JPH1067429A - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置

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JPH1067429A
JPH1067429A JP22428396A JP22428396A JPH1067429A JP H1067429 A JPH1067429 A JP H1067429A JP 22428396 A JP22428396 A JP 22428396A JP 22428396 A JP22428396 A JP 22428396A JP H1067429 A JPH1067429 A JP H1067429A
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JP
Japan
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substrate
slider
particles
substrate support
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JP22428396A
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English (en)
Inventor
Masami Otani
正美 大谷
Koji Nishi
幸治 西
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パーティクルが発生する部分を仕切部材によ
って仕切ることによって、発生したパーティクルによる
基板の汚染を防止することができる。 【解決手段】 基板を支持する基板支持部1およびスラ
イダ5と、スライダ5の下面に配設されたリニアガイド
15と摺動し、基板支持部1およびスライダ5を水平方
向に案内するガイドレール9a,9bと、スライダ5の
下面に配設された係合部と係合してガイドレール9a,
9bに沿ってスライダ5を移動するボールネジ11およ
びモータ11cとを備えている基板搬送装置において、
スライダ5の移動方向にあたる両側面に仕切部材17を
配設し、リニアガイド15および係合部を移動方向から
みて仕切るようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板など(以下、単に基板と称す
る)を搬送する基板搬送装置に係り、特に、基板を水平
方向に搬送する基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の基板搬送装置として、例
えば、基板を支持する基板支持台と、この基板支持台の
下面に配設されたリニアガイドなどの摺動部と摺動し、
基板支持台を水平方向に案内するガイドレールと、基板
支持台の下面に配設された係合部と係合してガイドレー
ルに沿って基板支持台を移動する移動機構とを備えてい
る基板搬送装置が挙げられる。
【0003】上記の移動機構は、一般的に、モータと、
このモータの回転軸に連動連結されたボールネジとによ
って構成されている。そして、基板を移動する際には、
モータを回転駆動し、これにより係合部がボールネジに
沿って移動する。この係合部の移動とともに基板を支持
した基板支持台が移動し、その下面に配設された摺動部
がガイドレールに摺動しつつ移動し、基板が水平方向に
移動するようになっている。
【0004】このような基板搬送装置は、例えば、基板
に熱処理を施す熱処理装置や、基板に塗布被膜を形成す
る塗布装置や、所定パターンが露光された被膜を現像す
るための現像装置などを含み、基板を所定の順序で搬送
して一連の処理を施すプロセス装置において利用されて
いる。つまり、各処理装置間の間で基板を搬送するため
に利用されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、基板を移動する際には、係合部におい
てボールネジとの摺動が生じ、さらに摺動部においてガ
イドレールとの摺動が生じるので、これらの部分からパ
ーティクルが発生する。
【0006】通常、基板搬送装置を含むプロセス装置
は、クリーンルーム内に配置されている関係上、清浄な
ダウンフローが上方から常に供給されているので、発生
したパーティクルは基板支持部に支持された基板にまで
到達することなく、ダウンフローにより下方に流される
ようになっている。しかし、基板搬送装置の水平方向の
移動は、その移動距離が長いこともあって移動速度が速
く、発生したパーティクルが下方に流されずに上方に巻
き上げられる場合がある。このようにパーティクルが巻
き上げられると、基板支持台に支持されている基板にパ
ーティクルが到達し、基板が汚染されるという不都合が
生じる。
【0007】また、最近は、クリーンルームにおける省
エネルギーの観点からダウンフローの流速を弱める傾向
があるので、パーティクルをダウンフローに乗せて充分
に下方に流すことができず、上述した不都合が生じやす
くなっている。
【0008】なお、上述した問題を解決するために、摺
動部や係合部に塗布しているグリースの材料を変更する
ことや、装置内にダウンフローを発生させるために下方
から排気する機構を設けるか、装置の上部にフィルタお
よびファンを設けることも行われている。しかし、係る
手法によると、それらの取り付けに時間がかかったり、
装置コストが上昇するだけでなく、それらのメンテナン
スが煩雑になるという別異の問題が生じる。
【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、パーティクルが発生する部分を仕切部
材によって仕切ることによって、発生したパーティクル
による基板の汚染を防止することができる基板搬送装置
を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の基板搬送装置は、基板を支持する
基板支持台と、前記基板支持台の下面に配設された摺動
部と摺動し、前記基板支持台を水平方向に案内する案内
部材と、前記基板支持台の下面に配設された係合部と係
合して前記案内部材に沿って前記基板支持台を移動する
移動手段とを備えている基板搬送装置において、前記基
板支持台の移動方向にあたる両側面に仕切部材を配設
し、前記摺動部および前記係合部を移動方向からみて仕
切るようにしたことを特徴とするものである。
【0011】また、請求項2に記載の基板搬送装置は、
請求項1に記載の基板搬送装置において、前記仕切部材
は、パーティクルを捕獲する捕獲部材であることを特徴
とするものである。
【0012】
【作用】請求項1に記載の発明の作用は、次のとおりで
ある。基板支持台は、移動手段によって案内部材に沿っ
て水平方向に移動される。このとき基板支持台の下面に
配設された係合部および摺動部では、摺動に起因してパ
ーティクルが発生する。発生したパーティクルは、基板
支持台の移動に伴ってその移動方向から流出する場合が
あるが、その移動方向にあたる両側面に仕切部材が配設
されているので、それが阻止される。したがって、発生
したパーティクルは、基板支持台の下面と仕切部材とに
よって封じ込められて行き場を失い、下方に落下するこ
とになる。したがって、パーティクルが巻き上げられて
基板に付着することを防止できる。
【0013】また、請求項2に記載の発明によれば、発
生したパーティクルは、捕獲部材によって捕獲されるの
で、基板支持台の下方に落下したり巻き上げられること
を防止することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図1は基板搬送装置の概略構成を示
す斜視図であり、図2はその分解斜視図である。
【0015】図中、符号1は、基板Wを支持するための
基板支持部である。この基板支持部1は、角形の支柱2
とこの支柱2の上部に配設されて、図中に二点鎖線矢印
で示すように水平面内で旋回可能に構成されている旋回
部3とを備えている。旋回部3は、上下方向に積層され
た2本の支持アーム3a,3bを配備している。各支持
アーム3a,3bは、それぞれの長手方向に進退自在
(図中の二点鎖線矢印)であって、円形状の先端部でそ
れぞれ基板Wを支持するようになっている。基板支持部
1は、その支柱2がスライダ5の開口5aに緩挿され、
かつ、図示しない昇降機構によって昇降可能に取り付け
られている。なお、上述した基板支持部1およびスライ
ダ5は、本発明における基板支持台に相当する。
【0016】ベース7は、熱処理装置、塗布装置、現像
装置などを備えているプロセス装置において、それらの
間で基板Wを搬送することができるように各装置に沿う
ように配設されるものであって、その上面の長手方向
(水平方向)に沿って2本のガイドレール9a,9bが
並設されている。これらの2本のガイドレール9a,9
bの間には、手前側のガイドレール9aよりにボールネ
ジ11が配設されている。ボールネジ11は、その一端
部(図中の左側)を、ストッパ11aにより軸支されて
ベース7の上面に取り付けられ、その他端部(図中の右
側)を、ストッパ11bにより軸支されてベース7の上
面に取り付けられている。また、ストッパ11b側に
は、ボールネジ11の他端部に回転軸が連動連結された
モータ11cが配設されている。ボールネジ11に係合
するナット13aがブラケット13bに取り付けられ、
これらのナット13aおよびブラケット13bは、係合
部13を構成していてスライダ5の下面に取り付けられ
ている。
【0017】ガイドレール9a,9bには、それぞれ2
個のリニアガイド15が摺動自在に取り付けられてい
る。これらのリニアガイド15は、その上面がスライダ
5の下面に取り付けられ、ガイドレール9a,9bと摺
動してスライダ5とともに移動するようになっている。
なお、ベース7の長手方向の両側面には、図示しないカ
バーが取り付けられており、ガイドレール9a,9bと
リニアガイド15との側面は仕切られている。また、ガ
イドレール9a,9bは本発明における案内部材に相当
するものであり、リニアガイド15は本発明における摺
動部に相当するものである。
【0018】したがって、図示しない制御部を介してモ
ータ11cの回転軸を所定の方向に回転駆動することに
より、ボールネジ11が回転し、ナット13aおよびブ
ラケット13bがボールネジ11に沿って所定の方向に
移動し、これに伴ってスライダ5が水平方向(図1中の
矢印方向)に移動するようになっている。なお、上記の
ボールネジ11およびモータ11cとは、本発明におけ
る移動手段に相当するものである。
【0019】次ぎに、図3ないし図5を参照する。な
お、図3はスライダ5の平面図であり、図4はその側面
図であり、図5はスライダ5に配設した仕切部材の縦断
面図である。
【0020】スライダ5の移動方向にあたる両側面に
は、板状の仕切部材17が取り付けられている。リニア
ガイド15および係合部13は、スライダ5の両側面か
ら一定距離だけ内側に入り込んだ位置に配設されている
ので、それらは移動方向からみると仕切部材17によっ
て仕切られることになる。この仕切部材17は、図5に
示すように、ステンレス鋼板などの剛体で構成された外
側板17aの内側に、パーティクルを付着して捕獲しや
すい特性を有する材料、例えば、スポンジなどの捕獲部
材17bを張り付けて構成されている。また、図4に示
すように仕切部材17には、ガイドレール9a,9bと
の干渉を避けるために、両端部に切り欠き部17cを形
成されており、さらにボールネジ11との干渉を避ける
ためにガイドレール9a側に同様の切り欠き部17dを
形成されている。
【0021】基板支持部1が支持した基板Wを水平方向
に移動するためには、モータ11cの回転軸を所定の方
向に回転駆動する。これによりボールネジ11が回転
し、係合部13がボールネジ11に沿って移動する。こ
の移動に伴ってリニアガイド15がガイドレール9a,
9bに沿って摺動してスライダ5が移動する。したがっ
て、係合部13およびリニアガイド15からは、金属粉
末やグリースなどを含むパーティクルが発生する。この
発生したパーティクルは、通常、クリーンルームのダウ
ンフローによって下方に流され、またはさらに積極的に
排気されるようになっている。ところが、スライダ5の
移動距離および移動速度は、基板支持部1の昇降および
旋回に比較して非常に大きいので、発生したパーティク
ルが巻き上げられて下方に落下しない場合がある。
【0022】しかしながら、上述したようにスライダ5
の移動方向にあたる両側面には、仕切部材17が配設さ
れているので、移動に伴って発生したパーティクルが移
動方向から流出することが阻止される。したがって、発
生したパーティクルは、スライダ5の下面と仕切部材1
7によって封じ込められて行き場を失って下方に落下す
るか、あるいは、スポンジ17bの表面に捕らえられる
ことになる。したがって、移動に伴って発生したパーテ
ィクルが基板支持部1の支持アーム3a,3bに支持さ
れている基板Wにまで到達して付着するといった不都合
を確実に防止することができる。
【0023】また、最近の半導体の生産を行う工場で
は、省エネルギーの観点からクリーンルーム内のダウン
フローの流速を弱める傾向が見られるが、その場合には
当然のことながら発生して巻き上げられたパーティクル
を下方に適切に排気することができず、基板Wが汚染さ
れやすい状況になる。しかし、上述したような仕切部材
17を配設しておくことによって、このようにダウンフ
ローの流速を弱めている場合であっても、パーティクル
による基板Wの汚染を防止することができる。
【0024】さらに、これらに起因する基板Wの汚染を
防止するために、係合部13やリニアガイド15に塗布
するグリースの材質をパーティクルが生じにくいものに
変更することも行われるが、やはり多かれ少なかれグリ
ースからはパーティクルが発生するので、基板Wの汚染
を防止することはできない。また、発生したパーティク
ルを下方から積極的に排気するために、装置内にダウン
フローを発生させる機構を別途設けることも行われる。
具体的には、例えば、装置下方から排気する機構を設け
るか装置の上部にフィルタおよびファンを設ける。しか
し、係る手法によると、それらの取り付けに時間がかか
ったり、装置コストが上昇するだけでなく、それらのメ
ンテナンスが煩雑になるという別異の問題が生じる。そ
の一方、上述したように仕切部材17を配設する場合に
は、コストの上昇を最小限に抑えることができるととも
に、メンテナンスを容易に行うことができる。
【0025】なお、上記の実施例では、仕切部材17
を、剛性を有する外側板17aとスポンジなどの捕獲部
材17bとで構成したが、図6に示すように変形実施す
ることも可能である。
【0026】すなわち、仕切部材17をステンレス鋼板
などの剛性を有する外側板17aのみで構成する。係る
構成によると、発生したパーティクルを外側板17aに
よって封じ込めることができ、パーティクルを下方に落
下させることができる。したがって、パーティクルが移
動方向に流出することを防止することができるので、基
板Wの汚染を防止することができる。
【0027】また、さらに図7に示すように変形実施す
ることも可能である。すなわち、仕切部材17を、スラ
イダ5を移動しても揺らぐことがない程度の固さを有す
るスポンジなどの捕獲部材17bのみで構成する。係る
構成によっても、発生したパーティクルを捕獲部材17
bによって封じ込めて捕獲することができ、パーティク
ルが流出することを防止することができる。したがっ
て、上記の実施例と同様の効果を奏することができる。
【0028】なお、上記の捕獲部材17bとしては、上
述したスポンジに代えてパーティクルを捕獲することが
できるフィルタなどを利用してもよい。
【0029】また、上記の実施例では、スライダ5を移
動する手段を、ボールネジ11およびモータ11cによ
って構成したが、タイミングベルト等のようにスライダ
5を水平方向に移動することができる手段であれば種々
の変形実施が可能である。
【0030】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、仕切部材によってパーティク
ルを基板支持台の下方に封じ込んで下方に落下させるこ
とができるので、発生したパーティクルが巻き上げられ
ることを防止できる。したがって、パーティクルによる
基板の汚染を防止することができる。また、基板支持台
に仕切部材を取り付けるだけであるので、取り付け作業
が極めて容易であり装置コストの上昇を最小限に抑える
ことができるとともに、定期的に実施されるメンテナン
スを非常に容易に行うことができる。
【0031】また、請求項2に記載の発明によれば、発
生したパーティクルを落下させることなく捕獲するの
で、パーティクルが巻き上げられることによる基板汚染
をより確実に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に係る基板搬送装置の概略構成を示す斜
視図である。
【図2】図1の分解斜視図である。
【図3】スライダを示す平面図である。
【図4】スライダの側面図である。
【図5】仕切部材の縦断面図である。
【図6】仕切部材の変形例を示す縦断面図である。
【図7】仕切部材のもう一つの変形例を示す縦断面図で
ある。
【符号の説明】
W … 基板 1 … 基板支持部(基板支持台) 5 … スライダ(基板支持台) 7 … ベース 9a,9b … ガイドレール(案内部材) 11 … ボールネジ(移動手段) 11c … モータ(移動手段) 13 … 係合部 13a … ナット 13b … ブラケット 15 … リニアガイド(摺動部) 17 … 仕切部材 17a … 外側板 17b … 捕獲部材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を支持する基板支持台と、前記基板
    支持台の下面に配設された摺動部と摺動し、前記基板支
    持台を水平方向に案内する案内部材と、前記基板支持台
    の下面に配設された係合部と係合して前記案内部材に沿
    って前記基板支持台を移動する移動手段とを備えている
    基板搬送装置において、 前記基板支持台の移動方向にあたる両側面に仕切部材を
    配設し、前記摺動部および前記係合部を移動方向からみ
    て仕切るようにしたことを特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の基板搬送装置におい
    て、前記仕切部材は、パーティクルを捕獲する捕獲部材
    であることを特徴とする基板搬送装置。
JP22428396A 1996-08-27 1996-08-27 基板搬送装置 Pending JPH1067429A (ja)

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