JPH05195207A - サブストレートを搬送するための装置 - Google Patents
サブストレートを搬送するための装置Info
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- JPH05195207A JPH05195207A JP4203751A JP20375192A JPH05195207A JP H05195207 A JPH05195207 A JP H05195207A JP 4203751 A JP4203751 A JP 4203751A JP 20375192 A JP20375192 A JP 20375192A JP H05195207 A JPH05195207 A JP H05195207A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多数のステーションを有する真空蒸着装置で
サブストレートを搬送するための装置を改良して、サブ
ストレートの周囲温度が比較的低く維持されるように構
成する。 【構成】 磁性材料より形成された、フィンガー状又は
プレート状の前記扁平な部材１１が、電流が供給される
少なくとも１つのループ状導線を有しており、該ループ
状導線は、前記扁平な部材１１とは反対側に向けられ
た、サブストレート２２，２３の側面に配置された若し
くは前記サブストレートにしっかりと固定されたプレー
ト、シート又は導電性の材料２７，２８より成る層と協
働し、この層と共に誘導式−加熱部材を形成している。
サブストレートを搬送するための装置を改良して、サブ
ストレートの周囲温度が比較的低く維持されるように構
成する。 【構成】 磁性材料より形成された、フィンガー状又は
プレート状の前記扁平な部材１１が、電流が供給される
少なくとも１つのループ状導線を有しており、該ループ
状導線は、前記扁平な部材１１とは反対側に向けられ
た、サブストレート２２，２３の側面に配置された若し
くは前記サブストレートにしっかりと固定されたプレー
ト、シート又は導電性の材料２７，２８より成る層と協
働し、この層と共に誘導式−加熱部材を形成している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、多数のステーションを
有する真空蒸着装置でサブストレートを搬送するための
装置であって、ほぼプレート状の平らな平行六面体状の
形状を有する複数のサブストレートホルダを備えてお
り、これらのサブストレートホルダが、ステーションを
通る所定の搬送経路に沿って垂直状態で移動可能であっ
て、これらのサブストレートホルダは、このサブストレ
ートホルダに固定されるサブストレートの下側の、サブ
ストレートホルダの足部範囲にそれぞれ設けられたレー
ルと協働するようになっており、サブストレートホルダ
が、上方から前記足部の範囲にまで達する、前記レール
に対して平行に延びる縦孔状の切欠を有しており、該切
欠内に、ステーションを通過する際に、上壁部でサブス
トレートホルダの上側に配置された、垂直下方に延びる
扁平な部材が突入するようになっている形式のものに関
する。
有する真空蒸着装置でサブストレートを搬送するための
装置であって、ほぼプレート状の平らな平行六面体状の
形状を有する複数のサブストレートホルダを備えてお
り、これらのサブストレートホルダが、ステーションを
通る所定の搬送経路に沿って垂直状態で移動可能であっ
て、これらのサブストレートホルダは、このサブストレ
ートホルダに固定されるサブストレートの下側の、サブ
ストレートホルダの足部範囲にそれぞれ設けられたレー
ルと協働するようになっており、サブストレートホルダ
が、上方から前記足部の範囲にまで達する、前記レール
に対して平行に延びる縦孔状の切欠を有しており、該切
欠内に、ステーションを通過する際に、上壁部でサブス
トレートホルダの上側に配置された、垂直下方に延びる
扁平な部材が突入するようになっている形式のものに関
する。
【０００２】
【従来の技術】使用されるサブストレートホルダは、サ
ブストレートに応じて成形された切欠部を有するプレー
トとして構成されているか又は、サブストレートが固定
されるステーを有するフレームとして構成されている。
一般にサブストレートホルダは、多数のサブストレート
を収容するためのものである。
ブストレートに応じて成形された切欠部を有するプレー
トとして構成されているか又は、サブストレートが固定
されるステーを有するフレームとして構成されている。
一般にサブストレートホルダは、多数のサブストレート
を収容するためのものである。
【０００３】アメリカ合衆国特許第４０４２１２８号明
細書によれば、冒頭に述べた形式の搬送装置で、プレー
ト状のサブストレートホルダは、その主平面の傾斜した
位置において、その上縁部及び下縁部が、垂直軸線を中
心にして回転可能である２つのローラの間でガイドされ
るようになっているものが公知である。サブストレート
ホルダはその下縁部が付加的に、水平な回転軸線を有す
る支持ローラに載っている。しかしながら下側のガイド
ローラだけでは、サブストレートホルダを正確に垂直な
位置で保持し搬送することができるようにはなっていな
いので、上側のガイドローラの補助によってのみ安定的
な位置決めが可能である。
細書によれば、冒頭に述べた形式の搬送装置で、プレー
ト状のサブストレートホルダは、その主平面の傾斜した
位置において、その上縁部及び下縁部が、垂直軸線を中
心にして回転可能である２つのローラの間でガイドされ
るようになっているものが公知である。サブストレート
ホルダはその下縁部が付加的に、水平な回転軸線を有す
る支持ローラに載っている。しかしながら下側のガイド
ローラだけでは、サブストレートホルダを正確に垂直な
位置で保持し搬送することができるようにはなっていな
いので、上側のガイドローラの補助によってのみ安定的
な位置決めが可能である。
【０００４】また、所定の搬送経路に沿ってステーショ
ンを通して、ほぼ二次元方向に延びるサブストレートホ
ルダを垂直位置でガイドしつつ送るための、多数のステ
ーションとローラシステムとを備えた真空蒸着装置のた
めの搬送装置も公知である（ヨーロッパ特許第０２５４
１４５号明細書参照）。この場合にサブストレートホル
ダの下縁部の範囲には１対のガイドローラが配置されて
いて、この１対のガイドローラは、これらのガイドロー
ラの間でサブストレートホルダを受容し、垂直な軸線を
中心にして回転可能である。サブストレートホルダはも
っぱらその下縁部範囲でローラシステムによってガイド
されるようになっていて、ガイドローラは走行面を備え
ている。これらの走行面は、それぞれ１対のローラの少
なくとも一方のガイドローラの上端部及び下端部に配置
されている。１対のローラの他方のガイドローラは、少
なくとも１つの走行面を有していて、１対のローラの少
なくとも３つの走行面が、サブストレートホルダを傾倒
しないように保持するための緊締部材を形成している。
ンを通して、ほぼ二次元方向に延びるサブストレートホ
ルダを垂直位置でガイドしつつ送るための、多数のステ
ーションとローラシステムとを備えた真空蒸着装置のた
めの搬送装置も公知である（ヨーロッパ特許第０２５４
１４５号明細書参照）。この場合にサブストレートホル
ダの下縁部の範囲には１対のガイドローラが配置されて
いて、この１対のガイドローラは、これらのガイドロー
ラの間でサブストレートホルダを受容し、垂直な軸線を
中心にして回転可能である。サブストレートホルダはも
っぱらその下縁部範囲でローラシステムによってガイド
されるようになっていて、ガイドローラは走行面を備え
ている。これらの走行面は、それぞれ１対のローラの少
なくとも一方のガイドローラの上端部及び下端部に配置
されている。１対のローラの他方のガイドローラは、少
なくとも１つの走行面を有していて、１対のローラの少
なくとも３つの走行面が、サブストレートホルダを傾倒
しないように保持するための緊締部材を形成している。
【０００５】またドイツ連邦共和国特許第３１０７９１
４号明細書によれば、蒸着しようとするサブストレート
を、加熱装置を有する特別な仕切り室内で熱によって前
処理することが知られている。また、真空蒸着装置のた
めの搬送装置においてサブストレートホルダに足部を設
け、この足部が定置のレールに沿って滑動するようにな
っているものも公知である(ヨーロッパ特許第０３４６
８１５号明細書参照)。
４号明細書によれば、蒸着しようとするサブストレート
を、加熱装置を有する特別な仕切り室内で熱によって前
処理することが知られている。また、真空蒸着装置のた
めの搬送装置においてサブストレートホルダに足部を設
け、この足部が定置のレールに沿って滑動するようにな
っているものも公知である(ヨーロッパ特許第０３４６
８１５号明細書参照)。
【０００６】またドイツ連邦共和国特許出願第４０２９
９０５号明細書によれば、多数のステーションと、ほぼ
プレート状の形状のサブストレートホルダとを有する装
置が提案されている。このサブストレートホルダは、垂
直位置で所定の搬送経路に沿って移動し、サブストレー
トホルダに固定可能なサブストレートの下でそれぞれそ
の側部範囲に設けられたレールと協働するようになって
おり、サブストレートホルダの足部は、互いに平行な１
対のレールを備えていて、該レールに設けられた縦溝は
ローラと協働するようになっている。これらのローラ
は、装置の底部に支承されていて、互いに上下に延びる
平面に設けられた溝の形状に応じてそれぞれ列をなして
互いに間隔を保って設けられている。サブストレートホ
ルダは、上方からレールに対して平行に延びる縦孔状の
切欠を有しており、該切欠内に、ステーションを通過す
る際に、上壁部でサブストレートホルダの上部に配置さ
れた垂直下方に延びる扁平な加熱体（抵抗−加熱体とし
て構成された）が突入するようになっている。この従来
の搬送装置は、多数のサブストレートのためのサブスト
レートホルダを提供し、このサブストレートホルダを、
サブストレートが１つの加熱源によって同時にかつ同じ
強さで加熱され得るように構成するという課題を有して
いる。
９０５号明細書によれば、多数のステーションと、ほぼ
プレート状の形状のサブストレートホルダとを有する装
置が提案されている。このサブストレートホルダは、垂
直位置で所定の搬送経路に沿って移動し、サブストレー
トホルダに固定可能なサブストレートの下でそれぞれそ
の側部範囲に設けられたレールと協働するようになって
おり、サブストレートホルダの足部は、互いに平行な１
対のレールを備えていて、該レールに設けられた縦溝は
ローラと協働するようになっている。これらのローラ
は、装置の底部に支承されていて、互いに上下に延びる
平面に設けられた溝の形状に応じてそれぞれ列をなして
互いに間隔を保って設けられている。サブストレートホ
ルダは、上方からレールに対して平行に延びる縦孔状の
切欠を有しており、該切欠内に、ステーションを通過す
る際に、上壁部でサブストレートホルダの上部に配置さ
れた垂直下方に延びる扁平な加熱体（抵抗−加熱体とし
て構成された）が突入するようになっている。この従来
の搬送装置は、多数のサブストレートのためのサブスト
レートホルダを提供し、このサブストレートホルダを、
サブストレートが１つの加熱源によって同時にかつ同じ
強さで加熱され得るように構成するという課題を有して
いる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】これに対して本発明の
課題は、冒頭に述べた形式の、サブストレートを搬送す
るための装置で、熱処理を施す際の、熱に対する耐性を
有していないサブストレートにおける電気式及び光学式
の蒸着特性を改良して、特に、サブストレートの周囲温
度が比較的低く維持されるように構成することである。
課題は、冒頭に述べた形式の、サブストレートを搬送す
るための装置で、熱処理を施す際の、熱に対する耐性を
有していないサブストレートにおける電気式及び光学式
の蒸着特性を改良して、特に、サブストレートの周囲温
度が比較的低く維持されるように構成することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発
明によれば、磁性材料より形成された、フィンガー状又
はプレート状の前記扁平な部材が、電流が供給される少
なくとも１つのループ状導線を有しており、該ループ状
導線は、前記扁平な部材とは反対側に向けられた、サブ
ストレートの側面に配置された若しくは前記サブストレ
ートにしっかりと固定されたプレート、シート又は導電
性の材料より成る層と協働し、この層と共に誘導式−加
熱部材を形成している。
明によれば、磁性材料より形成された、フィンガー状又
はプレート状の前記扁平な部材が、電流が供給される少
なくとも１つのループ状導線を有しており、該ループ状
導線は、前記扁平な部材とは反対側に向けられた、サブ
ストレートの側面に配置された若しくは前記サブストレ
ートにしっかりと固定されたプレート、シート又は導電
性の材料より成る層と協働し、この層と共に誘導式−加
熱部材を形成している。
【０００９】サブストレートホルダは有利には、フレー
ム状に構成され互いに平行な平面に配置された２つの側
部を有しており、これらの側部が、これらの側部の間で
縦孔状の切欠を形成していて、該切欠の窓状の開口内に
サブストレートがはめ込まれるようになっており、前記
側部が足部と一体的に構成されているか、或いは足部に
リベット止め、ねじ止め又はヒンジを介して結合されて
いて、導電性の材料より成るプレート又はシートは、こ
れらが前記窓状の切欠内に挿入されるか又はここで係止
されるような外側寸法を有して構成されている。
ム状に構成され互いに平行な平面に配置された２つの側
部を有しており、これらの側部が、これらの側部の間で
縦孔状の切欠を形成していて、該切欠の窓状の開口内に
サブストレートがはめ込まれるようになっており、前記
側部が足部と一体的に構成されているか、或いは足部に
リベット止め、ねじ止め又はヒンジを介して結合されて
いて、導電性の材料より成るプレート又はシートは、こ
れらが前記窓状の切欠内に挿入されるか又はここで係止
されるような外側寸法を有して構成されている。
【００１０】
【実施例】次に図面に示した実施例について本発明の構
成を具体的に説明する。
成を具体的に説明する。
【００１１】図面に示されているように、この装置は、
蒸着室３内でケーシング４の一方の側壁に沿って水平に
延びるアーム５，６に回転可能に支承されたローラ７，
８と、側壁４ａ，４ｂに固定された２つのカソード９，
１０と、上部の壁部４ｃ若しくは絶縁体１２に保持さ
れ、かつ、ループ状導線２９に取り囲まれたプレート状
の部材１１と、レール１３，１４を備えた、横断面Ｕ字
形のサブストレートホルダ１６の足部と、サブストレー
ト２２，２３及びプレート２７，２８を保持する、サブ
ストレートホルダ１６のフレーム状の２つの側部１６
ａ，１６ｂと、側壁４ａ，４ｂに固定された、カソード
マスク１７，１８を有する２つのカソード１９，２０
と、図示していないターボ分子ポンプの吸気スリーブ２
１とから成っている。
蒸着室３内でケーシング４の一方の側壁に沿って水平に
延びるアーム５，６に回転可能に支承されたローラ７，
８と、側壁４ａ，４ｂに固定された２つのカソード９，
１０と、上部の壁部４ｃ若しくは絶縁体１２に保持さ
れ、かつ、ループ状導線２９に取り囲まれたプレート状
の部材１１と、レール１３，１４を備えた、横断面Ｕ字
形のサブストレートホルダ１６の足部と、サブストレー
ト２２，２３及びプレート２７，２８を保持する、サブ
ストレートホルダ１６のフレーム状の２つの側部１６
ａ，１６ｂと、側壁４ａ，４ｂに固定された、カソード
マスク１７，１８を有する２つのカソード１９，２０
と、図示していないターボ分子ポンプの吸気スリーブ２
１とから成っている。
【００１２】図面で概略的に示された蒸着ステーション
の運転中に、サブストレート２２，２３は、これがカソ
ード１９，２０に向き合う位置（図示されている位置）
に来るまで、図平面に対して直角な方向で移動する。
の運転中に、サブストレート２２，２３は、これがカソ
ード１９，２０に向き合う位置（図示されている位置）
に来るまで、図平面に対して直角な方向で移動する。
【００１３】サブストレート２２，２３は、その外側面
２２ａ，２３ａが蒸着されると、同一方向で（図平面に
対して直角な方向で）、次の処理ステーションまでさら
に移動せしめられる。円板状のサブストレート２２，２
３と、導電性の材料２７，２８より成るプレートとは、
これらをフレーム状に取り囲む、サブストレートホルダ
１６の側部１６ａ，１６ｂによって保持されるようにな
っている。このサブストレートホルダ１６自体は足部１
５に固く結合されているか又はこの足部１５と一体的に
形成されている。足部１５は１対のレール１３，１４に
ねじ止め又は溶接されている。この１対のレール１３，
１４自体は縦溝１３ａ，１４ａを有していて、該縦溝１
３ａ，１４ａ内でローラ７若しくは８が走行し、これら
のローラは、互いに相前後して間隔を保って２列で回転
可能に、アーム５若しくは６に支承されている。ローラ
５若しくは６の列間の間隔は、足部１５がこのこれらの
ローラに傾倒して保持されかつガイドされるように選定
されている。
２２ａ，２３ａが蒸着されると、同一方向で（図平面に
対して直角な方向で）、次の処理ステーションまでさら
に移動せしめられる。円板状のサブストレート２２，２
３と、導電性の材料２７，２８より成るプレートとは、
これらをフレーム状に取り囲む、サブストレートホルダ
１６の側部１６ａ，１６ｂによって保持されるようにな
っている。このサブストレートホルダ１６自体は足部１
５に固く結合されているか又はこの足部１５と一体的に
形成されている。足部１５は１対のレール１３，１４に
ねじ止め又は溶接されている。この１対のレール１３，
１４自体は縦溝１３ａ，１４ａを有していて、該縦溝１
３ａ，１４ａ内でローラ７若しくは８が走行し、これら
のローラは、互いに相前後して間隔を保って２列で回転
可能に、アーム５若しくは６に支承されている。ローラ
５若しくは６の列間の間隔は、足部１５がこのこれらの
ローラに傾倒して保持されかつガイドされるように選定
されている。
【００１４】サブストレート２２，２３が蒸着プロセス
のために必要な温度を確実に保つことができるようにす
るために、ケーシング４の上壁部４ｃに設けられた絶縁
体１２に、電流の流れるコイルワイヤ又はループ状導線
２９が巻き付けられたプレート状の部材１１が固定され
ている。この部材１１は、縦孔状の溝２４内に突入して
おり、この部材１１の寸法は、サブストレート２２，２
３がその一方側から誘導によって均一に加熱されるよう
に設計されている。放射損失をできるだけ少なくして、
２つのサブストレート２２，２３の温度調節を同レベル
に保つために、加熱部材１１とサブストレート２２，２
３との間にそれぞれ存在する間隔は同じであって、しか
もできるだけ小さくなければならない。
のために必要な温度を確実に保つことができるようにす
るために、ケーシング４の上壁部４ｃに設けられた絶縁
体１２に、電流の流れるコイルワイヤ又はループ状導線
２９が巻き付けられたプレート状の部材１１が固定され
ている。この部材１１は、縦孔状の溝２４内に突入して
おり、この部材１１の寸法は、サブストレート２２，２
３がその一方側から誘導によって均一に加熱されるよう
に設計されている。放射損失をできるだけ少なくして、
２つのサブストレート２２，２３の温度調節を同レベル
に保つために、加熱部材１１とサブストレート２２，２
３との間にそれぞれ存在する間隔は同じであって、しか
もできるだけ小さくなければならない。
【００１５】ループ状導線２９が、サブストレート２
２，２３の裏側に配置されたメタルプレート２７，２８
と、誘導−加熱体の形式で協働するだけでなく、サブス
トレートの前側又は裏側施された、導電性の材料より成
る層と協働するようになっていることは明らかである。
サブストレートに、ループ状導線２９と共に誘導式加熱
体を形成するメタルシートを接着してもよい。
２，２３の裏側に配置されたメタルプレート２７，２８
と、誘導−加熱体の形式で協働するだけでなく、サブス
トレートの前側又は裏側施された、導電性の材料より成
る層と協働するようになっていることは明らかである。
サブストレートに、ループ状導線２９と共に誘導式加熱
体を形成するメタルシートを接着してもよい。
【００１６】本発明の主要な利点は、サブストレートが
部材１１（加熱部材）及び同じく加熱部材としてのルー
プ状導線２９の直前に存在する瞬間だけ、加えようとす
る熱が生ぜしめられるようになっているので、この装置
自体はそれ以上加熱されることはなく、熱は（場所的に
制限されて）、特に良好にコントロールされることがで
きるようになっているという点にある。
部材１１（加熱部材）及び同じく加熱部材としてのルー
プ状導線２９の直前に存在する瞬間だけ、加えようとす
る熱が生ぜしめられるようになっているので、この装置
自体はそれ以上加熱されることはなく、熱は（場所的に
制限されて）、特に良好にコントロールされることがで
きるようになっているという点にある。
【図１】本発明の１実施例による装置の概略的な部分横
断面図である。
断面図である。
３ 蒸着室、 ４ ケーシング、 ４ａ，４ｂ ケーシ
ングの側壁、 ４ｃケーシングの上壁部、５，６ アー
ム、 ７，８ ローラ、 ９，１０ カソード、 １１
巻芯、 １２ 絶縁体、 １３ レール、 １３ａ
縦溝、 １４レール、 １４ａ 縦溝、 １５ 足部、
１６ サブストレートホルダ、１６ａ，１６ｂ サブ
ストレートホルダの側部、 １７，１８ カソードマス
ク、 １９，２０ カソード、 ２１ 吸気スリーブ、
２２ サブストレート、２２ａ サブストレートの外
側面、 ２３ サブストレート、 ２３ａ サブストレ
ート外側面、 ２４ 縦孔状の溝、 ２５，２６ 窓状
の切欠、２７，２８ ペダルプレート、 ２９ ガイド
プレート
ングの側壁、 ４ｃケーシングの上壁部、５，６ アー
ム、 ７，８ ローラ、 ９，１０ カソード、 １１
巻芯、 １２ 絶縁体、 １３ レール、 １３ａ
縦溝、 １４レール、 １４ａ 縦溝、 １５ 足部、
１６ サブストレートホルダ、１６ａ，１６ｂ サブ
ストレートホルダの側部、 １７，１８ カソードマス
ク、 １９，２０ カソード、 ２１ 吸気スリーブ、
２２ サブストレート、２２ａ サブストレートの外
側面、 ２３ サブストレート、 ２３ａ サブストレ
ート外側面、 ２４ 縦孔状の溝、 ２５，２６ 窓状
の切欠、２７，２８ ペダルプレート、 ２９ ガイド
プレート
Claims (3)
- 【請求項１】 多数のステーションを有する真空蒸着装
置でサブストレートを搬送するための装置であって、ほ
ぼプレート状の平らな平行六面体状の形状を有する複数
のサブストレートホルダ（１６）を備えており、これら
のサブストレートホルダ（１６）が、ステーションを通
る所定の搬送経路に沿って垂直状態で移動可能であっ
て、これらのサブストレートホルダ（１６）は、このサ
ブストレートホルダ（１６）に固定されるサブストレー
ト（２２，２３）の下側の、サブストレートホルダ（１
６）の足部（１５）範囲にそれぞれ設けられたレール
（１３，１４）と協働するようになっており、サブスト
レートホルダ（１６）が、上方から前記足部（１５）の
範囲にまで達する、前記レール（１３，１４）に対して
平行に延びる縦孔状の切欠（２４）を有しており、該切
欠（２４）内に、ステーションを通過する際に、上壁部
（４ｃ）でサブストレートホルダ（１６）の上側に配置
された、垂直下方に延びる扁平な部材（１１）が突入す
るようになっている形式のものにおいて、磁性材料より
形成された、フィンガー状又はプレート状の前記扁平な
部材（１１）が、電流が供給される少なくとも１つのル
ープ状導線を有しており、該ループ状導線は、前記扁平
な部材（１１）とは反対側に向けられた、サブストレー
ト（２２，２３）の側面に配置された若しくは前記サブ
ストレートにしっかりと固定されたプレート、シート又
は導電性の材料（２７，２８）より成る層と協働し、こ
の層と共に誘導式−加熱部材を形成していることを特徴
とする、サブストレートを搬送するための装置。 - 【請求項２】 サブストレートホルダ（１６）が、フレ
ーム状に構成され互いに平行な平面に配置された２つの
側部（１６ａ，１６ｂ）を有しており、これらの側部
（１６ａ，１６ｂ）が、これらの側部の間で縦孔状の切
欠（２４）を形成していて、該切欠（２４）の窓状の開
口（２５，２６）内にサブストレート（２２，２３）が
はめ込まれるようになっており、前記側部（１６ａ，１
６ｂ）が足部（５）と一体的に構成されているか、或い
は足部（１５）にリベット止め、ねじ止め又はヒンジを
介して結合されていて、導電性の材料より成るプレート
又はシート（２７，２８）は、これらが前記窓状の切欠
（２５，２６）内に挿入されるか又はここで係止される
ような外側寸法を有して構成されている、請求項１記載
の装置。 - 【請求項３】 導電性の材料より成るプレート又はシー
ト（２７，２８）がサブストレート（２２，２３）と一
体的に構成されていて、サブストレート（２２，２３）
の裏側又は、カソード（１９，２０）に向けられた側面
に層状に配置されている、請求項１記載の装置。
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