JP2543300B2 - サブストレ―トを搬送するための装置 - Google Patents

サブストレ―トを搬送するための装置

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JP2543300B2
JP2543300B2 JP4318317A JP31831792A JP2543300B2 JP 2543300 B2 JP2543300 B2 JP 2543300B2 JP 4318317 A JP4318317 A JP 4318317A JP 31831792 A JP31831792 A JP 31831792A JP 2543300 B2 JP2543300 B2 JP 2543300B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、多数のステーション並
びに加熱装置を有する真空・処理設備内に及びこの真空
・処理設備を介してサブストレートを搬送するための装
置であって、ほぼプレート状の扁平な平行六面体構造の
サブストレートホルダを備えていて、このサブストレー
トホルダが鉛直位置で所定の搬送経路に沿ってステーシ
ョンを介して移動可能である形式のものに関する。
【０００２】
【従来の技術】使用されるサブストレートホルダは、サ
ブストレートに相応して成形された切欠きを有するプレ
ート又は、サブストレートが固定される支持桁を有する
フレームとして構成されている。
【０００３】一般にサブストレートホルダは、通常扁平
なプレート状の形状を有する多数のサブストレートを受
容するのに用いられる。
【０００４】アメリカ合衆国特許第４０４２１２８号明
細書から冒頭に述べた形式の搬送装置が公知であり、こ
の場合主平面を鉛直に位置させてプレート状のサブスト
レートホルダの上側の縦縁及び下側の縦縁が、垂直軸線
を中心として回転可能なローラの間で案内される。
【０００５】付加的にサブストレートホルダの下縁は水
平な回転軸線を有する支持ローラに載設している。
【０００６】ほぼ二次元的なサブストレートホルダを鉛
直位置で所定の搬送経路に沿ってステーションを介して
案内しかつ送るために多数のステーション及びローラ機
構を有する真空・コーティング装置用の搬送装置が公知
である（ヨーロッパ特許第０２５４１４５号明細書）。
【０００７】この場合サブストレートホルダの下縁範囲
には対のガイドローラが配置されていて、このガイドロ
ーラはサブストレートホルダをガイドローラ間で受容し
かつ垂直軸線を中心として回転可能である。
【０００８】この公知の搬送装置の課題は、滴下するコ
ーティング材料に基づくコーティング過程の障害をでき
る限り回避することにあった。
【０００９】更に、真空・コーティング装置用の搬送装
置においてサブストレートホルダに、定置のレール上を
摺動する脚部分を装備することがすでに提案されている
（ヨーロッパ特許第０３４６８１５号明細書）。
【００１０】更に、ドイツ連邦共和国特許出願第４０２
９９０５．８号明細書では、多数のステーションを有す
る真空・処理設備においてサブストレートを搬送するた
めの装置のために、それぞれの脚部分が、相互間隔を置
いて平行にのびる、鉛直平面内に配置された１対のサブ
ストレートホルダを装備することがすでに提案されてい
る。
【００１１】この場合両サブストレートホルダの間に形
成される縦穴状のスペース内には、真空室の上側の壁部
分から鉛直方向で下向きにのびる加熱体が突入してい
る。
【００１２】この公知の装置の欠点は、ほぼ４５０℃の
所要のサブストレート温度に基づきサブストレートホル
ダに対する温度作用を回避できずしかもこの温度作用に
基づき装置全体に熱応力及び歪みが生ぜしめられるとい
うことにある。
【００１３】サブストレート及びサブストレートのロー
ラガイドの狭い寸法許容誤差に基づき、熱作用に起因す
る全ての構成部材の寸法変化によって、設備の確実性及
び運転安全性に著しい影響が及ぼされひいては通常完全
自動的に運転される設備の運転障害が生ぜしめられ、こ
れによって処理運転を中断しなければならずひいては著
しいコストが必要になる。
【００１４】更に、サブストレートホルダがコーティン
グ帯域から取り出されて、別のサブストレートホルダが
コーティング帯域内に取り入れられる場合に、サブスト
レートホルダの中間室内に定置に取り付けられた加熱体
が一緒にコーティングされるという欠点が生ずる。これ
によって運転時間が長くなるにつれて加熱体の出力損失
が生ずる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、温度
作用の影響を受けにくくしかも高温の場合でも設備の安
定した支障のない運転を保証できるような装置を提供
し、更に、望ましくは加熱体のコーティングを回避でき
ひいてはできるだけ保守作業インターバルを長くできる
ようにすることにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】前記課題は本発明によれ
ば、真空室内で保持及び案内するための装置を備えた内
実の脚部分が設けられていて、この脚部分上に、線条細
工状の扁平なフレームとして構成されたヘッド部分が設
けられていて、このヘッド部分に処理すべきサブストレ
ートがサブストレートホルダによって保持されていて、
フレームにおけるサブストレートホルダの保持部が懸架
されて可動に構成されていてかつ相対運動、例えば加熱
に基づく長さ変化を可能にしていることによって解決さ
れた。
【００１７】
【発明の効果】ヘッド部分全体並びにサブストレートホ
ルダの質量の僅かな一貫した線条細工状のフレーム構
造、及び、構成部材相互の保持部の可動な構成によっ
て、装置は殆ど温度作用の影響及び寸法的な歪みを受け
なくなる。
【００１８】サブストレート・支持個所の垂直方向の支
持部材に側方の遮蔽薄板を取り付けることによって、有
利にはサブストレート・加熱体のコーティングが回避さ
れる。
【００１９】本発明の別の有利な構成は、その他の請求
項に記載されている。
【００２０】
【実施例】図面を明瞭にするために図示されていないコ
ーティング室内には２つの噴霧源１，２が、噴霧源の作
用面３，４が不変な間隔を置いて対置するように、配置
されている（第１図参照）。
【００２１】両噴霧源１，２の間には支持フレーム５が
設けられていて、この支持フレーム５は内実の脚部分６
と中方立状のヘッド部分７とから構成されている。
【００２２】脚部分６内には例えば、コーティング室内
で支持フレームを案内及び保持するための装置（図示せ
ず）が設けられている。
【００２３】ヘッド部分７は脚部分６の向き合う端部に
固定されているそれぞれ２つの垂直方向の支持部材８，
９と、垂直方向の支持部材８，９のそれぞれ上端部に結
合された図平面から突出する方向にのびる２つの水平方
向の桁材１０，１１とから構成されている。
【００２４】それぞれ２つの垂直方向の支持部材８，９
と水平方向の桁材１０，１１とによって構成された両フ
レームは閉じられたフレームとして構成されているので
はなく、それぞれ２つの構成部分の間に少なくとも１つ
の可動な結合個所を有している。
【００２５】これによって、温度に起因する支持フレー
ム５の変形を生ぜしめることなしに、熱作用に基づく長
さ変化が可能にされる。
【００２６】水平方向の両桁材１０，１１上には２つの
Ｕ字形のフック１２，１３によってサブストレートホル
ダ１４，１５が懸架されている。
【００２７】このサブストレートホルダ１４，１５は、
桁材１０，１１に対して平行に配置された多数の水平方
向の支持ビーム１６，１６′，１７，１７′と、支持部
材９，９′に対して平行に配置された多数の垂直方向の
支持材１９，１９′とから構成されている（第２図参
照）。
【００２８】サブストレートホルダ１４，１５はそれぞ
れ下側の端部で、支持フレーム５内に差し込まれた水平
方向にのびる支持管２０，２１に支持されている。
【００２９】水平方向の支持ビーム１６，１６′，１
７，１７′はスリット２２，２２′を備えていて、この
スリット内にはコーティングすべきプレート状のサブス
トレート２３，２３′が、サブストレートの前面及び背
面が噴霧源１，２の作用面３，４に対して平行にのびる
ように、差し込まれる。
【００３０】両サブストレートホルダ１４，１５によっ
て、上向きに開いた中間室２４が形成され、この中間室
内には、支持体２６によってコーティング室（図示せ
ず）の室カバーに固定されている中央の加熱体２５が懸
架されている。
【００３１】方形の支持フレーム５内にはほぼ同様に方
形のサブストレート２３，２３′がチェス盤模様状に差
し込まれる。
【００３２】垂直方向の支持部材８，９には側方の遮蔽
薄板２７，２７′が設けられていて、この遮蔽薄板２
７，２７′は、隣接する２つの支持フレーム５，５′の
遮蔽薄板がオーバーラップするように、配置されている
（第３図参照）。
【００３３】これによって、支持フレーム５，５′が方
向Ａで定置の噴霧源１，２に沿って移動した場合に、両
サブストレートホルダ１４，１５間に位置する加熱体２
５のコーティングが回避される。
【００３４】サブストレート２３，２３′を受容するた
めの支持フレーム５はほぼ脚部分６とヘッド部分７とか
ら構成されている。
【００３５】真空室内でフレーム５を保持しかつ案内す
るために脚部分６内に、第１の列のホイール３０，３
０′に載設するレール２８が設けられている。
【００３６】脚部分６の垂直方向の脚部２９は第２の列
のホイール３１，３１′に支持されている。
【００３７】これらホイール組３０，３０′，３１，３
１′は水平方向にのびるＬ字形のケーシングフレーム３
２に固定されていて、このケーシングフレーム３２は矢
張り真空室の壁３３及び底部３４に取り付けられてい
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】２つの対置する噴霧源の間に位置するサブスト
レートを差し込まれたサブストレートホルダの断面図。
【図２】第１図のサブストレートホルダの側面図。
【図３】サブストレートホルダの第２図Ｘ−Ｘ線に沿っ
た断面図。
【図４】ホイール／レール・装置を有するサブストレー
トホルダの断面図。
【符号の説明】
１，２ 噴霧源 ３，４ 作用面 ５ 支持フレーム ６ 脚部分 ７ ヘッド部分 ８，９ 支持部材 １０，１１ 桁材 １９，１９′ 支持材 １２，１３ フック １４，１５ サブストレートホルダ １６，１６′，１７，１７′ 支持ビーム ２０，２１ 支持管 ２２，２２′ スリット ２３，２３′ サブストレート ２４ 中間室 ２５ 加熱体 ２６ 支持体 ２７，２７′ 遮蔽薄板 ２８ レール ２９ 脚部 ３０，３０′，３１，３１′ ホイール ３２ ケーシングフレーム ３３ 壁 ３４ 底部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス ヴォルフ ドイツ連邦共和国 エアレンゼー ミュ ールシュトラーセ 15

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 多数のステーション並びに加熱装置を有
    する真空・処理設備内に及びこの真空・処理設備を介し
    てサブストレート（２３，２３′）を搬送するための装
    置であって、ほぼプレート状の扁平な平行六面体構造の
    サブストレートホルダを備えていて、このサブストレー
    トホルダが鉛直位置で所定の搬送経路に沿ってステーシ
    ョンを介して移動可能である形式のものにおいて、真空
    室内で保持及び案内するための装置を備えた内実の脚部
    分（６）が設けられていて、前記装置が、例えばレール
    （２８）及び支承部材（２９）と協働する２つのホイー
    ル組（３０，３０′，３１，３１′）から成っていて、
    前記脚部分（６）上に、線条細工状の扁平なフレームと
    して構成されたヘッド部分（７）が設けられていて、こ
    のヘッド部分（７）に処理すべきサブストレート（２
    ３，２３′）がサブストレートホルダ（１４，１５）に
    よって保持されていて、フレームにおけるサブストレー
    トホルダの保持部が可動に構成されていてかつサブスト
    レートホルダ（１４，１５）とフレームとの間の相対運
    動、例えば加熱に基づく長さ変化を可能にしていること
    を特徴とする、サブストレートを搬送するための装置。
  2. 【請求項２】 脚部分（６）が一体にしかもほぼ平行六
    面体の形状で構成されている、請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 脚部分（６）がホイール／レール装置に
    よって保持されかつ案内されている、請求項１又は２記
    載の装置。
  4. 【請求項４】 ヘッド部分（７）が脚部分（６）に不動
    に結合されている、請求項１記載の装置。
  5. 【請求項５】 ヘッド部分（７）が多数の垂直方向の支
    持部材（８，８′，９，９′）と水平方向の桁材（１
    ０，１１）とから形成されている、請求項４記載の装
    置。
  6. 【請求項６】 フレームの支持部材（８，８′，９，
    ９′）及び桁材（１０，１１）が少なくとも１つの結合
    個所で互いに可動に構成されていてかつ支持部材及び桁
    材相互の相対運動、例えば加熱に基づく長さ変化を可能
    にしている、請求項４又は５記載の装置。
  7. 【請求項７】 サブストレートホルダ（１４，１５）
    が、サブストレートホルダ（１４，１５）の上端に設け
    られた下向きに開いたフック（１２，１２′，１３，１
    ３′）によって、フレームの桁材に保持されている、請
    求項１記載の装置。
  8. 【請求項８】 それぞれ２つの同じ構成のサブストレー
    トホルダ（１４，１５）が互いに鏡面対称的に配置され
    ている、請求項１記載の装置。
  9. 【請求項９】 脚部分（６）上に設けられた２つのサブ
    ストレートホルダ（１４，１５）の間に、狭幅な高い平
    行六面体状の上向きに開いた中間室（２４）が設けられ
    ている、請求項８記載の装置。
  10. 【請求項１０】 真空室のカバーに保持された加熱体
    （２５）が中間室（２４）内に上方から突入している、
    請求項９記載の装置。
  11. 【請求項１１】 ヘッド部分（７）の垂直方向の支持部
    材（８，８′，９，９′）の外面に遮蔽薄板（２７，２
    ７′）が設けられていて、この場合遮蔽薄板がサブスト
    レート（２３，２３′）の主延び方向にのびている、請
    求項１記載の装置。
  12. 【請求項１２】 ２つの隣接する支持個所（５，５′）
    の遮蔽薄板（２７，２７′）が隙間なくオーバーラップ
    している、請求項１１記載の装置。
JP4318317A 1991-11-30 1992-11-27 サブストレ―トを搬送するための装置 Expired - Lifetime JP2543300B2 (ja)

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DE4139549.2 1991-11-30
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KR (1) KR100228809B1 (ja)
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