JP2511064Y2 - 基板を被覆するための装置 - Google Patents
基板を被覆するための装置Info
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- JP2511064Y2 JP2511064Y2 JP1993042322U JP4232293U JP2511064Y2 JP 2511064 Y2 JP2511064 Y2 JP 2511064Y2 JP 1993042322 U JP1993042322 U JP 1993042322U JP 4232293 U JP4232293 U JP 4232293U JP 2511064 Y2 JP2511064 Y2 JP 2511064Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- perforations
- lamellas
- heating
- heating device
- substrate holder
- Prior art date
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24D—DOMESTIC- OR SPACE-HEATING SYSTEMS, e.g. CENTRAL HEATING SYSTEMS; DOMESTIC HOT-WATER SUPPLY SYSTEMS; ELEMENTS OR COMPONENTS THEREFOR
- F24D19/00—Details
- F24D19/10—Arrangement or mounting of control or safety devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24D—DOMESTIC- OR SPACE-HEATING SYSTEMS, e.g. CENTRAL HEATING SYSTEMS; DOMESTIC HOT-WATER SUPPLY SYSTEMS; ELEMENTS OR COMPONENTS THEREFOR
- F24D3/00—Hot-water central heating systems
- F24D3/12—Tube and panel arrangements for ceiling, wall, or underfloor heating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Central Heating Systems (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、真空処理装置で基板を
被覆するための装置であって、基板ホルダが設けられて
いて、該基板ホルダが、ほぼ鉛直な位置で所定の移動軌
道に沿って真空室を貫通するように運動可能であり、室
天井に固定された、たとえば加熱コイルから成る加熱装
置が設けられていて、該加熱装置が、前記基板ホルダに
設けられた、上方に向かって開いたスリット形の切欠き
に突入しており、該切欠きの主延び方向が運動方向に対
して平行に延びている形式のものに関する。
被覆するための装置であって、基板ホルダが設けられて
いて、該基板ホルダが、ほぼ鉛直な位置で所定の移動軌
道に沿って真空室を貫通するように運動可能であり、室
天井に固定された、たとえば加熱コイルから成る加熱装
置が設けられていて、該加熱装置が、前記基板ホルダに
設けられた、上方に向かって開いたスリット形の切欠き
に突入しており、該切欠きの主延び方向が運動方向に対
して平行に延びている形式のものに関する。
【０００２】
【従来の技術】複数のステーションを備えた真空被覆装
置において基板を搬送するための装置は公知である（ド
イツ連邦共和国特許出願第Ｐ．４０２９９０５．８号明
細書）。この公知の装置は、ほぼ板状の扁平な平行六面
体形の輪郭を有する基板ホルダを備えている。この基板
ホルダは鉛直な位置で、規定された搬送軌道に沿って各
ステーションを通って移動可能である。この基板ホルダ
は上方から基部の範囲にまで延びて、しかもレールに対
して平行に延びている縦穴形の切欠きを有している。こ
の切欠きには、個々のステーションの通過時に、基板ホ
ルダの上方で上壁部分に配置された、扁平でかつ鉛直方
向で下方に延ばしたい加熱体が突入する。
置において基板を搬送するための装置は公知である（ド
イツ連邦共和国特許出願第Ｐ．４０２９９０５．８号明
細書）。この公知の装置は、ほぼ板状の扁平な平行六面
体形の輪郭を有する基板ホルダを備えている。この基板
ホルダは鉛直な位置で、規定された搬送軌道に沿って各
ステーションを通って移動可能である。この基板ホルダ
は上方から基部の範囲にまで延びて、しかもレールに対
して平行に延びている縦穴形の切欠きを有している。こ
の切欠きには、個々のステーションの通過時に、基板ホ
ルダの上方で上壁部分に配置された、扁平でかつ鉛直方
向で下方に延ばしたい加熱体が突入する。
【０００３】複数のステーションと加熱装置とを備えた
真空処理装置において基板を搬送するための別の装置
（ドイツ連邦共和国特許出願第Ｐ．４１３９５４９．２
号明細書）では、小幅で高くかつ平行六面体形の、上方
に向かって開いた中間室が設けられている。この中間室
には、真空室の天井に保持された加熱装置が上方から突
入する。
真空処理装置において基板を搬送するための別の装置
（ドイツ連邦共和国特許出願第Ｐ．４１３９５４９．２
号明細書）では、小幅で高くかつ平行六面体形の、上方
に向かって開いた中間室が設けられている。この中間室
には、真空室の天井に保持された加熱装置が上方から突
入する。
【０００４】２つの鉛直な基板平面の間におけるジオメ
トリ配置に基づき「中心加熱装置」としても知られてい
る上記加熱装置は、主として個々の加熱コイルから成っ
ている。この加熱コイルは通常、真空室の天井に固定さ
れていて、メアンダ状に基板平面の間に敷設されてい
る。しかし、このような加熱装置の構成では、被覆運転
時における熱膨張によって個々の加熱コイルが中心平面
から曲げ出されてしまうという欠点が生じる。これによ
って、基板キャリッジがひっかかってしまったり、基板
表面において局部的な温度過剰増大が生じてしまうおそ
れがある。さらに、従来汎用されてきた中心加熱装置で
は、鉛直方向における温度分布の調節可能性が存在して
いないことも極めて不都合である。
トリ配置に基づき「中心加熱装置」としても知られてい
る上記加熱装置は、主として個々の加熱コイルから成っ
ている。この加熱コイルは通常、真空室の天井に固定さ
れていて、メアンダ状に基板平面の間に敷設されてい
る。しかし、このような加熱装置の構成では、被覆運転
時における熱膨張によって個々の加熱コイルが中心平面
から曲げ出されてしまうという欠点が生じる。これによ
って、基板キャリッジがひっかかってしまったり、基板
表面において局部的な温度過剰増大が生じてしまうおそ
れがある。さらに、従来汎用されてきた中心加熱装置で
は、鉛直方向における温度分布の調節可能性が存在して
いないことも極めて不都合である。
【０００５】
【考案が解決しようとする課題】本考案の課題は、冒頭
で述べた形式の装置を改良して、第１に１つの平面にお
ける加熱コイルの機械的な位置固定が保証されると同時
に、高い熱放射も保証され、第２に局部的な温度差の補
償が可能になり、第３に鉛直方向での温度分布の最適化
可能性が得られるような装置を提供することである。
で述べた形式の装置を改良して、第１に１つの平面にお
ける加熱コイルの機械的な位置固定が保証されると同時
に、高い熱放射も保証され、第２に局部的な温度差の補
償が可能になり、第３に鉛直方向での温度分布の最適化
可能性が得られるような装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本考案の構成では、前記加熱装置が、主として孔付き
の２つの薄板と、両薄板の間に敷設された加熱コイルと
から成っているようにした。
に本考案の構成では、前記加熱装置が、主として孔付き
の２つの薄板と、両薄板の間に敷設された加熱コイルと
から成っているようにした。
【０００７】
【考案の効果】本考案によれば、次のような利点が得ら
れえる。すなわち、加熱コイルが１つの平面内でカバー
用の薄板の間に安定的に案内されるので、加熱コイル自
体と、被覆したい基板との間の接触はもはや生じなくな
る。カバー薄板に孔パターンが設けられていることに基
づき、カバー薄板が閉じられているような構成に比べて
熱放射が改善されている。さらに、鉛直方向における孔
パターンの構成に基づき、温度分布が一層補正され得
る。加熱コイルの局部的な温度差は銅カバー薄板の高い
熱伝導性に基づき補償される。
れえる。すなわち、加熱コイルが１つの平面内でカバー
用の薄板の間に安定的に案内されるので、加熱コイル自
体と、被覆したい基板との間の接触はもはや生じなくな
る。カバー薄板に孔パターンが設けられていることに基
づき、カバー薄板が閉じられているような構成に比べて
熱放射が改善されている。さらに、鉛直方向における孔
パターンの構成に基づき、温度分布が一層補正され得
る。加熱コイルの局部的な温度差は銅カバー薄板の高い
熱伝導性に基づき補償される。
【０００８】
【実施例】以下に、本考案の実施例を図面につき詳しく
説明する。
説明する。
【０００９】方形の真空室１（図１）の底部には、真空
スライダ２と、真空ポンプ３とが設けられている。２つ
の支持アーム４，５は左側の室壁の下側の範囲に固定さ
れており、この支持アームの自由端部には、室中央で２
つのローラ６，７が設けられている。両ローラ６，７に
よって基部８が案内される。この基部には、Ｕ字形の基
板ホルダ９が固定されている。基板ホルダ９の両アーム
には、被覆したい基板１０，１１が挿入されている。絶
縁体１４を介して真空室１の天井に固定されている中心
加熱装置１３は、上方に向かって開いた基板ホルダ９の
平行な中間室１２に上方から無接触に突入している。
スライダ２と、真空ポンプ３とが設けられている。２つ
の支持アーム４，５は左側の室壁の下側の範囲に固定さ
れており、この支持アームの自由端部には、室中央で２
つのローラ６，７が設けられている。両ローラ６，７に
よって基部８が案内される。この基部には、Ｕ字形の基
板ホルダ９が固定されている。基板ホルダ９の両アーム
には、被覆したい基板１０，１１が挿入されている。絶
縁体１４を介して真空室１の天井に固定されている中心
加熱装置１３は、上方に向かって開いた基板ホルダ９の
平行な中間室１２に上方から無接触に突入している。
【００１０】２つの被覆カソード１５，１６は基板１
０，１１の両側で真空室１の側壁に設けられている。
０，１１の両側で真空室１の側壁に設けられている。
【００１１】平らな銅カバー薄板２１（図２）はその全
面に複数の穿孔２２，２２′．．．を備えている。これ
らの穿孔は互いに規則的で対称的な孔パターンで配置さ
れていて、全て等しい孔直径、有利には５ｍｍを有して
いる。銅カバー薄板２１の前面には、加熱コイル２３が
位置しており、この加熱コイルはメアンダ状の経過で銅
カバー薄板２１の表面全体にわたって敷設されていて、
１つの平面内を延びている。
面に複数の穿孔２２，２２′．．．を備えている。これ
らの穿孔は互いに規則的で対称的な孔パターンで配置さ
れていて、全て等しい孔直径、有利には５ｍｍを有して
いる。銅カバー薄板２１の前面には、加熱コイル２３が
位置しており、この加熱コイルはメアンダ状の経過で銅
カバー薄板２１の表面全体にわたって敷設されていて、
１つの平面内を延びている。
【００１２】加熱コイル２３の上側で銅カバー薄板２１
に対して平行な間隔をおいて、第２の銅カバー薄板２４
が設けられており、この第２の銅カバー薄板に設けられ
た穿孔２５，２５′．．．は形状と性質の点で第１の銅
カバー薄板２１と同一であるので、両銅カバー薄板２
１，２４と加熱コイル２３とは互いにサンドイッチ構造
で配置されており、各構成部分の間に熱接触が生じる。
に対して平行な間隔をおいて、第２の銅カバー薄板２４
が設けられており、この第２の銅カバー薄板に設けられ
た穿孔２５，２５′．．．は形状と性質の点で第１の銅
カバー薄板２１と同一であるので、両銅カバー薄板２
１，２４と加熱コイル２３とは互いにサンドイッチ構造
で配置されており、各構成部分の間に熱接触が生じる。
【図面の簡単な説明】
【図１】中心加熱装置を備えたカソードスパッタリング
装置の縦断面図である。
装置の縦断面図である。
【図２】本考案による中心加熱装置の分解斜視図であ
る。
る。
１ 真空室、 ２ 真空スライダ、 ３ 真空ポンプ、
４，５ 支持アーム、 ６，７ ローラ、 ８ 基
部、 ９ 基板ホルダ、 １０，１１ 基板、１２ 中
間室、 １３ 中心加熱装置、 １４ 絶縁体、 １
５，１６ 被覆カソード、 ２１ 銅カバー薄板、 ２
２，２２′ 穿孔、 ２３ 加熱コイル、２４ 銅カバ
ー薄板、 ２５，２５′ 穿孔
４，５ 支持アーム、 ６，７ ローラ、 ８ 基
部、 ９ 基板ホルダ、 １０，１１ 基板、１２ 中
間室、 １３ 中心加熱装置、 １４ 絶縁体、 １
５，１６ 被覆カソード、 ２１ 銅カバー薄板、 ２
２，２２′ 穿孔、 ２３ 加熱コイル、２４ 銅カバ
ー薄板、 ２５，２５′ 穿孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 クリストフ ダウベ 茨城県つくば市並木４丁目６−１ガーデ ンヒルズ並木807 (72)考案者 ヘルベルト プファイファー ドイツ連邦共和国 マインタール ファ ールガッセ 15
Claims (12)
- 【請求項１】 真空処理装置で基板（１０，１１）を被
覆するための装置であって、基板ホルダ（９）が設けら
れていて、該基板ホルダが、ほぼ鉛直な位置で所定の移
動軌道に沿って真空室（１）を貫通するように運動可能
であり、室天井に固定された加熱装置（１３）が設けら
れていて、該加熱装置が、前記基板ホルダ（９）に設け
られた、上方に向かって開いたスリット形の切欠きに突
入しており、該切欠きの主延び方向が運動方向に対して
平行に延びている形式のものにおいて、前記加熱装置
（１３）が、主として孔付きの２つの薄板（２１，２
４）と、両薄板（２１，２４）の間に敷設された加熱コ
イル（２３）とから成っていることを特徴とする、基板
を被覆するための装置。 - 【請求項２】 前記薄板（２１，２４）が、平らに形成
されている、請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 前記薄板（２１，２４）が、互いに平行
に配置されている、請求項１記載の装置。 - 【請求項４】 前記薄板（２１，２４）が、等しいジオ
メトリ形状を有している、請求項１記載の装置。 - 【請求項５】 前記薄板（２１，２４）が、銅またはこ
れに類する良熱伝導性の材料から製造されている、請求
項１記載の装置。 - 【請求項６】 前記薄板（２１，２４）に設けられた孔
が、穿孔（２２，２２′；２５，２５′）として構成さ
れている、請求項１記載の装置。 - 【請求項７】 前記穿孔（２２，２２′；２５，２
５′）の全てが、等しい直径を有している、請求項６記
載の装置。 - 【請求項８】 前記穿孔（２２，２２′；２５，２
５′）が、互いに異なる直径を有している、請求項６記
載の装置。 - 【請求項９】 前記穿孔（２２，２２′；２５，２
５′）が、互いに等しい間隔で配置されている、請求項
１記載の装置。 - 【請求項１０】 前記穿孔（２２，２２′；２５，２
５′）が、互いに異なる間隔で配置されている、請求項
１記載の装置。 - 【請求項１１】 前記加熱装置（１３）が、プレート加
熱装置として構成されている、請求項１記載の装置。 - 【請求項１２】 前記薄板（２１，２４）と前記加熱コ
イル（２３）とが、ねじを介して互いに固く結合されて
いる、請求項１記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9210359.6 | 1992-08-03 | ||
| DE9210359U DE9210359U1 (de) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | Vorrichtung für die Beschichtung von Substraten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625359U JPH0625359U (ja) | 1994-04-05 |
| JP2511064Y2 true JP2511064Y2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=6882272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1993042322U Expired - Lifetime JP2511064Y2 (ja) | 1992-08-03 | 1993-08-02 | 基板を被覆するための装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2511064Y2 (ja) |
| KR (1) | KR0132714Y1 (ja) |
| DE (1) | DE9210359U1 (ja) |
| NL (1) | NL9300458A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102014104009A1 (de) * | 2014-03-24 | 2015-09-24 | Aixtron Se | Auf seinen beiden voneinander wegweisenden Breitseiten je ein Substrat tragender Substratträger |
| DE102014104011A1 (de) | 2014-03-24 | 2015-09-24 | Aixtron Se | Vorrichtung zum Abscheiden von Nanotubes |
| CN109609923B (zh) * | 2019-01-11 | 2023-08-25 | 广东谛思纳为新材料科技有限公司 | 一种便于拉链扣电离子镀铂加工的自动化装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58170532A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-07 | Toshiba Corp | 真空用加熱装置 |
| DE4029905C2 (de) * | 1990-09-21 | 1993-10-28 | Leybold Ag | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
-
1992
- 1992-08-03 DE DE9210359U patent/DE9210359U1/de not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-03-15 NL NL9300458A patent/NL9300458A/nl active Search and Examination
- 1993-07-12 KR KR2019930012769U patent/KR0132714Y1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-08-02 JP JP1993042322U patent/JP2511064Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE9210359U1 (de) | 1992-09-24 |
| KR0132714Y1 (ko) | 1998-12-15 |
| KR940006064U (ko) | 1994-03-22 |
| JPH0625359U (ja) | 1994-04-05 |
| NL9300458A (nl) | 1994-03-01 |
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