DE4036339C2 - Vorrichtung für den Transport von Substraten - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für den Transport
von Substraten bei Vakuum-Beschichtungsanlagen mit mehre
ren Stationen, mit Substrathaltern mit etwa plattenförmi
ger, flacher, parallelepipeder Konfiguration, die in lot
rechter Stellung - entlang eines vorgegebenen Transport
weges - durch die Stationen bewegbar sind und die mit
Schienen zusammenwirken, die unterhalb der an den Sub
strathaltern befestigbaren Substraten vorgesehen sind,
wozu das Fußteil des Substrathalters mit wenigstens zwei
parallel und im Abstand zueinander verlaufenden Schienen
versehen ist.
Die zum Einsatz kommenden Substrathalter sind entweder
Platten mit entsprechend den Substraten geformten Aus
schnitten oder Rahmen mit Streben, an denen die Substrate
befestigt werden. Im allgemeinen dient ein Substrathalter
zur Aufnahme einer Vielzahl von Substraten.
Durch die US-PS 40 42 128 ist eine Transporteinrichtung
der eingangs beschriebenen Gattung bekannt, bei der
plattenförmige Substrathalter bei vertikaler Lage ihrer
Hauptebene an ihren oberen und unteren Längskanten zwi
schen Rollen geführt werden, die um senkrechte Achsen
drehbar sind. An ihren Unterkanten liegen die Substrat
halter zusätzlich auf Stützrollen mit horizontaler Dreh
achse auf. Die unteren Führungsrollen sind jedoch nicht
im Stande, die Substrathalter allein in genau vertikaler
Stellung zu halten und zu transportieren, so daß eine
stabile Positionierung nur unter Zuhilfenahme der oberen
Führungsrollen möglich ist.
Bekannt ist auch eine Transporteinrichtung für Vakuum-
Beschichtungsanlagen (EP 02 54 145 B1) mit mehreren
Stationen und mit Rollensystemen für die Führung und den
Vorschub von im wesentlichen zweidimensionalen Substrat
haltern in senkrechter Stellung entlang eines vorgegebe
nen Transportweges durch die Stationen, wobei im Bereich
der Unterkante der Substrathalter paarweise Führungsrol
len angeordnet sind, die den Substrathalter zwischen sich
aufnehmen und die um senkrechte Achsen drehbar sind,
wobei die Substrathalter ausschließlich im Bereich ihrer
Unterkante durch die Rollensysteme geführt sind und die
Führungsrollen mit Laufflächen versehen sind, die auf
mindestens einer Führungsrolle eines Rollenpaares jeweils
am unteren und am oberen Ende angeordnet sind, wobei die
jeweils andere Führungsrolle des gleichen Rollenpaares
mindestens eine Lauffläche aufweist und wobei die minde
stens drei Laufflächen eines Rollenpaares in bezug auf
den Substrathalter eine kippsichere Einspannung bilden.
Dieser bekannten Transporteinrichtung lag die Aufgabe
zugrunde, die Störung des Beschichtungsvorganges durch
herabrieselndes Schichtmaterial soweit wie möglich
auszuschließen.
Weiterhin hat man bereits vorgeschlagen, den Substrat
halter bei einer Transporteinrichtung für eine Vakuum-
Beschichtungsanlage mit einem Fußteil auszustatten, das
auf ortsfesten Schienen gleitet (EP 03 46 815).
Schließlich ist in einer älteren Patentanmeldung
(P 40 29 905.8) für eine Vorrichtung für den Transport
von Substraten bei Vakuum-Beschichtungsanlagen mit mehre
ren Stationen vorgeschlagen worden, Schienen vorzusehen,
die jeweils im Bereich des Fußteils eines Substrathalters
angeordnet sind.
Jedes Fußteil ist dazu mit einem Paar parallel und im
Abstand zueinander verlaufender, in einer lotrechten
Ebene angeordneter Schienen versehen, deren einander
zugekehrte Schmalseiten Längsnuten aufweisen, die mit
Rollen oder Gleitschienen korrespondieren, die ortsfest
am Bodenteil der Vorrichtung gelagert sind und die
jeweils in Reihen entsprechend dem Verlauf der Nuten in
übereinanderliegenden, vertikalen Ebenen im Abstand
zueinander vorgesehen sind, wobei der Substrathalter eine
sich von oben her bis in den Bereich eines Fußteils
erstreckende, parallel zu den Schienen verlaufende,
schachtförmige Aussparung aufweist, in die beim Durchlauf
durch die Station ein oberhalb des Substrathalters am
oberen Wandteil angeordneter, flacher, sich lotrecht nach
unten zu erstreckender Heizkörper hineinragt.
Der vorliegenden Erfindung liegt insbesondere die Aufgabe
zugrunde, eine Substrathalterung für mehrere Substrate zu
schaffen und die Substrathalterung derart auszubilden,
daß die Substrate gemeinsam beim Durchlauf durch eine
Behandlungsstation bearbeitbar sind. Insbesondere sollen
die Substrathalter entlang des Transportweges absolut
störungsfrei und mit einem Minimum an seitlichen Bewegun
gen (Erschütterungen) gehalten und geführt werden und
schließlich so ausgebildet sein, daß die Substratträger
rasch und ohne den Einsatz von Werkzeugen von der Vor
richtung trennbar bzw. abnehmbar sind.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
die dem Substrathalter abgekehrte Schmalseite der ersten
Schiene eine Längsnut aufweist, die mit Rollen zusammen
wirkt, die am Gehäuserahmen der Vorrichtung drehbar
gelagert und in einer Reihe entsprechend dem Verlauf der
Nut im Abstand zueinander vorgesehen sind, wobei die
zweite Schiene parallel zur ersten verläuft und mit einer
planen Lauffläche versehen ist, deren Ebene die Rota
tionsachsen der der ersten Schiene zugeordneten Rollen
rechtwinklig schneidet und durch den Schwerpunkt des
Substrathalters verläuft und die mit Rollen zusammen
wirkt, die in einer Reihe angeordnet und um lotrechte
Achsen drehbar am Bodenteil des Gehäuserahmens drehbar
gelagert sind, wobei die Längsachse der Nut der ersten
Schiene um ein Maß zur Ebene zeitlich versetzt angeordnet
ist.
Weitere erfindungswesentliche Merkmale und Einzelheiten
sind in den Patentansprüchen näher beschrieben und
gekennzeichnet.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungsmög
lichkeiten zu; eine davon ist in der anhängenden Zeich
nung schematisch in einem Quer- und einem Längsschnitt
näher dargestellt.
Wie aus der Zeichnung ersichtlich, besteht die Vorrich
tung im wesentlichen aus in einer (nicht näher darge
stellten) Beschichtungskammer an sich horizontal und ver
tikal erstreckenden Schenkeln (4a, 4b) eines L-förmigen
Gehäuserahmens (4) drehbar gelagerten Rollen (7, 7′, . . .;
8, 8′, . . .), einem mit Schienen 13, 14 versehene Fußteil
15 eines im Querschnitt U-förmig ausgeformten Substrat
halters 16 und den beiden rahmenförmigen, die Substrate
22, 23 haltenden Seitenteilen 16a, 16b eines Substrat
halters 16.
Während des Betriebs der in der Zeichnung nicht näher
dargestellten Beschichtungsstation werden die Substrate
22, 23 in einer Richtung R lotrecht zur Zeichnungs
schnittebene an den Kathoden der Beschichtungsstation
vorbeibewegt.
Nach der Beschichtung der Außenflächen 22a, 23a der
Substrate 22, 23 werden diese in der gleichen Richtung R
(lotrecht zur Zeichenebene) bis zur nächsten Bearbei
tungsstation weiterbewegt. Die scheibenförmigen Substrate
22, 23 sind dabei von den sie rahmenförmig
umschließenden Seitenteilen 16a, 16b des Substrathalters 16 gehalten,
der seinerseits fest mit dem oberen Schenkel 15b des
Fußteils 15 verbunden oder einstückig mit diesem ausge
bildet ist. Das Fußteil 15 ist mit einem Paar von Schie
nen 13, 14 verschraubt oder verschweißt, von denen die
eine eine Längsnut 13a aufweist, in denen die Rollen 7,
7′, . . . laufen, die in einer Reihe in Abständen hinter
einanderliegend drehbar um die Achsen va am vertikalen
Schenkel 4b des Gehäuserahmens 4 gelagert sind. Der Ab
stand, den die Reihen von Rollen 7, 8 zueinander aufwei
sen bzw. die Anordnung der beiden Schienen 13, 14 zuein
ander, ist so gewählt, daß das Fußteil 15 auf diesen
kippsicher gehalten und geführt ist.
Der mit einer schlitz- bzw. schachtförmigen Aussparung 24
versehene Substrathalter 16 mit seinem mit ihm fest ver
bundenen, im Querschnitt etwa L-förmigen Fußteil 15 weist
einen Massenschwerpunkt S auf, dessen Lage wiederum so
gewählt ist, daß die von der Lauffläche 14a der zweiten
Schiene 14 bestimmte, sich lotrecht erstreckende Ebene E2
etwa diesen Massenschwerpunkt S schneidet oder sich
rechts von diesem befindet, während eine ebenfalls lot
rechte, durch die Nut 13a der ersten Schiene 13 hindurch
gelegte parallele Ebene E1 in einem bestimmten Abstand X
zur Ebene E2, die den Massenschwerpunkt S schneidet,
verläuft.
Für den ruhigen und stabilen Lauf des Substrathalters 16
entlang dem Gehäuserahmen 4 mit seinem verwindungsstei
fen, L-förmigen Querschnittsprofil ist mitbestimmt vom
Maß X, d. h. von dem Abstand, den die Mittenebene der Nut
13a der ersten Schiene 13 von der Laufebene 14a der
zweiten Schiene 14 aufweist.
Wie die Zeichnung zeigt, hat auch das Fußteil 15 ein
L-förmiges Querschnittsprofil, wobei die Länge des
Schenkels 15a etwa der Länge des Schenkels 4b des Gehäu
serahmens 4 entspricht und die Länge des Schenkels 15b
etwa der Breite des Bodenteils 4a des Gehäuserahmens.
Ein besonderer Vorteil der Vorrichtung besteht darin, daß
der Substratträger 16 völlig problemlos in Pfeilrichtung
B um die Laufflächen der oberen Rollen 7, 7′, . . . zur
Seite kippbar und gleichzeitig auch nach oben zu, d. h.
in Pfeilrichtung C, abnehmbar ist.
Bezugszeichenliste
4 Gehäuserahmen
4a Bodenteil des Gehäuserahmens
4b Seitenschenkel des Gehäuserahmens
7, 7′, 7′′, . . . Rolle
8, 8′, 8′′, . . . Rolle
13 Schiene
13a Längsnut
14 Schiene
14a Längsnut
15 Fußteil
15a, 15b Schenkel des Fußteils
16 Substrathalter
16a Seitenteil des Substrathalters
16b Seitenteil des Substrathalters
22 Substrat
23 Substrat
24 schachtförmige Aussparung
R Laufrichtung des Substrathalters
S Massenschwerpunkt
E₁ Laufebene der Rollen 7, 7′, . . .
E₂ Laufebene der Rollen 8, 8′, . . .
la Rotationsachse der Rolle 8
va Rotationsachse der Rolle 7 X Abstand der beiden Ebenen E₁, E₂ zueinander
B Kipprichtung der Substrathalter 16
C Entnahmerichtung der Substrathalter 16
4a Bodenteil des Gehäuserahmens
4b Seitenschenkel des Gehäuserahmens
7, 7′, 7′′, . . . Rolle
8, 8′, 8′′, . . . Rolle
13 Schiene
13a Längsnut
14 Schiene
14a Längsnut
15 Fußteil
15a, 15b Schenkel des Fußteils
16 Substrathalter
16a Seitenteil des Substrathalters
16b Seitenteil des Substrathalters
22 Substrat
23 Substrat
24 schachtförmige Aussparung
R Laufrichtung des Substrathalters
S Massenschwerpunkt
E₁ Laufebene der Rollen 7, 7′, . . .
E₂ Laufebene der Rollen 8, 8′, . . .
la Rotationsachse der Rolle 8
va Rotationsachse der Rolle 7 X Abstand der beiden Ebenen E₁, E₂ zueinander
B Kipprichtung der Substrathalter 16
C Entnahmerichtung der Substrathalter 16
Claims (4)
1. Vorrichtung für den Transport von Substraten (22,
23) bei Vakuum-Beschichtungsanlagen mit mehreren
Stationen, mit Substrathaltern (16) mit etwa plat
tenförmiger, flacher, parallelepipeder Konfigura
tion, die in lotrechter Stellung entlang eines vor
gegebenen Transportweges durch die Stationen beweg
bar sind und die mit Schienen (13, 14) zusammenwir
ken, die unterhalb der an den Substrathaltern (16)
befestigbaren Substraten (22, 23) vorgesehen sind,
wozu das Fußteil (15) des Substrathalters (16) mit
wenigstens zwei parallel und im Abstand zueinander
verlaufenden Schienen (13, 14) versehen ist, dadurch
gekennzeichnet, daß die dem Substrathalter (16) ab
gekehrte Schmalseite der ersten Schiene (13) eine
Längsnut (13a) aufweist, die mit Rollen (7, 7′, 7′′,
. . .) zusammenwirkt, die am Gehäuserahmen (4) der
Vorrichtung um horizontale Achsen (va) drehbar gela
gert und in einer Reihe entsprechend dem Verlauf der
Nut (13a) im Abstand zueinander vorgesehen sind,
wobei die zweite Schiene (14) parallel zur ersten
verläuft und mit einer planen Lauffläche (14a)
versehen ist, deren Ebene (E2) die Rotationsachsen
(va) der der ersten Schiene (13) zugeordneten Rollen
(7, 7′, . . .) rechtwinklig schneidet und etwa durch
den Massenschwerpunkt (S) des Substrathalters (16)
verläuft, wobei die Lauffläche (14a) mit Rollen (8,
8′, . . .) zusammenwirkt, die in einer Reihe ange
ordnet und um lotrechte Achsen (1 a) drehbar am
Bodenteil (4a) des Gehäuserahmens (4) um lotrechte
Achsen (1 a) drehbar gelagert sind, wobei die Längs
achse der Nut (13a) der ersten Schiene (13) um ein
Maß (X) zur Ebene (E2) der planen Lauffläche (14a)
seitlich versetzt angeordnet ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Gehäuserahmen (4) von einer Profilschiene
oder Profilstab gebildet ist, mit einem im wesent
lichen L-förmigen Querschnitt, wobei an dem sich
lotrecht erstreckenden Schenkel (4b) der Profil
schiene (4), die mit der Nut (13a) der ersten
Schiene (13) zusammenwirken, sich um horizontal
angeordnete Achsen (va) drehenden Rollen (7, 7′,
. . .) gelagert sind und wobei auf dem sich waagerecht
erstreckenden unteren Schenkel (4a) des Gehäuserah
mens (4), die mit der zweiten Schiene (14) zusammen
wirken, den Rollen (8, 8′, . . .) gelagert sind, die
um lotrechte Achsen (1 a) drehbar sind.
3. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher
gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
parallel der Längsnut (13a) der ersten Schiene (13)
verlaufende, sich lotrecht erstreckende Wirkebene
(E1) auf der einen Seite einer prallelen, sich durch
den Massenschwerpunkt (S) erstreckenden Ebene ange
ordnet ist und die von der Lauffläche (14a) der
zweiten Schiene (14) bestimmten Ebene (E2) auf der
anderen Seite der durch den Schwerpunkt (S) verlau
fenden Ebene vorgesehen ist oder aber mit dieser
zusammenfällt.
4. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der Substrathalter (16) zwei
rahmenförmig ausgebildete, in parallelen Ebenen
angeordnete Seitenteile (16a, 16b) aufweist, die
zwischen sich eine schachtförmige Aussparung (24)
bilden und die mit fensterartigen Öffnungen versehen
sind, in die die Substrate (22, 23) einlegbar sind,
wobei die Seitenteile (16a, 16b) des Substrathalters
(16) einstückig ausgebildet sind oder mit dem Fuß
teil (15) vernietet, verschraubt oder über Gelenke
verbunden sind.
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US07/643,622 US5133285A (en) | 1990-11-15 | 1991-01-16 | Apparatus for transporting substrates |
CH2449/91A CH683779A5 (de) | 1990-11-15 | 1991-08-20 | Vorrichtung für den Transport von Substraten. |
KR1019910018054A KR920010018A (ko) | 1990-11-05 | 1991-10-14 | 진공코팅시스템의 기초재 운반장치 |
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Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4139549A1 (de) * | 1991-11-30 | 1993-06-03 | Leybold Ag | Vorrichtung fuer den transport von substraten |
DE4216755A1 (de) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Wolfgang Lewcke | Modulare Herstellungsanlage für Ringbücher und Briefordner |
US5489369A (en) * | 1993-10-25 | 1996-02-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Method and apparatus for thin film coating an article |
DE4428136A1 (de) * | 1994-08-09 | 1996-02-15 | Leybold Ag | Vakuum-Beschichtungsanlage |
DE19500964A1 (de) * | 1995-01-14 | 1996-07-18 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten |
CH691680A5 (de) * | 1996-10-15 | 2001-09-14 | Unaxis Deutschland Gmbh | Transportvorrichtung für Werkstücke in einer Vakuumanlage. |
US5951776A (en) * | 1996-10-25 | 1999-09-14 | Applied Materials, Inc. | Self aligning lift mechanism |
US6149506A (en) * | 1998-10-07 | 2000-11-21 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen |
US5967882A (en) * | 1997-03-06 | 1999-10-19 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with two opposed lapping platens |
US6048254A (en) * | 1997-03-06 | 2000-04-11 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with annular abrasive area |
US5993298A (en) * | 1997-03-06 | 1999-11-30 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with controlled liquid flow across the lapping surface |
US5910041A (en) * | 1997-03-06 | 1999-06-08 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with raised edge on platen |
US6120352A (en) * | 1997-03-06 | 2000-09-19 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and lapping method using abrasive sheets |
US6102777A (en) * | 1998-03-06 | 2000-08-15 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen |
JP4471708B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-06-02 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送装置 |
KR20060134363A (ko) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 경사형 캐리어 이송 장치 |
US7770714B2 (en) * | 2007-08-27 | 2010-08-10 | Canon Anelva Corporation | Transfer apparatus |
DE102007052524B4 (de) * | 2007-11-01 | 2012-05-31 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Transportmittel und Vakuumbeschichtungsanlage für Substrate unterschiedlicher Größe |
CN101971318B (zh) * | 2007-12-28 | 2012-07-04 | 朗姆研究公司 | 晶圆载具驱动装置、其操作方法及用于晶圆线性平移的系统 |
KR20100045124A (ko) * | 2008-10-23 | 2010-05-03 | 삼성전자주식회사 | 스퍼터 트레이 이송 시스템 |
DE102014104009A1 (de) * | 2014-03-24 | 2015-09-24 | Aixtron Se | Auf seinen beiden voneinander wegweisenden Breitseiten je ein Substrat tragender Substratträger |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US352765A (en) * | 1886-11-16 | Stump-puller | ||
US4042128A (en) * | 1975-11-26 | 1977-08-16 | Airco, Inc. | Substrate transfer apparatus for a vacuum coating system |
AT384596B (de) * | 1980-09-22 | 1987-12-10 | Lisec Peter Glastech Ind | Vorrichtung zum foerdern von isolierglasscheiben |
DE3623970A1 (de) * | 1986-07-16 | 1988-01-28 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Transporteinrichtung mit rollensystemen fuer vakuum-beschichtungsanlagen |
EP0346815A3 (de) * | 1988-06-13 | 1990-12-19 | Asahi Glass Company Ltd. | Vakuumbehandlungsvorrichtung und deren Transportsystem |
JP2714833B2 (ja) * | 1988-12-18 | 1998-02-16 | 日本真空技術株式会社 | 仕込・取出室 |
DE4029905C2 (de) * | 1990-09-21 | 1993-10-28 | Leybold Ag | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
-
1990
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