JP2607524Y2 - プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置 - Google Patents

プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置

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JP2607524Y2 JP3714293U JP3714293U JP2607524Y2 JP 2607524 Y2 JP2607524 Y2 JP 2607524Y2 JP 3714293 U JP3714293 U JP 3714293U JP 3714293 U JP3714293 U JP 3714293U JP 2607524 Y2 JP2607524 Y2 JP 2607524Y2
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4587—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially vertically

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、実用新案登録請求の範
囲第１項の上位概念に記載の形式の、プレート状のサブ
ストレートを保持しかつ搬送するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記形式の装置によって一作業過程で多
数のサブストレートを処理することができる。このよう
設備の市場で要求された高いサブストレート・処理能力
に基づき、このようなサブストレート支持装置を設備の
生産性を考慮して構成することが極めて重要である。
【０００３】異なる形状のサブストレート及び異なるタ
イプの設備を考慮したサブストレート支持装置は既に公
知である。従って、プレート状のサブストレートが水平
位置又は垂直位置で通過運動する設備が公知である。
【０００４】垂直位置でコーティングするためにサブス
トレートは、同様に垂直位置で処理設備を介して移動す
る例えば骨組状のサブストレート支持装置内に差し込ま
れる。このサブストレート支持装置は通常鋼管から成る
剛性的な方形のフレームから構成され、このフレーム内
にはサブストレートを受容するために不動に取り付けら
れた桁材が設けられている。
【０００５】この桁材は不都合には設備の処理区分にお
いて、サブストレート自体と同じプロセス条件にされさ
れる。これによって桁材は、一方では高い周囲温度（サ
ブストレート温度はほぼ４２０℃である）によってかつ
他方ではコーティングプロセス中の沈積によって、著し
い摩耗にされされる。
【０００６】桁材は、一方ではサブストレートの正確な
位置決めに不都合な影響を及ぼさないようにするために
温度作用によって変形されてはならず、かつ、他方では
桁材上の残渣層が次ぎのコーティングプロセスにおいて
層質に不都合な影響を及ぼすために全てのコーティング
残渣を簡単に、迅速にしかも完全に洗浄されねばならな
い。
【０００７】更に高周波数（ＨＦ）・励起による処理プ
ロセスの場合には桁材と室壁との間で制御不能なアーク
発生が生ぜしめられ、これによって同様にコーティング
結果に不都合な影響が及ぼされる。
【０００８】
【考案が解決しようとする課題】本考案の課題は、温度
作用による変形、コーティングプロセス後の著しく面倒
な洗浄並びにアーク発生のような上記欠点が回避され、
かつ、確実で安定した経済的なプロセス経過が保証され
るような、サブストレート支持装置を提供することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記課題は本考案によれ
ば、保持兼搬送装置が多部分から成るフレームから構成
されていて、このフレーム内にサブストレートを受容す
るための桁材が差し嵌められていてかつこの桁材に、サ
ブストレートを固定するための保持部材が設けられてお
り、フレーム及び桁材が僅かな熱容量及び高い耐熱性を
有しかつエッジの鋭いコーナを持たない開かれた薄板成
形体から形成されており、全てのフレーム構成部材及び
桁材が互いに解離可能に結合されていることによって解
決された。
【００１０】
【考案の効果】有利には本考案によるサブストレート支
持装置は、セグメント構造に基づき任意のサブストレー
トサイズを考慮して調節可能できかつ個々のセグメント
交換を可能にする、極めて簡単な機械的な構造を有して
いる。
【００１１】専ら開かれた成形体のみを使用することに
よって洗浄を問題なく行なうことができる、即ち、例え
ばサンドブラストの際に及び次いで行なわれる湿式洗浄
の際に桁材上に残渣が残ることはない。
【００１２】温度問題は高耐熱性の材料を使用すること
によって解決される。従ってサブストレート保持クラン
プは例えばデユラサーム（Duratherm）から製作されか
つこれによって有利にはほぼ６００℃の場合にも弾性的
である。
【００１３】支持構成部材を高周波数で使用するのに適
するように面取りすることによって有利にはアーク発生
が阻止される。
【００１４】更に本考案によるサブストレート支持装置
はセグメント構造に基づき選択的に手動着脱からロボッ
ト操作に装備変えできる。
【００１５】本考案の有利な構成はその他の請求項に記
載されている。
【００１６】
【実施例】相互間隔を置いて垂直に配置された２つの支
持部材１，２（第１図参照）の間には、２つの水平なプ
レート状の結合薄板３，４が設けられていて、この場合
結合薄板はそれぞれ、支持部材１，２の下端もしくは上
端に固定されている。支持部材１，２及び結合薄板３，
４は方形のフレーム７を形成する。
【００１７】このフレーム７内には、それぞれ不変な相
互間隔を置いて配置された水平な桁材５，５′,...が設
けられている。個々の桁材の間の残された中間スペース
内には処理すべき方形のサブストレート６，６′,...が
差し嵌められている。図面ではコーティングすべきサブ
ストレート正面側を図示している。
【００１８】支持部材１（第２図参照）はＵ字形の成形
体から製作されかつ、成形体の開かれた背面１２がフレ
ーム７に面しないように、配置されている。成形体の中
央のウェブ内には、支持部材１の長手方向で孔列として
配置された孔８，８′,...が設けられている。
【００１９】水平の桁材５はほぼＵ字形の成形体として
構成されていて、この成形体は開かれた背面１３並びに
２つの別の外側のウェブ１４，１５を有している。桁材
５の端面には孔を有する扁平な保持薄板１０が溶接され
ていて、この場合この孔の孔間隔は支持部材１内の孔
８，８′,...の孔間隔に相応している。桁材５と支持部
材１とはねじ９，９′,...を介して互いに解離可能に結
合されている。
【００２０】帯状のばね鋼から、ほぼ６００℃の温度の
場合でも弾性的な締付けばね１１が製作され、この場合
この締付けばねは側方から見てほぼ横向きの二重のＺ字
形状を有している。締付けばね１１は一端で桁材５のウ
ェブ１４上に締め付けられるのに対して、締付けばねの
自由な他端にはサブストレート６が載設される。
【００２１】サブストレート６は上縁部で、隣接する桁
材５′のウェブ１５′に被せ嵌められる別の締付けばね
１１′によって保持される（第３図参照）。
【００２２】支持部材の上端を互いに結合する結合薄板
４（第４図参照）は上縁部１７の斜面及び下縁部１８の
段状の折曲げ部を以って扁平に形成されている。結合薄
板４の背面には、下縁部１８に対して平行に延びる別の
Ｌ字形薄板１６が固定されている。結合薄板４の端面に
は、ねじ９，９′,...を介して支持部材１に固定され
る、孔を備えた扁平な保持薄板１０′が設けられてい
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】サブストレートを差し嵌められた本考案による
サブストレート支持装置の側面図。
【図２】第１図Ｘで示したコーナ結合部分の拡大斜視
図。
【図３】サブストレートを差し嵌められた２つの桁材の
斜視図。
【図４】第１図Ｙで示した上側のコーナ結合部分の拡大
斜視図。
【符号の説明】
１，２ 支持部材 ３，４ 結合部材 ５，５′,... 桁材 ６，６′,... サブストレート ７ フレーム ８，８′,... 孔 ９，９′,... ねじ １０ 保持薄板 １１，１１′ 締付けばね １２，１３ 背面 １４，１５，１５′ ウェブ １６ Ｌ字形薄板 １７ 上縁部 １８ 下縁部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−272768（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 C23F 4/00

Claims (19)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】 真空処理設備、真空コーティング設備及
    び真空エッチング設備内でかつこの設備を介して、垂直
    位置でプレート状のサブストレート（６，６′,...）を
    保持しかつ搬送するための装置において、前記装置が多
    部分から成るフレーム（７）から構成されていて、この
    フレーム（７）内にサブストレート（６，６′,...）を
    受容するための桁材（５，５′,...）が差し嵌められて
    いてかつこの桁材（５，５′,...）に、サブストレート
    （６，６′,...）を固定するための保持部材（１１，１
    １′,...）が設けられており、フレーム（７）及び桁材
    （５，５′,...）が僅かな熱容量及び高い耐熱性を有し
    かつエッジの鋭いコーナを持たない開かれた薄板成形体
    から形成されており、全てのフレーム構成部材及び桁材
    （５，５′,...）が互いに解離可能に結合されているこ
    とを特徴とする、プレート状のサブストレートを保持し
    かつ搬送するための装置。
  2. 【請求項２】 フレーム（７）が相互間隔を置いて垂直
    に配置された支持部材（１，２）から形成されていて、
    この支持部材（１，２）が水平な部材（３，４）によっ
    て結合されている、請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 フレーム（７）が垂直に真空設備内で保
    持されかつ案内されている、請求項２記載の装置。
  4. 【請求項４】 垂直な支持部材（１，２）が桁材（５，
    ５′,...）を受容するための孔（８，８′,...）を有し
    ている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装
    置。
  5. 【請求項５】 桁材（５，５′,...）が水平にしかも互
    いに平行に配置されている、請求項１記載の装置。
  6. 【請求項６】 桁材（５，５′,...）間の間隔が可変で
    ある、請求項５記載の装置。
  7. 【請求項７】 フレームセグメント（１，２，３，４，
    ５，５′,...）が互いにねじ結合されている、請求項１
    から６までのいずれか１項記載の装置。
  8. 【請求項８】 桁材（５，５′,...）がフレーム（７）
    にねじ結合されている、請求項１から７までのいずれか
    １項記載の装置。
  9. 【請求項９】 フレーム（７）及び桁材（５，
    ５′,...）が中空室を有していない、請求項１から８ま
    でのいずれか１項記載の装置。
  10. 【請求項１０】 フレーム（７）及び桁材（５，
    ５′,...）の成形体の開放側（１２，１３）がサブスト
    レート（６，６′,...）に面していない、請求項９記載
    の装置。
  11. 【請求項１１】 フレーム（７）及び桁材（５，
    ５′,...）が特殊鋼から製作されている、請求項１から
    １０までのいずれか１項記載の装置。
  12. 【請求項１２】 保持部材がサブストレート（６，
    ６′,...）を掛止するために締付けばね（１１，１
    １′,...）として形成されている、請求項１から１１ま
    でのいずれか１項記載の装置。
  13. 【請求項１３】 締付けばね（１１，１１′,...）が薄
    板又は線材から一体に製作されている、請求項１２記載
    の装置。
  14. 【請求項１４】 締付けばね(１１，１１′,...)が、４
    ００℃以上の運転温度の場合でもまだ弾性的な材料から
    製作されている、請求項１３記載の装置。
  15. 【請求項１５】 締付けばね（１１，１１′,...）が桁
    材（５，５′,...）に被せ嵌め可能である、請求項１か
    ら１４までのいずれか１項記載の装置。
  16. 【請求項１６】 サブストレート（６，６′,...）が端
    面でのみ締付けばね（１１，１１′,...）に接触してい
    る、請求項１から１５までのいずれか１項記載の装置。
  17. 【請求項１７】 装置の全ての構成部材（１，２，３，
    ４，５，５′,...、９，９′,...、１１，１１′,...）
    が個々に解離可能にしかも交換可能に互いに結合されて
    いる、請求項１から１６までのいずれか１項記載の装
    置。
  18. 【請求項１８】 ２つのフレーム（７）が背中合わせに
    共通の脚部部材上に配置されている、請求項１から１７
    までのいずれか１項記載の装置。
  19. 【請求項１９】 両フレーム（７）間に上向きに開いた
    中間スペースが形成されている、請求項１８記載の装
    置。
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