JPH04285166A - 基板を搬送するための装置 - Google Patents
基板を搬送するための装置Info
- Publication number
- JPH04285166A JPH04285166A JP3296995A JP29699591A JPH04285166A JP H04285166 A JPH04285166 A JP H04285166A JP 3296995 A JP3296995 A JP 3296995A JP 29699591 A JP29699591 A JP 29699591A JP H04285166 A JPH04285166 A JP H04285166A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rail
- substrate holder
- rollers
- groove
- plane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/0061—Tools for holding the circuit boards during processing; handling transport of printed circuit boards
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数のステーションを
備えた真空積層装置における基板を搬送するための装置
であって、ほぼプレート状で平らな平行縁の付いた輪郭
を備えている基板保持器を有しており、該基板保持器は
、垂直位置において所定の搬送路に沿いステーションを
貫いて運動可能で、かつ基板保持器に固定された基板の
下方に設けられているレールと協働しており、そのため
基板保持器の脚部分には、平行で互いに距離を置いて延
びている少くとも2つのレールが設けられている形式の
ものに関する。
備えた真空積層装置における基板を搬送するための装置
であって、ほぼプレート状で平らな平行縁の付いた輪郭
を備えている基板保持器を有しており、該基板保持器は
、垂直位置において所定の搬送路に沿いステーションを
貫いて運動可能で、かつ基板保持器に固定された基板の
下方に設けられているレールと協働しており、そのため
基板保持器の脚部分には、平行で互いに距離を置いて延
びている少くとも2つのレールが設けられている形式の
ものに関する。
【0002】使用されているこの基板保持器は、基板に
対応して成形された区分を備えているプレートか、又は
それに基板が固定されている支柱を備えているフレーム
か、のいづれかである。一般に基板保持器は、多数の基
板を受容するために使用されている。
対応して成形された区分を備えているプレートか、又は
それに基板が固定されている支柱を備えているフレーム
か、のいづれかである。一般に基板保持器は、多数の基
板を受容するために使用されている。
【0003】
【従来の技術】米国特許第4042128号明細書に、
冒頭で述べた形式の搬送装置が公開されており、この場
合プレート状態の基板保持器は、その主平面の垂直な位
置において、鉛直な軸線を中心に回転可能なローラ間の
、上方及び下方の長手方向縁部に案内されている。その
下方縁部において基板保持器は、付加的に水平な回転軸
線を備えた支持ローラの上に位置している。しかし下方
の案内ローラは、基板保持器単独で正確な垂直位置を維
持して搬送できるような状態にはなっておらず、その結
果、安定した位置決めは上方案内ローラの支援がある場
合にだけ可能なようになっている。
冒頭で述べた形式の搬送装置が公開されており、この場
合プレート状態の基板保持器は、その主平面の垂直な位
置において、鉛直な軸線を中心に回転可能なローラ間の
、上方及び下方の長手方向縁部に案内されている。その
下方縁部において基板保持器は、付加的に水平な回転軸
線を備えた支持ローラの上に位置している。しかし下方
の案内ローラは、基板保持器単独で正確な垂直位置を維
持して搬送できるような状態にはなっておらず、その結
果、安定した位置決めは上方案内ローラの支援がある場
合にだけ可能なようになっている。
【0004】真空積層装置のための搬送装置も公開され
ており(欧州特許第0254145号明細書)、該装置
は、複数のステーションと、鉛直な位置においてステー
ションを貫通する所定の搬送路に沿うほぼ二次元の基板
保持器の案内及び送りのためのローラ装置と、を備えて
おり、その際基板保持器の下方縁部領域内には対状の案
内ローラが配置され、該案内ローラは、基板保持器をそ
れ自体の間で受容して鉛直な軸線を中心に回転可能であ
り、更に最終的に基板保持器は、その下方縁部の領域内
でローラ装置により案内されており、また走行面を備え
た案内ローラが設けられ、該案内ローラは、ローラ対の
少くとも1つの案内ローラ上で夫々下方及び上方の端部
に配置されており、その際同一ローラ対の夫々別の案内
ローラが少くとも1つの走行面を有し、かつローラ対の
少くとも3つの走行面が、基板保持器に対し耐傾動性の
締付装置を形成している。
ており(欧州特許第0254145号明細書)、該装置
は、複数のステーションと、鉛直な位置においてステー
ションを貫通する所定の搬送路に沿うほぼ二次元の基板
保持器の案内及び送りのためのローラ装置と、を備えて
おり、その際基板保持器の下方縁部領域内には対状の案
内ローラが配置され、該案内ローラは、基板保持器をそ
れ自体の間で受容して鉛直な軸線を中心に回転可能であ
り、更に最終的に基板保持器は、その下方縁部の領域内
でローラ装置により案内されており、また走行面を備え
た案内ローラが設けられ、該案内ローラは、ローラ対の
少くとも1つの案内ローラ上で夫々下方及び上方の端部
に配置されており、その際同一ローラ対の夫々別の案内
ローラが少くとも1つの走行面を有し、かつローラ対の
少くとも3つの走行面が、基板保持器に対し耐傾動性の
締付装置を形成している。
【0005】この公知の搬送装置には、積層材料が落下
することによる積層工程の故障を、可能な限り排除する
という課題が与えられていた。
することによる積層工程の故障を、可能な限り排除する
という課題が与えられていた。
【0006】更に真空積層装置のための搬送装置におけ
る基板保持器を、位置不動のレール上を滑走する脚部分
で構成するということが既に開示されている(欧州特許
第0346815号明細書)。
る基板保持器を、位置不動のレール上を滑走する脚部分
で構成するということが既に開示されている(欧州特許
第0346815号明細書)。
【0007】最後に古い特許出願申請書(西ドイツ国第
4029905.8号明細書)には、複数のステーショ
ンを備えた真空積層装置の場合の基板を搬送するための
装置に対し、夫々基板保持器の脚部分の領域に配置され
たレールを設けることが提案されている。
4029905.8号明細書)には、複数のステーショ
ンを備えた真空積層装置の場合の基板を搬送するための
装置に対し、夫々基板保持器の脚部分の領域に配置され
たレールを設けることが提案されている。
【0008】このため各脚部分には、平行で互いに距離
を置いて延び、かつ垂直な平面に配置されている1対の
レールが設けられており、その互いに向い合う狭側部に
長手方向溝を有し、該溝は、ローラ又は滑りレールに対
応して装置の床部分に支承されており、また溝に沿って
直列状に上下に位置している垂直な平面が、互いに距離
を置いて設けられており、その際基板保持器は、上方か
ら脚部分の領域にまで延びてレールに平行に形成されて
いるシャフト状の切欠きを有しており、その内方には、
ステーションを貫通する際基板保持器の上方で上方壁部
に配置されて平らな、下方に向って延びるべき加熱体が
突入している。
を置いて延び、かつ垂直な平面に配置されている1対の
レールが設けられており、その互いに向い合う狭側部に
長手方向溝を有し、該溝は、ローラ又は滑りレールに対
応して装置の床部分に支承されており、また溝に沿って
直列状に上下に位置している垂直な平面が、互いに距離
を置いて設けられており、その際基板保持器は、上方か
ら脚部分の領域にまで延びてレールに平行に形成されて
いるシャフト状の切欠きを有しており、その内方には、
ステーションを貫通する際基板保持器の上方で上方壁部
に配置されて平らな、下方に向って延びるべき加熱体が
突入している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、複数
の基板のための基板保持装置を改良して、操作ステーシ
ョンを貫いて貫走する際、基板を共通に加工することが
できるような基板保持装置を提供することにある。特に
基板保持器が、搬送路に沿って完全に故障フリーであり
、かつ側方の運動(震動)は最小に抑制されて案内され
、更に基板支持体を、迅速にかつ工具を使用することな
しに、装置から分離乃至は取出し可能に形成することが
できるようにすることを狙っている。
の基板のための基板保持装置を改良して、操作ステーシ
ョンを貫いて貫走する際、基板を共通に加工することが
できるような基板保持装置を提供することにある。特に
基板保持器が、搬送路に沿って完全に故障フリーであり
、かつ側方の運動(震動)は最小に抑制されて案内され
、更に基板支持体を、迅速にかつ工具を使用することな
しに、装置から分離乃至は取出し可能に形成することが
できるようにすることを狙っている。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明では、基板保持器
から離反した第1レールの狭幅側部が長手方向溝を有し
ており、該溝はローラと協働し、該ローラは、水平軸線
を中心に回転可能に装置のケーシングフレームに支承さ
れ、かつ溝の走行面に対応して直列状に互いに距離を置
いて設けられており、更に第2レールが、第1レールに
平行に延びて平らな走行面を有しており、その平面は、
第1レールに配設されたローラと直角状に交差し、かつ
基板保持器の重心を貫通して延びており、その際走行面
はローラと協働し、該ローラは、直列状に配置され、か
つ垂直軸線を中心に回転可能にケーシングフレームの床
部分に支承されており、更に第1レールの溝の長手方向
軸線が、平らな走行面の平面に対し一定の距離だけ側方
にずらされて配置されていることによって、上記課題を
解決することができた。
から離反した第1レールの狭幅側部が長手方向溝を有し
ており、該溝はローラと協働し、該ローラは、水平軸線
を中心に回転可能に装置のケーシングフレームに支承さ
れ、かつ溝の走行面に対応して直列状に互いに距離を置
いて設けられており、更に第2レールが、第1レールに
平行に延びて平らな走行面を有しており、その平面は、
第1レールに配設されたローラと直角状に交差し、かつ
基板保持器の重心を貫通して延びており、その際走行面
はローラと協働し、該ローラは、直列状に配置され、か
つ垂直軸線を中心に回転可能にケーシングフレームの床
部分に支承されており、更に第1レールの溝の長手方向
軸線が、平らな走行面の平面に対し一定の距離だけ側方
にずらされて配置されていることによって、上記課題を
解決することができた。
【0011】本発明の別の重要な特徴及び詳細が、請求
項2以下に述べられている。
項2以下に述べられている。
【0012】
【実施例】本発明の実施例を図面に図示し、次にこれを
詳しく説明する。
詳しく説明する。
【0013】図面から明らかなように、この装置は主と
して、(図示なしの)積層室内で水平かつ鉛直に延びて
いるL字状のケーシングフレーム4の脚部4a,4bに
回転可能に支承されているローラ(7,7′,…;8,
8′,…)と、断面がU字状に形成された基板保持器1
6の、レール13,14の設けられている脚部分15と
、基板22,23を保持している基板保持器16のフレ
ーム状の2つの側方部分16a,16bと、から成って
いる。
して、(図示なしの)積層室内で水平かつ鉛直に延びて
いるL字状のケーシングフレーム4の脚部4a,4bに
回転可能に支承されているローラ(7,7′,…;8,
8′,…)と、断面がU字状に形成された基板保持器1
6の、レール13,14の設けられている脚部分15と
、基板22,23を保持している基板保持器16のフレ
ーム状の2つの側方部分16a,16bと、から成って
いる。
【0014】図面では詳細に図示なしの、積層ステーシ
ョンの運転中、基板22,23は、図面の平面に対し鉛
直な方向Rで積層ステーションの陰極の側方を運動して
いる。 基板22,23の外面22a,23aを被膜
した後、基板22,23は(図面に対し鉛直な)同一の
方向Rで次の加工ステーションにまで更に搬送される。 その際ディスク状の基板22,23は、これを枠状に取
り囲んでいる基板保持体16の側方部分16a,16b
によって保持されており、該側方部分16a,16bは
、1方の側部で脚部分15の上方脚部15bに不動に結
合されているか、又はこれと一体状に形成されている。 脚部分15は、1対のレール13,14に螺着されてい
るか又は溶接されており、その内の1方は、長手方向溝
13aを有し、その内方でローラ7,7′,…が走行し
、該ローラ7,7′,…は、直列状に距離を置いて前後
に位置しており、かつ軸線Vaを中心に回転可能にケー
シングフレーム4の垂直な脚部4bに支承されている。 ローラ7,8の列の互いに相対する距離乃至両レール1
3,14の互いに相対する配置は、脚部分15がこの上
で傾動不可に保持されて案内されるように選択されてい
る。
ョンの運転中、基板22,23は、図面の平面に対し鉛
直な方向Rで積層ステーションの陰極の側方を運動して
いる。 基板22,23の外面22a,23aを被膜
した後、基板22,23は(図面に対し鉛直な)同一の
方向Rで次の加工ステーションにまで更に搬送される。 その際ディスク状の基板22,23は、これを枠状に取
り囲んでいる基板保持体16の側方部分16a,16b
によって保持されており、該側方部分16a,16bは
、1方の側部で脚部分15の上方脚部15bに不動に結
合されているか、又はこれと一体状に形成されている。 脚部分15は、1対のレール13,14に螺着されてい
るか又は溶接されており、その内の1方は、長手方向溝
13aを有し、その内方でローラ7,7′,…が走行し
、該ローラ7,7′,…は、直列状に距離を置いて前後
に位置しており、かつ軸線Vaを中心に回転可能にケー
シングフレーム4の垂直な脚部4bに支承されている。 ローラ7,8の列の互いに相対する距離乃至両レール1
3,14の互いに相対する配置は、脚部分15がこの上
で傾動不可に保持されて案内されるように選択されてい
る。
【0015】スリット状乃至シャフト状の切欠き24を
備えた基板保持器16は、それに不動に結合されてほぼ
L字状の横断面の脚部分15が、重心Sを有しており、
その位置は、第2レール14の走行面14aによって規
定されかつ垂直に延びている平面E2が、ほぼこの重心
Sと交差し、又はこの右側に位置しており、1方同じよ
うに垂直で第1レール13の溝13aを貫通して位置し
ている平面E1は、重心Sと交差している平面E2に対
し所定の距離Xを保って延びるように選択されている。
備えた基板保持器16は、それに不動に結合されてほぼ
L字状の横断面の脚部分15が、重心Sを有しており、
その位置は、第2レール14の走行面14aによって規
定されかつ垂直に延びている平面E2が、ほぼこの重心
Sと交差し、又はこの右側に位置しており、1方同じよ
うに垂直で第1レール13の溝13aを貫通して位置し
ている平面E1は、重心Sと交差している平面E2に対
し所定の距離Xを保って延びるように選択されている。
【0016】その捩り剛性的なL字状の断面輪郭を備え
たケーシングフレーム4に沿う基板保持器16の静粛か
つ安定した走行は、距離X、つまり第2レール14の走
行面14aから第1レール13の溝13aの中心平面へ
の距離、によって決定されている。
たケーシングフレーム4に沿う基板保持器16の静粛か
つ安定した走行は、距離X、つまり第2レール14の走
行面14aから第1レール13の溝13aの中心平面へ
の距離、によって決定されている。
【0017】図面に示されているように、脚部分15も
L字状の断面輪郭を有しており、更に脚部15aの長さ
は、ケーシングフレーム4の脚部4bの長さにほぼ一致
し、かつ脚部15bの長さは、ケーシングフレーム4の
床部分4aの幅にほぼ一致している。
L字状の断面輪郭を有しており、更に脚部15aの長さ
は、ケーシングフレーム4の脚部4bの長さにほぼ一致
し、かつ脚部15bの長さは、ケーシングフレーム4の
床部分4aの幅にほぼ一致している。
【0018】本装置の特別な利点は、基板保持器16が
上方のローラ7,7′,…の走行面の周辺で側方に対し
矢印B方向に完全に問題なく傾動可能であり、かつ同時
に上方に向っても、つまり矢印C方向にも、取出し可能
であるという点である。
上方のローラ7,7′,…の走行面の周辺で側方に対し
矢印B方向に完全に問題なく傾動可能であり、かつ同時
に上方に向っても、つまり矢印C方向にも、取出し可能
であるという点である。
【図1】本発明の実施例の端面図である。
【図2】本発明の実施例の側面図である。
4 ケーシングフレーム
4a ケーシングフレームの床部分4b
ケーシングフレームの側方脚部7,7′,7″,…;8
,8′,8″,… ローラ13 レール 13a 長手方向溝 14 レール 14a 長手方向面 15 脚部分 15a,15b 脚部分の脚部 16 基板保持器 16a,16b 基板保持器の側方部分22,2
3 基板 24 シャフト状の切欠き R 基板保持器の走行方向 S 重心 E1… ローラ7,7′,…の走行面E2…
ローラ8,8′,…の走行面la… ローラ
8の回転軸線 Va ローラ7の回転軸線 X 両平面E1,E2間の距離 B 基板保持器16の傾動方向
ケーシングフレームの側方脚部7,7′,7″,…;8
,8′,8″,… ローラ13 レール 13a 長手方向溝 14 レール 14a 長手方向面 15 脚部分 15a,15b 脚部分の脚部 16 基板保持器 16a,16b 基板保持器の側方部分22,2
3 基板 24 シャフト状の切欠き R 基板保持器の走行方向 S 重心 E1… ローラ7,7′,…の走行面E2…
ローラ8,8′,…の走行面la… ローラ
8の回転軸線 Va ローラ7の回転軸線 X 両平面E1,E2間の距離 B 基板保持器16の傾動方向
Claims (4)
- 【請求項1】 複数のステーションを備えた真空積層
装置における基板(22,23)を搬送するための装置
であって、ほぼプレート状で平らな平行縁の付いた輪郭
を備えている基板保持器(16)を有しており、該基板
保持器(16)は、垂直位置において所定の搬送路に沿
いステーションを貫いて運動可能で、かつ基板保持器(
16)に固定された基板(22,23)の下方に設けら
れているレール(13,14)と協働しており、そのた
め基板保持器(16)の脚部分(15)には、平行で互
いに距離を置いて延びている少くとも2つのレール(1
3,14)が設けられている形式のものにおいて、基板
保持器(16)から離反した第1レール(13)の狭幅
側部が長手方向溝(13a)を有しており、該溝(13
a)はローラ(7,7′,7″…)と協働し、該ローラ
(7,7′,7″…)は、水平軸線(Va)を中心に回
転可能に装置のケーシングフレーム(4)に支承され、
かつ溝(13a)の走行面に対応して直列状に互いに距
離を置いて設けられており、更に第2レール(14)が
、第1レールに平行に延びて平らな走行面(14a)を
有しており、その平面(E2)は、第1レール(13)
に配設されたローラ(7,7′,…)と直角状に交差し
、かつ基板保持器(16)の重心(S)を貫通して延び
ており、その際走行面(14a)はローラ(8,8′,
…)と協働し、該ローラ(8,8′,…)は、直列状に
配置され、かつ垂直軸線(la)を中心に回転可能にケ
ーシングフレーム(4)の床部分(4a)に支承されて
おり、更に第1レール(13)の溝(13a)の長手方
向軸線が、平らな走行面(14a)の平面(E2)に対
し距離(X)だけ側方にずらされて配置されていること
を特徴とする、基板を搬送するための装置。 - 【請求項2】 ケーシングフレーム(4)が、ほぼL
字状の横断面を備えた成形形鋼又は成形ロッドから形成
されており、その際垂直に延びて第1レール(13)の
溝(13a)と協働している成形フレーム(4)の脚部
(4b)に、水平に配置された軸線(Va)を中心に回
転しているローラ(7,7′,…)が支承されており、
また更に、水平に延びて第2レール(14)と協働して
いるケーシングフレーム(4)の下方脚部(4a)の上
にローラ(8,8′,…)が支承されており、該ローラ
(8,8′,…)は垂直軸線(la)を中心に回転可能
であることを特徴とする、請求項1記載の装置。 - 【請求項3】 第1レール(13)の長手方向溝(1
3a)に平行に延びて垂直に構成されている作用平面(
E1)が、重心(S)を貫通して延びている平行な平面
の側部上に配置されており、また第2レール(14)の
走行面(14a)によって規定された平面(E2)が、
重心(S)を貫通して延びている平面の別の側部に設け
られているか、又はこの平面に重なっていることを特徴
とする、請求項1又は2記載の装置。 - 【請求項4】 基板支持器(16)が、枠状に形成さ
れて平行な平面内に配置されている2つの側方部分(1
6a,16b)を有しており、該側方部分(16a,1
6b)は、その間にシャフト状の切欠き(24)を形成
し、かつその内方に基板(22,33)の挿入が可能な
窓状の開口部を有しており、その際基板保持器(16)
の側方部分(16a,16b)が1体状に形成されてい
るか、又は脚部分(15)がリベット止め、ねじ止め又
はヒンジを介して結合されていることを特徴とする、請
求項1から3までのいづれか1項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4036339.2 | 1990-11-15 | ||
DE4036339A DE4036339C2 (de) | 1990-11-15 | 1990-11-15 | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04285166A true JPH04285166A (ja) | 1992-10-09 |
JPH0788577B2 JPH0788577B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=6418277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3296995A Expired - Lifetime JPH0788577B2 (ja) | 1990-11-15 | 1991-11-13 | 基板を搬送するための装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5133285A (ja) |
JP (1) | JPH0788577B2 (ja) |
KR (1) | KR920010018A (ja) |
CH (1) | CH683779A5 (ja) |
DE (1) | DE4036339C2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4139549A1 (de) * | 1991-11-30 | 1993-06-03 | Leybold Ag | Vorrichtung fuer den transport von substraten |
DE4216755A1 (de) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Wolfgang Lewcke | Modulare Herstellungsanlage für Ringbücher und Briefordner |
US5489369A (en) * | 1993-10-25 | 1996-02-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Method and apparatus for thin film coating an article |
DE4428136A1 (de) * | 1994-08-09 | 1996-02-15 | Leybold Ag | Vakuum-Beschichtungsanlage |
DE19500964A1 (de) * | 1995-01-14 | 1996-07-18 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten |
CH691680A5 (de) * | 1996-10-15 | 2001-09-14 | Unaxis Deutschland Gmbh | Transportvorrichtung für Werkstücke in einer Vakuumanlage. |
US5951776A (en) * | 1996-10-25 | 1999-09-14 | Applied Materials, Inc. | Self aligning lift mechanism |
US6149506A (en) * | 1998-10-07 | 2000-11-21 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen |
US5967882A (en) * | 1997-03-06 | 1999-10-19 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with two opposed lapping platens |
US6048254A (en) * | 1997-03-06 | 2000-04-11 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with annular abrasive area |
US5993298A (en) * | 1997-03-06 | 1999-11-30 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with controlled liquid flow across the lapping surface |
US5910041A (en) * | 1997-03-06 | 1999-06-08 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and process with raised edge on platen |
US6120352A (en) * | 1997-03-06 | 2000-09-19 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and lapping method using abrasive sheets |
US6102777A (en) * | 1998-03-06 | 2000-08-15 | Keltech Engineering | Lapping apparatus and method for high speed lapping with a rotatable abrasive platen |
JP4471708B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-06-02 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送装置 |
KR20060134363A (ko) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 경사형 캐리어 이송 장치 |
US7770714B2 (en) * | 2007-08-27 | 2010-08-10 | Canon Anelva Corporation | Transfer apparatus |
DE102007052524B4 (de) * | 2007-11-01 | 2012-05-31 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Transportmittel und Vakuumbeschichtungsanlage für Substrate unterschiedlicher Größe |
CN101971318B (zh) * | 2007-12-28 | 2012-07-04 | 朗姆研究公司 | 晶圆载具驱动装置、其操作方法及用于晶圆线性平移的系统 |
KR20100045124A (ko) * | 2008-10-23 | 2010-05-03 | 삼성전자주식회사 | 스퍼터 트레이 이송 시스템 |
DE102014104009A1 (de) * | 2014-03-24 | 2015-09-24 | Aixtron Se | Auf seinen beiden voneinander wegweisenden Breitseiten je ein Substrat tragender Substratträger |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US352765A (en) * | 1886-11-16 | Stump-puller | ||
US4042128A (en) * | 1975-11-26 | 1977-08-16 | Airco, Inc. | Substrate transfer apparatus for a vacuum coating system |
AT384596B (de) * | 1980-09-22 | 1987-12-10 | Lisec Peter Glastech Ind | Vorrichtung zum foerdern von isolierglasscheiben |
DE3623970A1 (de) * | 1986-07-16 | 1988-01-28 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Transporteinrichtung mit rollensystemen fuer vakuum-beschichtungsanlagen |
EP0346815A3 (en) * | 1988-06-13 | 1990-12-19 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum processing apparatus and transportation system thereof |
JP2714833B2 (ja) * | 1988-12-18 | 1998-02-16 | 日本真空技術株式会社 | 仕込・取出室 |
DE4029905C2 (de) * | 1990-09-21 | 1993-10-28 | Leybold Ag | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
-
1990
- 1990-11-15 DE DE4036339A patent/DE4036339C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-01-16 US US07/643,622 patent/US5133285A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-20 CH CH2449/91A patent/CH683779A5/de not_active IP Right Cessation
- 1991-10-14 KR KR1019910018054A patent/KR920010018A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-11-13 JP JP3296995A patent/JPH0788577B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4036339A1 (de) | 1992-05-21 |
KR920010018A (ko) | 1992-06-26 |
JPH0788577B2 (ja) | 1995-09-27 |
DE4036339C2 (de) | 1993-10-21 |
CH683779A5 (de) | 1994-05-13 |
US5133285A (en) | 1992-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04285166A (ja) | 基板を搬送するための装置 | |
JP4839405B2 (ja) | コンベアおよび成膜装置とそのメンテナンス方法 | |
US5097794A (en) | Apparatus for transporting substrates in a vacuum coating system | |
JP5058451B2 (ja) | 板材の分断ユニット、この分断ユニットを有する分断装置、および、この分断装置を有する分断設備 | |
JP2543300B2 (ja) | サブストレ―トを搬送するための装置 | |
JPH01312072A (ja) | 真空処理装置 | |
JPWO2018230592A1 (ja) | 真空処理装置 | |
KR20110129821A (ko) | 이온주입장치 | |
JP2007088408A (ja) | 基板キャリヤ | |
JPH08203988A (ja) | 被処理材の固定装置 | |
JP2006024643A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH11246046A (ja) | 基板搬送装置 | |
US6321898B1 (en) | Display panel transporting apparatus and a display panel transporting unit | |
JPH1067429A (ja) | 基板搬送装置 | |
JPH05195207A (ja) | サブストレートを搬送するための装置 | |
JP3806275B2 (ja) | 分割型トレイレス斜め基板搬送システム | |
JP3995044B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20160034178A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2001102283A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2001102283A5 (ja) | ||
JPH0829830B2 (ja) | 搬送装置 | |
CN218502856U (zh) | 一种等离子清洗装置 | |
JPH0514016U (ja) | ボツクス柱の組立ライン用コンベア | |
KR101943390B1 (ko) | 물류 방향 전환 장치 | |
JPH10311680A (ja) | 長尺薄板の乾燥装置 |