、60a與該基材61、61a由該第二下輸送平台43輸出至該前置模組10。

因此，藉由將該第一上輸送平台22與該第一下輸送平台23設置於該低壓處理室20內，以及將該第二上輸送平台42與該第二下輸送平台43設置於該低真空室40內，可以重複利用該低壓處理室20、該低真空室40與該前置模組10，進而減少本新型所佔據的廠房空間，並且僅需設置人力或機械手臂於該前置模組10處進行基材60的回收，減少人力的設置以及降低製程成本。而本實施例僅以兩組該載具60、60a與該基材61、61a舉例說明，於實際運作時，會不斷地將不同的該載具60與該基材61輸入及輸出本新型，以完成基材61的鍍膜。

續搭配參閱「圖3」所示，為本新型的第二實施例，與第一實施例不同的是，該低真空室40僅包含有一輸送平台44，且該輸送平台44與該準備平台11位於同一平面；而在輸送的順序上不同的是，會先將鍍膜完的該載具60與該基材61輸出至該低真空室40或該前置模組10，再將未鍍膜的該載具60與該基材61由該前置模組10或該低真空室40輸入，同樣可以重複利用該低壓處理室20、該低真空室40與該前置模組10，而減少本新型所佔據的廠房空間、減少人力的設置以及降低製程成本。

綜上所述，本新型具有以下特點：

一、藉由將該第一上輸送平台與該第一下輸送平台設置於該低壓處理室內，以及將該第二上輸送平台與該第二下輸送平台設置於該低真空室內，可以重複利用該低壓處理室、該低真空室與該前置模組，進而減少本新型所佔據的廠房空間，提升廠房空間與機台的利用率，並降低製程成本。

二、共用該低壓處理室及該低真空室，降低額外設置相同設備的設備成本。

三、利用垂直升降位於該低壓處理室、該低真空室的輸送平台，而可快速的進行載具交換，且各製程可獨立進行，不會因相互等待需重複利用的機台，而影響整體的製程時間。

四、藉由該第一粗真空機、該第二粗真空機以及該高真空機進行壓力控制，使壓力大小從該低壓處理室至該鍍膜室逐漸遞減，可以確保達成鍍膜時所需的真空度，以及降低該第一粗真空機、該第二粗真空機以及該高真空機的工作時間，提升效率。

因此本新型極具進步性及符合申請新型專利的要件，爰依法提出申請，祈  鈞局早日賜准專利，實感德便。

以上已將本新型做一詳細說明，惟以上所述者，僅爲本新型的一較佳實施例而已，當不能限定本新型實施的範圍。即凡依本新型申請範圍所作的均等變化與修飾等，皆應仍屬本新型的專利涵蓋範圍內。

10‧‧‧前置模組
11‧‧‧準備平台
20‧‧‧低壓處理室
21‧‧‧第一閘門
22‧‧‧第一上輸送平台
23‧‧‧第一下輸送平台
24‧‧‧第一升降裝置
31‧‧‧第二閘門
32‧‧‧鍍膜室
321‧‧‧鍍膜輸送平台
33‧‧‧第一鍍膜緩衝室
331‧‧‧第一鍍膜緩衝輸送平台
34‧‧‧第二鍍膜緩衝室
341‧‧‧第二鍍膜緩衝輸送平台
40‧‧‧低真空室
41‧‧‧第三閘門
42‧‧‧第二上輸送平台
43‧‧‧第二下輸送平台
44‧‧‧輸送平台
45‧‧‧第二升降裝置
51‧‧‧第一粗真空機
52‧‧‧第二粗真空機
53‧‧‧高真空機
60、60a‧‧‧載具
61、61a‧‧‧基材

圖1，為本新型第一實施例的系統結構示意圖。 圖2A~2F，為本新型第一實施例的運作示意圖。 圖3，為本新型第二實施例的系統結構示意圖。

10‧‧‧前置模組

11‧‧‧準備平台

20‧‧‧低壓處理室

21‧‧‧第一閘門

22‧‧‧第一上輸送平台

23‧‧‧第一下輸送平台

24‧‧‧第一升降裝置

31‧‧‧第二閘門

32‧‧‧鍍膜室

321‧‧‧鍍膜輸送平台

33‧‧‧第一鍍膜緩衝室

331‧‧‧第一鍍膜緩衝輸送平台

34‧‧‧第二鍍膜緩衝室

341‧‧‧第二鍍膜緩衝輸送平台

40‧‧‧低真空室

41‧‧‧第三閘門

42‧‧‧第二上輸送平台

43‧‧‧第二下輸送平台

45‧‧‧第二升降裝置

51‧‧‧第一粗真空機

52‧‧‧第二粗真空機

53‧‧‧高真空機

60‧‧‧載具

61‧‧‧基材

Claims (9)

1. 一種具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，對一載具上的一基材進行鍍膜，該具升降裝載之連續式真空鍍膜設備包含有： 一前置模組，包含有一準備平台，該載具放置於該準備平台上； 一連接於該前置模組的低壓處理室，包含有一相鄰於該前置模組的第一閘門、一第一上輸送平台、一疊置於該第一上輸送平台下的第一下輸送平台以及一連接於該第一上輸送平台、該第一下輸送平台的第一升降裝置，該第一升降裝置控制該第一上輸送平台與該第一下輸送平台的升降，該第一閘門開啟後供該載具進入該低壓處理室；以及 一連接於該低壓處理室的鍍膜室，包含有一相鄰於該低壓處理室的第二閘門以及一鍍膜輸送平台； 當該第二閘門開啟時，該第一升降裝置控制該第一上輸送平台與該第一下輸送平台分別對應於該鍍膜輸送平台於同一平面，而使分別載有鍍膜前及鍍膜後之該基材的該載具由該第一上輸送平台及該第一下輸送平台輸入及輸出該鍍膜室。
2. 如申請專利範圍第1項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中更包含有一連接於該低壓處理室以對該低壓處理室進行壓力控制的第一粗真空機。
3. 如申請專利範圍第1項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中更包含有一設置於該前置模組與該低壓處理室之間的低真空室，該低壓處理室透過該低真空室而與該前置模組連接，該低真空室於運作時之真空度小於該低壓處理室運作時之真空度；該低真空室包含有一相鄰於該前置模組的第三閘門、一第二上輸送平台、一疊置於該第二上輸送平台下的第二下輸送平台以及一連接於該第二上輸送平台與該第二下輸送平台的第二升降裝置，該第二升降裝置控制該第二上輸送平台與該第二下輸送平台的升降，當該第三閘門開啟時，該第二升降裝置控制該第二上輸送平台與該第二下輸送平台分別對應於該準備平台於同一平面，而使分別載有鍍膜前及鍍膜後之該基材的該載具由該第二上輸送平台及該第二下輸送平台輸入及輸出該低真空室。
4. 如申請專利範圍第3項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中更包含有一連接於該低真空室以對該低真空室進行壓力控制的第二粗真空機。
5. 如申請專利範圍第3項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中該第二下輸送平台疊置於該第二上輸送平台之下，而連接於該第二升降裝置。
6. 如申請專利範圍第1項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中更包含有一設置於該前置模組與該低壓處理室之間的低真空室，該低真空室包含有一相鄰於該前置模組的第三閘門以及一輸送平台，該輸送平台與該準備平台位於同一平面。
7. 如申請專利範圍第1項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中該更包含有進行鍍膜前及鍍膜後之緩衝調整的一第一鍍膜緩衝室與一第二鍍膜緩衝室，該第一鍍膜緩衝室設置於該鍍膜室及該低壓處理室之間，並具有一第一鍍膜緩衝輸送平台，該第二鍍膜緩衝室設置於該鍍膜室遠離該低壓處理室之一側，並具有一第二鍍膜緩衝輸送平台，該載具運送於該第一鍍膜緩衝輸送平台、該鍍膜輸送平台以及該第二鍍膜輸送平台之間，以進行鍍膜以及鍍膜前後之條件緩衝。
8. 如申請專利範圍第1項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中更包含有一連接於該鍍膜室的高真空機。
9. 如申請專利範圍第1項所述之具升降裝載之連續式真空鍍膜設備，其中該第一下輸送平台疊置於該第一上輸送平台之下，而連接於該第一升降裝置。