JPH02294018A

JPH02294018A - 成膜装置

Info

Publication number: JPH02294018A
Application number: JP11413989A
Authority: JP
Inventors: Ryoji Oritsuki; 折付　良二; Akira Sasano; 笹野　晃; Kazuo Sunahara; 砂原　和雄; Takemi Toritsuka; 鳥塚　武美; Hidekazu Hirata; 平田　英一
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1989-05-09
Filing date: 1989-05-09
Publication date: 1990-12-05

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は放電により膜を形成するプラズマＣＶＤ装置
、スパッタリング装置等の成膜装置に関するものである
，〔従来の技術〕第６図は従来の成膜装置を示す概略斜視図，第７図は第
６図に示した成膜装置の成膜室を示す概略斜視図，第８
図は第６図に示した成膜装置に使用するサブホルダを示
す斜視図、第９図は第６図に示した成膜装置の配管系を
示す図である。図において、１はホルダ着脱部．２は仕
込室、３はホルダ着説室１と仕込室２とを接続する搬送
室，４は仕込室２と接続されたガス出し室，５はガス出
し室４に接続された複数の成膜室で、成膜室５は直列に
接続されている。６は成膜室５の開閉ドア，７は開閉ド
ア６に取り付けられたヒータ，８は成膜室５間に設けら
れたゲート弁，９は成膜室５に接続された冷却室、１０
は冷却室９に接続された取出室、１１は取出室１０とホ
ルダ着脱室１とを接続する搬送室、１２は搬送室３，成
膜室５等，搬送室１１内を走行するカートで、カート１
２に搬送室３、成膜室５等、搬送室１１に設けられたレ
ール上を走行する車輪が設けられており、また、カート
１２に搬送室３、成膜室５等，搬送室１１に設けられた
ピニオンと噛み合うべきラックが設けられ、ピニオンは
叩動手段により暉動される。

１３はカート１２に取り付【プられるサブホルダ、ｌ４
は膜が形成されるべき液晶表示装置等のガラス基板，１
５は均熱板で、ガラス基板１４、均熱板１５はサブホル
ダ１３に取り付けられる．１６はサブホルダ１３をカー
ト１２に着脱するサブホルダ着脱ロボット、１７はガス
出し室４、成膜室５、冷却室９と接続されたロータリポ
ンプ，１８はガス出し室４、成膜室５、冷却室９とロー
タリボンプ１７との間に設けられたブースタポンプ、１
９は成膜室５とブースタポンプ１８との間に設けられた
ターボポンプ、２ｏは成膜室５に接続された成膜ガス配
管、２１は成膜ガス配管２０に設けられたマスフロー、
２２はガス出し室４．成膜室５，冷却室９に接続された
パージガス配管である。

この成膜装置においては、サブホルダ着脱ロボット１６
がガラス基板１４、均熱板１５が取り付けられたサブホ
ルダ１３をカート１２に取り付け，１％［？動手段がピ
ニオンを暉動すると、カート１２が搬送室３．成膜室５
等内を搬送され、成膜室５でガラス基板１４に膜が形成
され、さらにカート１２が搬送室１１内を搬送され、サ
ブホルダ着脱ロボット１６がカート１２からサブホルダ
１３を取り外す。

なおＣＶＤ装置は、たとえば電子材料別冊、「超ＬＳＩ
製造・試験装置ガイドブック」，頁６９〜７４、ｒＣＶ
Ｄ装置Ｊ　，　１９８４年工業調査会発行、で知られて
いる。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、このような成膜装置においては、成暎室５の内
面にも膜が形成され，この膜がフレーク状に剥がれて、
ガラス基板１４の表面に付看すると、異物による不良が
生ずるから、成膜装置５の内部を定期的に清掃する必要
があるが，いずれか１つの成膜装置５を清掃している間
であっても、成膜装置全体を停止する必要があるから，
生産性が低い。

この発明は上述の課題を解決するためになされたもので
、生産性の高い成膜装置を提供することを目的とする．〔課題を解決するための手段〕上記の目的を達成するため、この発明においては、成膜
室内で放電により膜を形成する成膜装置において、真空
搬送室に複数の上記成膜室を接続する。

また，上記の目的を達成するため、この発明においては
、成膜室内で放電により膜を形成する成膜装置において
，大気搬送室に真空室を接続し、上記真空室に予備室を
介して複数の上記成膜室を接続する。

さらに、上記の目的を達成するため、この発明において
は、成膜室内で放電により基板に膜を形成する成膜装置
において、上記成膜室に上記基板の搬送方向に移動可能
に放？ｔＬＩ！極を設ける。

〔作用〕

この成膜装置においては，真空搬送室に複数の成膜室を
接続するから、１つの成膜室を清掃している間であって
も，他の成膜室で膜を形成することができる。

また、大気搬送室に真空室を接続し、真空室に予備室を
介して複数の成膜室を接続するから，１つの成膜室を清
掃している間であっても、他の成膜室で膜を形成するこ
とができる。

さらに、成膜室に基板の搬送方向に移動可能に放電電極
を設けるから、容易に放′正電極を交換することができ
る。

〔実施例〕

第１図はこの発明に係る成膜装置の一部を示す概略平断
面図である。図において、２３は大気搬送室，２４は大
気搬送室２３に接続された方向転換装置，２５は方向転
換装置２４に接続された予備排気室，２６は予備排気室
２５に接続された予備加熱室で、予備加熱室２６にはラ
ンプヒー夕が設けられている。２７は予備加熱室２６に
接続された真空搬送室、２８ａ〜２８ｃは真空搬送室２
７に接続された成膜室で、成膜室２８ａ〜２８Ｃには成
膜用の真空排気系，ガス出し用の真空排気系、成膜ガス
供給配管，バージガス供給配管等が接続されている．２
９ａは成膜室２８ａ〜２８Ｃに設けられた電極取出口、
２９ｂは成膜室２８ａ〜２８ｃに設けられた電極清掃口
、２８ｄは真空搬送室２７に接続されたカートクリーニ
ング室、３０は真空搬送室２７と成膜室２８ａ〜２８ｃ
、カートクリーニング室２８ｄとの間に設けられた予備
室、３１は成膜室２８ａ〜２８ｃ、カートクリーニング
室２８ｄと予備室３０との間に設けられたゲート弁で、
ゲート弁３１は成膜室２８ａ〜２８ｃ側，カートクリー
ニング室２８ｄ側に設けられており、また真空搬送室２
７内の圧力は成膜室２８ａ〜２８ｃ、カートクリーニン
グ室２８ｄ内の圧力よりも低い。さらに，大気搬送室２
３、真空搬送室２７、成膜室２８ａ〜２８Ｃ，カートク
リーニング室２８ｄ等にはカート搬送手段が設けられて
いる．この成膜装置においては、たとえば成膜室２８ａの電極
取出口２９ａ．電極清掃口２９ｂを開けて、成膜室２８
ａを清掃している間にも，他の成膜室２８ｂ、２８ｃに
よって膜を形成することができる。同様に，成膜室２８
ｂを清掃している間にも、他の成膜室２８ａ、２８ｃに
よって膜を形成することができ、また成膜室２８ｃを清
掃している間にも、他の成膜室２８ａ、２８ｂによって
膜を形成することができる。したがって、順次成膜室２
８ａ〜２８ｃを清掃すれば、成膜装置全体を停止する必
要がないので、生産性が高い。また，力一トクリーニン
グ室２８ｄが設けられているので、カートクリーニング
室２８ｄ内でカート１２を清掃することができる。さら
に，ゲート弁３１が成膜室２８ａ〜２８ｃ側、カートク
リーニング室２８ｄ側に設けられているから、成膜室２
８ａ〜２８ｃ内，カートクリーニング室２８ｄ内を大気
圧にしたときに，大気圧がゲート弁３１を閉じる方向に
作用するから、真空搬送室２７内の圧力が高くなるのを
有効に防止することができる。

第２図はこの発明に係る成膜装置を有する製造装置の一
部を示す概略斜視図である．図において、３２．３３は
第１図に示した成膜装置と同様の構成を有する成膜装霞
、３４は成膜装置３２、３３を接続する搬送室に接続さ
れた加工装置で、加工装置３４は成膜装置３２で形成さ
れた膜の加工を行なう．この製造装置においては，膜の形成，膜の加工を効率良
く行なうことができる。

第３図はこの発明に係る他の成膜Ｒ置の一部を示す概略
乎断面図である。図において，３５はガラス基板を１枚
づつ搬送する大気搬送室、３６は大気搬送室２３内に設
けられた着脱室，３７は着脱室３６に接続された予備排
気室で，着脱室３６にはガラス基板を予備排気室３７内
のホルダに着脱する装置が設けられている．３８は予備
排気室３７に接続されたホルダリターン室で，ホルダリ
ターン室３８には真空排気系が接続されている。

３９ａ〜３９ｃはホルダリターン室３８に接続された成
膜室で、成膜室３９ａ〜３９ｃには真空排気系、成膜ガ
ス供給配管，パージガス供給配管等が接続されている，
４０ａは成膜室３９ａ〜３９Ｃに設けられた電極取出口
，４０ｂは成膜室３９ａ〜３９ｃに設けられた電極清掃
口、４１はホルダリターン室３８と成膜室３９ａ〜３９
ｃとの間に設けられた予備室で、予備室４ｌにはランプ
ヒータが設けられており，またホルダリターン室３８に
はガラス基板が取り付けられたホルダを予備排気室３７
、予備室４１に供給し，予備排気室３７、予備室４１か
ら取り出す装置が設けられており、さらに予備室４１に
はガラス基板が取り付けられたホルダを成膜室３９ａ〜
３９ｃに供給し、成膜室３９ａ〜３９ｃから取り出す装
置が設けられている．４２は成膜室３９ａ〜３９ｃと予
備室４１との間に設けられたゲート弁である。

この成膜装置においても、順次成膜室３９ａ〜３９ｃを
清掃すれば、成膜装匝全体を停止する必要がないので，
生産性が高い。

第４図はこの発明に係る他の成膜装置の一部を示す概略
平断面図、第５図は第４図の拡大Ａ−Δ断面図である．
図において、４３は予備室，４４は予備室４３に接続さ
れた成膜室で、成膜室４４には真空排気系，成膜ガス供
給配管、パージガス供給配管等が接続されている。４５
は成膜室４４に接続された予備室で、予備室４３、４５
にはガラス基板５６を１枚づつ搬送する殿送装置（図示
せず）が設けられており、また成膜室４４、予備室４５
にはガラス基板の搬送方向にレール（図示せず）が設け
られている。４６は予備室４３と成膜室４４との間に設
けられたゲート弁、４７は成膜室４４と予備室４５との
間に設けられたゲート弁、４８は成膜室４４のゲート開
口部、４９は成膜室４４に設けられたＲＦ電極、５０は
成膜室４４に設けられたヒータ，５１は成膜室４４に設
けられた搬送ブロック，５２は搬送ブロック５１の車輪
で、搬送ブロック５１はレール上を走行可能である。５
３は搬送ブロック５１に取り付けられた石英板、５４は
搬送ブロック５１に取り付けられた絶縁ブロック、５５
は絶縁ブロック５４に取り付けられたアノードである。

この成膜装置においては、搬送装置によりガラス基板５
６をアノード５５上に載置し、ＲＦ電極４９に電圧を印
加すれば，ガラス基板５６の表面に膜を形成することが
できる。そして、石英板５３，アノート５５等に膜が形
成され、搬送ブロック５１を清掃する必要があるときに
は、搬送ブロック５１をレール上に走行させて、搬送ブ
ロック５１を装置外に取り出したのち、あらかじめ用意
した新たな搬送ブロック５１をレール上に走行させて、
新たな搬送ブロック５１を成膜室４４内に設置すれば、
搬送ブロック５１の交換を非常に短時間にかつ容易に行
なうことができるので、成膜装置を停止する時間が極め
て短いため，生産性が高い。

なお、上述実施例においては、ガラス基板に膜を形成す
る成膜装置について説明したが、半導体ウェハ等に膜を
形成する装置にもこの発明を適用できることは明らかで
ある。また，真空排気系、成膜ガス供給配管、パージガ
ス供給配管を複数の成膜室で共通にすれば、成膜装置が
安価になる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明に係る成膜装置において
は、真空搬送室に複数の成膜室を接続するから、１つの
成膜室を清掃している間であっても、他の成膜室で膜を
形成することができるので、成膜装置全体を停止する必
要がないため、生産性が高い。

また、この発明に係る他の成膜装置においては、大気搬
送室に真空室を接続し、真空室に予備室を介して複数の
成膜室を接続するから、１つの成膜室を清掃している間
であっても、他の成膜室で膜を形成することができるの
で、成膜装置全体を停止する必要がないため、生産性が
高い。

さらに、この発明に係る他の成膜装置においては，成膜
室に基板の搬送方向に移動可能に放電電極を設けるから
、短時間に放電電極を交換することができるので、成膜
装置を停止する時間が極めて短いため、生産性が高い。

このように、この発明の効果は顕著である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係る成膜装置の一部を示す概略平断
面図，第２図はこの発明に係る成膜装置を有する製造装
置の一部を示す概略斜視図、第３図、第４図はそれぞれ
この発明に係る他の成膜装置の一部を示す概略平断面図
、第５図は第４図の拡大Ａ−Ａ断面図、第６図は従来の
成膜装置を示す概略斜視図、第７図は第６図に示した成
膜装置の成膜室を示す概略斜視図、第８図は第６図に示
した成膜装置に使用するサブホルダを示す斜視図、第９
図は第６図に示した成膜装置の配管系を示す図である。２７・・・真空搬送室２８ａ〜２８ｃ・・・成膜室３５・・・大気搬送室３８・・・ホルダリターン室３９ａ〜３９ｃ・・・成膜室４４・・・成膜室５１・・・搬送ブロック５５・・・アノード代理人　　弁理士　中　村　純之助第図第３図５も６コ第２図第５図

Claims

【特許請求の範囲】１、成膜室内で放電により膜を形成する成膜装置におい
て、真空搬送室に複数の上記成膜室を接続したことを特
徴とする成膜装置。２、成膜室内で放電により膜を形成する成膜装置におい
て、大気搬送室に真空室を接続し、上記真空室に予備室
を介して複数の上記成膜室を接続したことことを特徴と
する成膜装置。３、成膜室内で放電により基板に膜を形成する成膜装置
において、上記成膜室に上記基板の搬送方向に移動可能
に放電電極を設けたことを特徴とする成膜装置。