JPH0788577B2 - 基板を搬送するための装置 - Google Patents

基板を搬送するための装置

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JPH0788577B2
JPH0788577B2 JP3296995A JP29699591A JPH0788577B2 JP H0788577 B2 JPH0788577 B2 JP H0788577B2 JP 3296995 A JP3296995 A JP 3296995A JP 29699591 A JP29699591 A JP 29699591A JP H0788577 B2 JPH0788577 B2 JP H0788577B2
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/0061Tools for holding the circuit boards during processing; handling transport of printed circuit boards

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数のステーションを
備えた真空積層装置における基板を搬送するための装置
であって、ほぼプレート状で平らな平行縁の付いた輪郭
を備えている基板保持器を有しており、該基板保持器
は、垂直位置において所定の搬送路に沿いステーション
を貫いて運動可能であって、かつ基板保持器に固定され
た基板の下方に設けられているレールと協働しており、
そのため基板保持器の脚部分には、平行で互いに距離を
置いて延びている少くとも2つのレールが設けられてい
る形式のものに関する。
【0002】使用されているこの基板保持器は、基板に
対応して成形された区分を備えているプレートか、又は
それに基板が固定された支柱を備えているフレームか、
のいづれかである。一般に基板保持器は、多数の基板を
受容するために使用されている。
【0003】
【従来の技術】米国特許第4042128号明細書に、
冒頭で述べた形式の搬送装置が公開されており、この場
合プレート状の基板保持器は、その主平面の垂直な位置
において、鉛直な軸線を中心に回転可能なローラ間の、
上方及び下方の長手方向縁部に案内されている。その下
方縁部において基板保持器は、付加的に水平な回転軸線
を備えた支持ローラの上に位置している。しかし下方の
案内ローラは、基板保持器単独で正確な垂直位置を維持
して搬送できるような状態にはなっておらず、その結
果、安定した位置決めは上方案内ローラの支援がある場
合にだけ可能なようになっている。
【0004】真空積層装置のための搬送装置も公開され
ており(欧州特許第0254145号明細書)、該装置
は、複数のステーションと、鉛直な位置においてステー
ションを貫通する所定の搬送路に沿うほぼ二次元の基板
保持器の案内及び送りのためのローラ装置と、を備えて
おり、その際基板保持器の下方縁部領域内には対状の案
内ローラが配置され、該案内ローラは、基板保持器をそ
れ自体の間で受容して鉛直な軸線を中心に回転可能であ
り、更に最終的に基板保持器は、その下方縁部の領域内
でローラ装置により案内されており、また走行面を備え
た案内ローラが設けられ、該案内ローラは、ローラ対の
少くとも1つの案内ローラ上で夫々下方及び上方の端部
に配置されており、その際同一ローラ対の夫々別の案内
ローラが少くとも1つの走行面を有し、かつローラ対の
少くとも3つの走行面が、基板保持器に対し耐傾動性の
締付装置を形成している。
【0005】この公知の搬送装置には、積層材料が落下
することによる積層工程の故障を、可能な限り排除する
という課題が与えられていた。
【0006】更に真空積層装置のための搬送装置におけ
る基板保持器を、位置不動のレール上を滑走する脚部分
で構成するということが既に開示されている(欧州特許
第0346815号明細書)。
【0007】最後に古い特許出願申請書(西ドイツ国第
4029905.8号明細書)には、複数のステーショ
ンを備えた真空積層装置の場合の基板を搬送するための
装置に対し、夫々基板保持器の脚部分の領域に配置され
たレールを設けることが提案されている。
【0008】このため各脚部分には、平行で互いに距離
を置いて延び、かつ垂直な平面に配置されている1対の
レールが設けられており、その互いに向い合う狭側部に
長手方向溝を有し、該溝は、ローラ又は滑リレールに対
応して装置の床部分に支承されており、また溝に沿って
直列状に上下に位置している垂直な平面が、互いに距離
を置いて設けられており、その際基板保持器は、上方か
ら脚部分の領域にまで延びてレールに平行に形成されて
いるシャフト状の切欠きを有しており、その内方には、
ステーションを貫通する際基板保持器の上方で上方壁部
に配置されて平らな、下方に向って垂直に延びるべき加
熱体が突入している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、複数
の基板のための基板保持装置を改良して、操作ステーシ
ョンを貫いて貫走する際、基板を共通に加工することが
できるような基板保持装置を提供することにある。特に
基板保持器が、搬送路に沿って完全に故障フリーであ
り、かつ側方の運動(震動)は最小に抑制されて案内さ
れ、更に基板支持体を、迅速にかつ工具を使用すること
なしに、装置から分離乃至は取出し可能に形成すること
ができるようにすることを狙っている。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明では、基板保持器
から離反した第1レールの狭幅側部が長手方向溝を有し
ており、該溝はローラと協働し、該ローラは、水平軸線
を中心に回転可能に装置のケーシングフレームに支承さ
れ、かつ溝の走行面に対応して直列状に互いに距離を置
いて設けられており、更に第2レールが、第1レールに
平行に延びて平らな走行面を有しており、その平面は、
第1レールに配設されたローラと直角状に交差し、かつ
基板保持器の重心を貫通して延びており、その際走行面
はローラと協働し、該ローラは、直列状に配置され、か
つ垂直軸線を中心に回転可能にケーシングフレームの床
部分に支承されており、更に第1レールの溝の長手方向
軸線が、平らな走行面の平面に対し一定の距離だけ側方
にずらされて配置されていることによって、上記課題を
解決することができた。
【0011】本発明の別の重要な特徴及び詳細が、請求
項2以下に述べられている。
【0012】
【実施例】本発明の実施例を図面に図示し、次にこれを
詳しく説明する。
【0013】図面から明らかなように、この装置は主と
して、(図示なしの)積層室内で水平かつ鉛直に延びて
いるL字状のケーシングフレーム4の脚部4a,4bに
回転可能に支承されているローラ(7,7′,…;8,
8′,…)と、断面がU字状に形成された基板保持器1
6の、レール13,14の設けられている脚部分15
と、基板22,23を保持している基板保持器16のフ
レーム状の2つの側方部分16a,16bと、から成っ
ている。
【0014】図面では詳細に図示なしの、積層ステーシ
ョンの運転中、基板22,23は、図面の平面に対し垂
直な方向Rで積層ステーションの陰極の側方を運動して
いる。
【0015】基板22,23の外面22a,23aを被
膜した後、基板22,23は(図面に対し垂直な)同一
の方向Rで次の加工ステーションにまで更に搬送され
る。その際ディスク状の基板22,23は、これを枠状
に取り囲んでいる基板保持体16の側方部分16a,1
6bによって保持されており、該側方部分16a,16
bは、1方の側部で脚部分15の上方脚部15bに不動
に結合されているか、又はこれと一体状に形成されてい
る。脚部分15は、1対のレール13,14に螺着され
ているか又は溶接されており、その内の1方は、長手方
向溝13aを有し、その内方でローラ7,7′,…が走
行し、該ローラ7,7′,…は、直列状に距離を置いて
前後に位置しており、かつ軸線Vaを中心に回転可能に
ケーシングフレーム4の鉛直な脚部4bに支承されてい
る。ローラ7,8の列の互いに相対する距離乃至両レー
ル13,14の互いに相対する配置は、脚部分15がこ
の上で傾動不可に保持されて案内されるように選択され
ている。
【0016】スリット状乃至シャフト状の切欠き24を
備えた基板保持器16は、それに不動に結合されてほぼ
L字状の横断面の脚部分15を備えていて、重心Sを有
しており、その位置は、第2レール14の走行面14a
によって規定されかつ鉛直に延びている平面Eが、ほ
ぼこの重心Sと交差し、又はこの右側に位置しており、
1方同じように鉛直で第1レール13の溝13aを貫通
して位置している平面Eは、重心Sと交差している平
面Eに対し所定の距離Xを保って延びるように選択さ
れている。
【0017】その捩り剛性的なL字状の断面輪郭を備え
たケーシングフレーム4に沿う基板保持器16の静粛か
つ安定した走行は、距離X、つまり第2レール14の走
行面14aから第1レール13の溝13aの中心平面へ
の距離、によって決定されている。
【0018】図面に示されているように、脚部分15も
L字状の断面輪郭を有しており、更に脚部15aの長さ
は、ケーシングフレーム4の脚部4bの長さにほぼ一致
し、かつ脚部15bの長さは、ケーシングフレーム4の
床部分4aの幅にほぼ一致している。
【0019】本装置の特別な利点は、基板保持器16が
上方のローラ7,7′,…の走行面の周辺で側方に対し
矢印B方向に完全に問題なく傾動可能であり、かつ同時
に上方に向っても、つまり矢印C方向にも、取出し可能
であるという点である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の端面図である。
【図2】本発明の実施例の側面図である。
【符号の説明】
4 ケーシングフレーム 4a ケーシングフレームの床部分 4b ケーシングフレームの側方脚部 7,7′,7″,…;8,8′,8″,… ローラ 13 レール 13a 長手方向溝 14 レール 14a 長手方向面 15 脚部分 15a,15b 脚部分の脚部 16 基板保持器 16a,16b 基板保持器の側方部分 22,23 基板 24 シャフト状の切欠き R 基板保持器の走行方向 S 重心 E… ローラ7,7′,…の走行面 E… ローラ8,8′,…の走行面 la… ローラ8の回転軸線 Va ローラ7の回転軸線 X 両平面E,E間の距離 B 基板保持器16の傾動方向 C 基板保持器16の取出し方向

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のステーションを備えた真空積層装
    置における基板(22,23)を搬送するための装置で
    あって、ほぼプレート状で平らな平行縁の付いた輪郭を
    備えている基板保持器(16)を有しており、該基板保
    持器(16)は、直位置において所定の搬送路に沿い
    ステーションを貫いて運動可能で、かつ基板保持器(1
    6)に固定された基板(22,23)の下方に設けられ
    ているレール(13,14)と協働しており、そのため
    基板保持器(16)の脚部分(15)には、平行で互い
    に距離を置いて延びている少くとも2つのレール(1
    3,14)が設けられている形式のものにおいて、基板
    保持器(16)から離反した第1レール(13)の狭幅
    側部が長手方向溝(13a)を有しており、該溝(13
    a)はローラ(7,7′,7″…)と協働し、該ローラ
    (7,7′,7″…)は、水平軸線(Va)を中心に回
    転可能に装置のケーシングフレーム(4)に支承され、
    かつ溝(13a)の走行面に対応して直列状に互いに距
    離を置いて設けられており、更に第2レール(14)
    が、第1レールに平行に延びて平らな走行面(14a)
    を有しており、その平面(E)は、第1レール(1
    3)に配設されたローラ(7,7′,…)と直角状に交
    差し、かつ基板保持器(16)の重心(S)を貫通して
    延びており、その際走行面(14a)はローラ(8,
    8′,…)と協働し、該ローラ(8,8′,…)は、直
    列状に配置され、かつ直軸線(1a)を中心に回転可
    能にケーシングフレーム(4)の床部分(4a)に支承
    されており、更に第1レール(13)の溝(13a)の
    長手方向軸線が、平らな走行面(14a)の平面(E
    )に対し距離(X)だけ側方にずらされて配置されて
    いることを特徴とする、基板を搬送するための装置。
  2. 【請求項2】 ケーシングフレーム(4)が、ほぼL字
    状の横断面を備えた成形形鋼又は成形ロツドから形成さ
    れており、その際垂直に延びて第1レール(13)の溝
    (13a)と協働している成形フレーム(4)の脚部
    (4b)に、水平に配置された軸線(Va)を中心に回
    転しているローラ(7,7′,…)が支承されており、
    また更に、水平に延びて第2レール(14)と協働して
    いるケーシングフレーム(4)の下方脚部(4a)の上
    にローラ(8,8′,…)が支承されており、該ローラ
    (8,8′,…)は直軸線(1a)を中心に回転可能
    であることを特徴とする、請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】 第1レール(13)の長手方向溝(13
    a)に平行に延びて垂直に構成されている作用平面(E
    )が、重心(S)を貫通して延びている平行な平面の
    一方の側部に配置されており、また第2レール(14)
    の走行面(14a)によって規定された平面(E
    が、重心(S)を貫通して延びている平面の他方の側部
    に設けられているか、又はこの平面に重なっていること
    を特徴とする、請求項1又は2記載の装置。
  4. 【請求項4】 基板支持器(16)が、枠状に形成され
    て平行な平面内に配置され2つの側方部分(16a,
    16b)を有しており、該側方部分(16a,16b)
    は、その間にシャフト状の切欠き(24)を形成し、か
    つその内方に基板(22,33)の挿入が可能な窓状の
    開口部を有しており、基板保持器(16)の側方部分
    (16a,16b)が1体状に成されているか、又は
    脚部分(15)によってリベット止め、ねじ止めされて
    いるか又はヒンジを介して結合されていることを特徴と
    する、請求項1から3までのいづれか1項記載の装置。
JP3296995A 1990-11-15 1991-11-13 基板を搬送するための装置 Expired - Lifetime JPH0788577B2 (ja)

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JPH04285166A JPH04285166A (ja) 1992-10-09
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KR (1) KR920010018A (ja)
CH (1) CH683779A5 (ja)
DE (1) DE4036339C2 (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4139549A1 (de) * 1991-11-30 1993-06-03 Leybold Ag Vorrichtung fuer den transport von substraten
DE4216755A1 (de) * 1992-05-21 1993-11-25 Wolfgang Lewcke Modulare Herstellungsanlage für Ringbücher und Briefordner
US5489369A (en) * 1993-10-25 1996-02-06 Viratec Thin Films, Inc. Method and apparatus for thin film coating an article
DE4428136A1 (de) * 1994-08-09 1996-02-15 Leybold Ag Vakuum-Beschichtungsanlage
DE19500964A1 (de) * 1995-01-14 1996-07-18 Leybold Ag Vorrichtung zum Beschichten
CH691680A5 (de) * 1996-10-15 2001-09-14 Unaxis Deutschland Gmbh Transportvorrichtung für Werkstücke in einer Vakuumanlage.
US5951776A (en) * 1996-10-25 1999-09-14 Applied Materials, Inc. Self aligning lift mechanism
US6149506A (en) * 1998-10-07 2000-11-21 Keltech Engineering Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen
US5993298A (en) * 1997-03-06 1999-11-30 Keltech Engineering Lapping apparatus and process with controlled liquid flow across the lapping surface
US6048254A (en) * 1997-03-06 2000-04-11 Keltech Engineering Lapping apparatus and process with annular abrasive area
US5967882A (en) * 1997-03-06 1999-10-19 Keltech Engineering Lapping apparatus and process with two opposed lapping platens
US5910041A (en) * 1997-03-06 1999-06-08 Keltech Engineering Lapping apparatus and process with raised edge on platen
US6120352A (en) * 1997-03-06 2000-09-19 Keltech Engineering Lapping apparatus and lapping method using abrasive sheets
US6102777A (en) * 1998-03-06 2000-08-15 Keltech Engineering Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen
JP4471708B2 (ja) * 2004-03-31 2010-06-02 キヤノンアネルバ株式会社 基板搬送装置
KR20060134363A (ko) * 2005-06-22 2006-12-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 경사형 캐리어 이송 장치
US7770714B2 (en) * 2007-08-27 2010-08-10 Canon Anelva Corporation Transfer apparatus
DE102007052524B4 (de) * 2007-11-01 2012-05-31 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Transportmittel und Vakuumbeschichtungsanlage für Substrate unterschiedlicher Größe
KR101563380B1 (ko) * 2007-12-28 2015-11-06 램 리써치 코포레이션 웨이퍼 캐리어 드라이브 장치 및 이를 동작시키는 방법
KR20100045124A (ko) * 2008-10-23 2010-05-03 삼성전자주식회사 스퍼터 트레이 이송 시스템
DE102014104009A1 (de) * 2014-03-24 2015-09-24 Aixtron Se Auf seinen beiden voneinander wegweisenden Breitseiten je ein Substrat tragender Substratträger

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US352765A (en) * 1886-11-16 Stump-puller
US4042128A (en) * 1975-11-26 1977-08-16 Airco, Inc. Substrate transfer apparatus for a vacuum coating system
AT384596B (de) * 1980-09-22 1987-12-10 Lisec Peter Glastech Ind Vorrichtung zum foerdern von isolierglasscheiben
DE3623970A1 (de) * 1986-07-16 1988-01-28 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Transporteinrichtung mit rollensystemen fuer vakuum-beschichtungsanlagen
EP0346815A3 (en) * 1988-06-13 1990-12-19 Asahi Glass Company Ltd. Vacuum processing apparatus and transportation system thereof
JP2714833B2 (ja) * 1988-12-18 1998-02-16 日本真空技術株式会社 仕込・取出室
DE4029905C2 (de) * 1990-09-21 1993-10-28 Leybold Ag Vorrichtung für den Transport von Substraten

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04285166A (ja) 1992-10-09
KR920010018A (ko) 1992-06-26
CH683779A5 (de) 1994-05-13
DE4036339C2 (de) 1993-10-21
DE4036339A1 (de) 1992-05-21
US5133285A (en) 1992-07-28

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