JPH05263246A - 基板を熱処理及び搬送するための装置 - Google Patents
基板を熱処理及び搬送するための装置Info
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- JPH05263246A JPH05263246A JP5015290A JP1529093A JPH05263246A JP H05263246 A JPH05263246 A JP H05263246A JP 5015290 A JP5015290 A JP 5015290A JP 1529093 A JP1529093 A JP 1529093A JP H05263246 A JPH05263246 A JP H05263246A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
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- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 基板保持装置を改良して、基板が個々の加熱
源によって共通して同時にかつ同一の強さで調質する。 【構成】 ほぼ平面状の偏平な平行六面体状の輪郭を備
えた基板保持体１６を有し、該保持体１６は搬送路に沿
う垂直な位置でステーションを貫通して運動可能であ
り、かつレール１３，１４と協働する転動体、滑り子２
９，２９ａ，３０，３０ａ又はローラ７，８の対によっ
て基板保持体１６を保持して案内しており、またこれら
のものは夫々、その脚部分１５の領域内の基板保持体１
６に固定可能な基板２２，２３の下方に設けられてあ
り、その際基板保持体１６は枠状に形成されて平行な平
面内に配置されている側方部分１６ａ，１６ｂを有し、
その窓状の問口部２５，２６内に基板２２，２３を挿入
することができる、複数のステーションを備えた真空積
層装置内で基板２２，２３を熱処理及び搬送するための
装置。
源によって共通して同時にかつ同一の強さで調質する。 【構成】 ほぼ平面状の偏平な平行六面体状の輪郭を備
えた基板保持体１６を有し、該保持体１６は搬送路に沿
う垂直な位置でステーションを貫通して運動可能であ
り、かつレール１３，１４と協働する転動体、滑り子２
９，２９ａ，３０，３０ａ又はローラ７，８の対によっ
て基板保持体１６を保持して案内しており、またこれら
のものは夫々、その脚部分１５の領域内の基板保持体１
６に固定可能な基板２２，２３の下方に設けられてあ
り、その際基板保持体１６は枠状に形成されて平行な平
面内に配置されている側方部分１６ａ，１６ｂを有し、
その窓状の問口部２５，２６内に基板２２，２３を挿入
することができる、複数のステーションを備えた真空積
層装置内で基板２２，２３を熱処理及び搬送するための
装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数のステーションを
備えた真空積層装置内で基板を熱処理及び搬送を行うた
めの装置に関しており、該装置は、ほぼ平面状の偏平な
平行六面体状の輪郭を備えた基板保持体を有し、該保持
体は、前述の搬送路に沿う垂直な位置でステーションを
貫通して運動可能であり、かつレールと協働する転動
体、滑り子又はローラの対によって基板保持体を保持し
て案内しており、またこれらのものは夫々、その脚部分
の領域内の基板保持体に固定可能な基板の下方に設けら
れており、その際基板保持体は枠状に形成されて平行な
平面内に配置されている側方部分を有し、その窓状の開
口部内には基板を挿入することができる。
備えた真空積層装置内で基板を熱処理及び搬送を行うた
めの装置に関しており、該装置は、ほぼ平面状の偏平な
平行六面体状の輪郭を備えた基板保持体を有し、該保持
体は、前述の搬送路に沿う垂直な位置でステーションを
貫通して運動可能であり、かつレールと協働する転動
体、滑り子又はローラの対によって基板保持体を保持し
て案内しており、またこれらのものは夫々、その脚部分
の領域内の基板保持体に固定可能な基板の下方に設けら
れており、その際基板保持体は枠状に形成されて平行な
平面内に配置されている側方部分を有し、その窓状の開
口部内には基板を挿入することができる。
【０００２】使用に供される基板保持体は、基板に対応
して成形された区分を備えているプレートか、又はそれ
に基板が固定された支柱を備えている枠かのどちらかで
ある。一般に基板保持体は、多数の基板を受容するのに
役立っている。
して成形された区分を備えているプレートか、又はそれ
に基板が固定された支柱を備えている枠かのどちらかで
ある。一般に基板保持体は、多数の基板を受容するのに
役立っている。
【０００３】
【従来の技術】米国特許第４０４２１２８号明細書によ
れば冒頭で述べた形式の搬送装置が公知であり、この例
ではプレート状の基板保持体が、その主平面の垂直位置
で各ローラ間の上方及び下方長手方向縁部に沿って案内
されており、これらのローラは垂直軸線を中心に旋回可
能である。その下方縁部において基板保持体は、付加的
に水平方向の回転軸線を備えた支持ローラ上に載置され
ている。しかし下方の案内ローラは、基板保持体だけを
正確な垂直位置に保持しかつ搬送するような状態にはな
っていない。従って安定した位置決めは、上方案内ロー
ラの援けを借りて初めて可能である。
れば冒頭で述べた形式の搬送装置が公知であり、この例
ではプレート状の基板保持体が、その主平面の垂直位置
で各ローラ間の上方及び下方長手方向縁部に沿って案内
されており、これらのローラは垂直軸線を中心に旋回可
能である。その下方縁部において基板保持体は、付加的
に水平方向の回転軸線を備えた支持ローラ上に載置され
ている。しかし下方の案内ローラは、基板保持体だけを
正確な垂直位置に保持しかつ搬送するような状態にはな
っていない。従って安定した位置決めは、上方案内ロー
ラの援けを借りて初めて可能である。
【０００４】また真空積層装置のための搬送装置も公知
であり（ヨーロッパ特許第０２５４１４５号明細書）、
該装置は、複数のステーションと、ステーションを貫通
する所定の搬送路に沿う垂直位置でほぼ二次元状の基板
保持体を案内しかつ送るためのローラ装置とを有してお
り、その際基板保持体の下方縁部の領域内に対状の案内
ローラが配置され、該案内ローラは、基板保持体をそれ
自体の間で受容しかつ垂直軸線を中心に回転可能であ
り、その際基板保持体は専ら、その下方縁部の領域内で
ローラ装置によって案内されている。また案内ローラに
は走行面が設けられていて、該走行面は、ローラ対の少
くとも１つの案内ローラ上で夫々下方及び上方端部に接
して配置されている。その際同一のローラ対の夫々別の
案内ローラは、少くとも１つの走行面を有し、またその
際ローラ対の少くとも３つの走行面が、基板保持体に関
して傾動不可な張架部を形成している。
であり（ヨーロッパ特許第０２５４１４５号明細書）、
該装置は、複数のステーションと、ステーションを貫通
する所定の搬送路に沿う垂直位置でほぼ二次元状の基板
保持体を案内しかつ送るためのローラ装置とを有してお
り、その際基板保持体の下方縁部の領域内に対状の案内
ローラが配置され、該案内ローラは、基板保持体をそれ
自体の間で受容しかつ垂直軸線を中心に回転可能であ
り、その際基板保持体は専ら、その下方縁部の領域内で
ローラ装置によって案内されている。また案内ローラに
は走行面が設けられていて、該走行面は、ローラ対の少
くとも１つの案内ローラ上で夫々下方及び上方端部に接
して配置されている。その際同一のローラ対の夫々別の
案内ローラは、少くとも１つの走行面を有し、またその
際ローラ対の少くとも３つの走行面が、基板保持体に関
して傾動不可な張架部を形成している。
【０００５】更に積層さるべき基板を、加熱装置を備え
た特殊なロック室内で熱的に予め処理するという装置が
公知である（ドイツ国特許第３１０７９１４号明細
書）。また既に、基板保持体の真空積層装置のための搬
送装置の近傍に位置不動のレール上を滑る脚部分を設け
ることが提案されている（ヨーロッパ特許第０３４６８
１５号明細書）。
た特殊なロック室内で熱的に予め処理するという装置が
公知である（ドイツ国特許第３１０７９１４号明細
書）。また既に、基板保持体の真空積層装置のための搬
送装置の近傍に位置不動のレール上を滑る脚部分を設け
ることが提案されている（ヨーロッパ特許第０３４６８
１５号明細書）。
【０００６】また更に、複数のステーションと、ほぼプ
レート状の偏平な平行六面体状の輪郭を備えた基板保持
体とを有している装置が既に提案されており（ドイツ国
特許第４０２９９０５．８号明細書）、この基板保持体
は、所定の搬送路に沿う垂直な位置でステーションを貫
通して運動可能でありかつレールと協働しており、該レ
ールは夫々、その脚部分の領域内の基板保持体に固定可
能な基板の下方に設けられており、その際基板保持体の
脚部分には、互いに平行で間隔をおいて延び、かつ１つ
の垂直な平面内に配置されている１対のレールが設けら
れており、その互いに向い合った狭側部には長手方向溝
が設けられ、該溝はローラ又は滑り子に対応している。
これらのローラ又は滑り子は、装置の底部部分に位置不
動に支承され、かつ−溝の経過に対応して−上下に位置
している垂直面内で直列に互いに間隔を置いて設けられ
ている。その際基板保持体は、上方から脚部分の領域内
にまで延びかつレールに平行に延びている箱形の切欠き
を有しており、その内方には、ステーションを貫走する
際、基板保持体の上方の上方壁部分に配置された偏平状
の、下方に向って鉛直状に延ばされるべき加熱体が突入
しており、該加熱体は抵抗加熱体として形成されてい
る。
レート状の偏平な平行六面体状の輪郭を備えた基板保持
体とを有している装置が既に提案されており（ドイツ国
特許第４０２９９０５．８号明細書）、この基板保持体
は、所定の搬送路に沿う垂直な位置でステーションを貫
通して運動可能でありかつレールと協働しており、該レ
ールは夫々、その脚部分の領域内の基板保持体に固定可
能な基板の下方に設けられており、その際基板保持体の
脚部分には、互いに平行で間隔をおいて延び、かつ１つ
の垂直な平面内に配置されている１対のレールが設けら
れており、その互いに向い合った狭側部には長手方向溝
が設けられ、該溝はローラ又は滑り子に対応している。
これらのローラ又は滑り子は、装置の底部部分に位置不
動に支承され、かつ−溝の経過に対応して−上下に位置
している垂直面内で直列に互いに間隔を置いて設けられ
ている。その際基板保持体は、上方から脚部分の領域内
にまで延びかつレールに平行に延びている箱形の切欠き
を有しており、その内方には、ステーションを貫走する
際、基板保持体の上方の上方壁部分に配置された偏平状
の、下方に向って鉛直状に延ばされるべき加熱体が突入
しており、該加熱体は抵抗加熱体として形成されてい
る。
【０００７】これらの従来の搬送装置は、複数の基板の
ための基板保持装置を改良して、基板が個々の加熱源に
よって共通して同時にかつ同一の強さで調質できるよう
な装置を構成するという課題を有している。
ための基板保持装置を改良して、基板が個々の加熱源に
よって共通して同時にかつ同一の強さで調質できるよう
な装置を構成するという課題を有している。
【０００８】ドイツ国特許第４１２５３３４．５号明細
書の主請求項に基く発明の場合には、当該形式の装置を
改良して、非加熱状態の基板の電気的及び光学的な層特
性を調質によって改善できるようにし、かつその際基板
周辺部の温度が比較的低くに留まることができるように
装置を構成するという課題を有している。
書の主請求項に基く発明の場合には、当該形式の装置を
改良して、非加熱状態の基板の電気的及び光学的な層特
性を調質によって改善できるようにし、かつその際基板
周辺部の温度が比較的低くに留まることができるように
装置を構成するという課題を有している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述の発明から出発し
て本発明の課題は、請求項１の上位概念に記載の装置を
改良して、基板が電気的な絶縁材料から成りかつその上
に導電材料から成る薄層を被着している場合、この薄層
を調質する目的で迅速に加熱することができるようにす
ることにあり、しかもその際、基板自体は殆んど加熱さ
れず、かつ電磁場に対して特に敏感な基板に損傷が及ば
ないようにしなければならない。
て本発明の課題は、請求項１の上位概念に記載の装置を
改良して、基板が電気的な絶縁材料から成りかつその上
に導電材料から成る薄層を被着している場合、この薄層
を調質する目的で迅速に加熱することができるようにす
ることにあり、しかもその際、基板自体は殆んど加熱さ
れず、かつ電磁場に対して特に敏感な基板に損傷が及ば
ないようにしなければならない。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明では、位置不動の
保持部に滑り接触子が設けられており、その弾発状の端
部は、ステーションを貫通する運動の際夫々基板上に装
着された導電層に接触し、その際この滑り接触子及び層
を介して電流回路が短時間閉成可能であり、これによっ
て層の加熱ひいては層材料の調質が行われることによ
り、上記課題を解決することができた。
保持部に滑り接触子が設けられており、その弾発状の端
部は、ステーションを貫通する運動の際夫々基板上に装
着された導電層に接触し、その際この滑り接触子及び層
を介して電流回路が短時間閉成可能であり、これによっ
て層の加熱ひいては層材料の調質が行われることによ
り、上記課題を解決することができた。
【００１１】
【実施例】本発明の場合には種々の実施態様が可能であ
る。その内の１つが、装置の横断面を示す添付の図面に
やや詳しく図示されている。
る。その内の１つが、装置の横断面を示す添付の図面に
やや詳しく図示されている。
【００１２】この装置は図面に図示されているように、
ケーシング４の一方の側壁４ａの積層室３内を水平方向
に延びるアーム５，６上で回転可能に支承されているロ
ーラ７，８と、側壁部４ａ，４ｂに不動に配置されてい
る両カソード９，１０と、上方壁部分４ｃ乃至絶縁体２
７に保持されて付属の供給導線１２，１２ａを備えてい
る滑り接触子２９，２９ａと、断面がＵ字状に成形され
て基板保持体１６のレール１３，１４を備えている脚部
分１５と、枠状で基板２２，２３を保持している基板支
持体１６の両側方部分１６ａ，１６ｂと、それに固定さ
れた滑り接触子３０，３０ａを備えている両絶縁体乃至
保持部２８，２８ａと、更には詳細には図示なしのター
ボ分子ポンプの吸込導管部２１と、から成っている。
ケーシング４の一方の側壁４ａの積層室３内を水平方向
に延びるアーム５，６上で回転可能に支承されているロ
ーラ７，８と、側壁部４ａ，４ｂに不動に配置されてい
る両カソード９，１０と、上方壁部分４ｃ乃至絶縁体２
７に保持されて付属の供給導線１２，１２ａを備えてい
る滑り接触子２９，２９ａと、断面がＵ字状に成形され
て基板保持体１６のレール１３，１４を備えている脚部
分１５と、枠状で基板２２，２３を保持している基板支
持体１６の両側方部分１６ａ，１６ｂと、それに固定さ
れた滑り接触子３０，３０ａを備えている両絶縁体乃至
保持部２８，２８ａと、更には詳細には図示なしのター
ボ分子ポンプの吸込導管部２１と、から成っている。
【００１３】基板２２，２３は図面に概略図示されてい
る積層ステーションの運転中、図面にみられるように、
基板がカソード９，１０に向い合って起立するようにな
るまで切断平面に垂直な方向に運動せしめられる。
る積層ステーションの運転中、図面にみられるように、
基板がカソード９，１０に向い合って起立するようにな
るまで切断平面に垂直な方向に運動せしめられる。
【００１４】この基板２２，２３は、基板２２，２３の
外面２２ａ，２３ａを積層した後（紙面に垂直な）同一
方向で次の加工ステーションにまで更に運動せしめられ
る。ディスク状の基板２２，２３は、これを枠状に取り
囲んでいる基板保持体１６の側方部分１６ａ，１６ｂに
よって保持されており、一方で該側方部分１６ａ，１６
ｂは、脚部分１５に不動に結合されているか又は該部分
１５と一体状に構成されている。脚部分１５は一対のレ
ール１３，１４に螺着されているか又は溶接されてお
り、他方で該レール１３，１４は、長手方向溝１３ａ，
１４ａを有し、その内方をローラ７乃至８が走行し、該
ローラ７，８は、間隔を置いて２列に互いに直列状に、
アーム５乃至６上で回転可能に支承されている。ローラ
７乃至８の列が互いに有している間隔は、脚部分１５を
該ローラ上で傾動不可に保持しかつ案内することができ
るように選択されている。
外面２２ａ，２３ａを積層した後（紙面に垂直な）同一
方向で次の加工ステーションにまで更に運動せしめられ
る。ディスク状の基板２２，２３は、これを枠状に取り
囲んでいる基板保持体１６の側方部分１６ａ，１６ｂに
よって保持されており、一方で該側方部分１６ａ，１６
ｂは、脚部分１５に不動に結合されているか又は該部分
１５と一体状に構成されている。脚部分１５は一対のレ
ール１３，１４に螺着されているか又は溶接されてお
り、他方で該レール１３，１４は、長手方向溝１３ａ，
１４ａを有し、その内方をローラ７乃至８が走行し、該
ローラ７，８は、間隔を置いて２列に互いに直列状に、
アーム５乃至６上で回転可能に支承されている。ローラ
７乃至８の列が互いに有している間隔は、脚部分１５を
該ローラ上で傾動不可に保持しかつ案内することができ
るように選択されている。
【００１５】基板層２２ａ，２３ａが調質工程のために
必要な温度を有することができるように保証するため、
ケーシング４の上方壁部分４ｃ上の絶縁体乃至保持部２
７に滑り接触子２９，２９ａが固定されており、その自
由端部は、基板２２，２３がその基板保持部１６と共に
ステーションの領域内に位置している場合には、弾発状
に層２２ａ乃至２３ａに接触している。同時に滑り接触
子３０，３０ａも層２２ａ乃至２３ａ（インジュウム−
錫−酸化層）と接触するようになり、その結果層２２
ａ，２３ａを介して夫々１つの電流通路が実現されるよ
うになり、その結果層の加熱が行われるようになる。
必要な温度を有することができるように保証するため、
ケーシング４の上方壁部分４ｃ上の絶縁体乃至保持部２
７に滑り接触子２９，２９ａが固定されており、その自
由端部は、基板２２，２３がその基板保持部１６と共に
ステーションの領域内に位置している場合には、弾発状
に層２２ａ乃至２３ａに接触している。同時に滑り接触
子３０，３０ａも層２２ａ乃至２３ａ（インジュウム−
錫−酸化層）と接触するようになり、その結果層２２
ａ，２３ａを介して夫々１つの電流通路が実現されるよ
うになり、その結果層の加熱が行われるようになる。
【００１６】ここに説明した装置の重要な利点は、基板
が滑り接触子２９，２９ａ乃至３０，３０ａの領域内に
直接位置している場合に、使用さるべき熱が瞬間的にだ
け発生せしめられるという点にある。そのため装置自体
は余分には加熱されず、かつ熱は−場所的に制約されて
−特に良好に制御可能である（例えば“プレキシグラ
ス”から成る基板は最大１００℃の温度に晒されるだけ
である）。調質の際基板２２，２３自体は電磁場に全く
晒されない。（例えばＩＴＯ層のような）層の加熱のた
めに夫々必要な電流は、有利には“パルス状”に流され
る、つまり（僅かな時間の範囲内で）極く短い時間だけ
かつ部分的に流される。その際交流電流も直流パルスも
明らかに利用可能である。また（例えばｋＨｚ領域の）
高周波による加熱も機能的であることが判明した。調質
は、真空下でもまた所定の圧力下のガス雰囲気内でも、
共に実施可能である。
が滑り接触子２９，２９ａ乃至３０，３０ａの領域内に
直接位置している場合に、使用さるべき熱が瞬間的にだ
け発生せしめられるという点にある。そのため装置自体
は余分には加熱されず、かつ熱は−場所的に制約されて
−特に良好に制御可能である（例えば“プレキシグラ
ス”から成る基板は最大１００℃の温度に晒されるだけ
である）。調質の際基板２２，２３自体は電磁場に全く
晒されない。（例えばＩＴＯ層のような）層の加熱のた
めに夫々必要な電流は、有利には“パルス状”に流され
る、つまり（僅かな時間の範囲内で）極く短い時間だけ
かつ部分的に流される。その際交流電流も直流パルスも
明らかに利用可能である。また（例えばｋＨｚ領域の）
高周波による加熱も機能的であることが判明した。調質
は、真空下でもまた所定の圧力下のガス雰囲気内でも、
共に実施可能である。
【図１】本発明の装置の横断面図である。
３ 積層室 ４ ケーシング ４ａ，４ｂ ケーシング側壁部 ４ｃ ケーシングの上方壁部分 ５，６ アーム ７，８ ローラ ９，１０ 陰極 １２，１２ａ 電気供給導線 １３ レール １３ａ 長手方向溝 １４ レール １４ａ 長手方向溝 １５ 脚部分 １６ 基板保持体 １６ａ，１６ｂ 基板保持体の側方部分 １７，１８ 陰極遮蔽部 ２１ 吸込導管部 ２２ 基板 ２２ａ 基板の導電層 ２３ 基板 ２３ａ 基板の導電層 ２４，２４ａ 電気供給導線 ２５，２６ 窓状切欠き ２７，２８，２８ａ 保持部、絶縁体 ２９，２９ａ，３０，３０ａ 滑り接触子
Claims (1)
- 【請求項１】 複数のステーションを備えた真空積層装
置内の基板（２２，２３）を搬送するための装置であっ
て、ほぼプレート状で偏平な平行六面体状の輪郭を備え
た基板保持体（１６）を有しており、該保持体（１６）
は、垂直な姿勢で前述の搬送路に沿ってステーションを
貫通して運動可能でありかつレール（１３，１４）と協
働しており、該レール（１３，１４）は夫々、基板保持
体（１６）に固定される基板（２２，２３）の下方で基
板保持体（１６）の脚部分（１５）のところに設けられ
ており、その際基板保持体（１６）は、枠状に成形され
て平行な平面内に配置された側方部分（１６ａ，１６
ｂ）を有しており、その窓状の開口部（２５，２６）内
に基板（２２，２３）が挿入可能である形式のものにお
いて、 位置不動の保持部（２７，２８）に滑り接触子（２９，
２９ａ乃至３０，３０ａ）が設けられており、その弾発
状の端部は、ステーションを貫通する運動の際夫々基板
（２２，２３）上に装着された導電層（２２ａ，２３
ａ）に接触し、その際この滑り接触子（２９，２９ａ乃
至３０，３０ａ）及び層（２２ａ，２３ａ）を介して電
流回路が短時間閉成可能であり、これによって層（２２
ａ及び２３ａ）の加熱ひいては層材料の調質が行われる
ことを特徴とする、基板を熱処理及び搬送するための装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4203080.3 | 1992-02-04 | ||
| DE19924203080 DE4203080A1 (de) | 1991-07-31 | 1992-02-04 | Vorrichtung fuer die waermebehandlung und den transport von substraten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05263246A true JPH05263246A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=6450896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5015290A Pending JPH05263246A (ja) | 1992-02-04 | 1993-02-02 | 基板を熱処理及び搬送するための装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0554521B1 (ja) |
| JP (1) | JPH05263246A (ja) |
| KR (1) | KR930019090A (ja) |
| DE (1) | DE59203041D1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6153060A (en) * | 1999-08-04 | 2000-11-28 | Honeywell International Inc. | Sputtering process |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59167013A (ja) * | 1983-03-12 | 1984-09-20 | Agency Of Ind Science & Technol | プラズマｃｖｄ装置 |
| DE3623970A1 (de) * | 1986-07-16 | 1988-01-28 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Transporteinrichtung mit rollensystemen fuer vakuum-beschichtungsanlagen |
| DE4029905C2 (de) * | 1990-09-21 | 1993-10-28 | Leybold Ag | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
-
1992
- 1992-11-06 DE DE59203041T patent/DE59203041D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-11-06 EP EP92119072A patent/EP0554521B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-02-02 JP JP5015290A patent/JPH05263246A/ja active Pending
- 1993-02-02 KR KR1019930001355A patent/KR930019090A/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0554521A3 (en) | 1994-06-01 |
| DE59203041D1 (de) | 1995-08-31 |
| EP0554521B1 (de) | 1995-07-26 |
| EP0554521A2 (de) | 1993-08-11 |
| KR930019090A (ko) | 1993-09-22 |
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