JPH10261690A - 基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板搬送装置の移動による気流の乱れによっ
て搬送中の基板が汚染されることのない基板搬送装置お
よび基板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板処理装置の搬送領域に配置される搬
送ユニットにカバー部材３０を取り付ける。カバー部材
３０は少なくともアーム２９ａ，２９ｂの周囲を取り囲
む中空円筒のケース本体３１を有し、その上端にファン
３２、フィルタ３３を含む空気調整ユニットが配置され
ている。カバー部材３０内には、ファン３２およびフィ
ルタ３３により清浄な空気の下降流が供給され、アーム
２９ａ、２９ｂに保持される基板が清浄な雰囲気中に保
持されて搬送される。円筒形のケース本体３１により搬
送ユニットの移動時に乱流の発生が抑制され、パーティ
クルの巻き上げによる基板の汚染が防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を保持して搬
送し、処理部との間で基板の受渡しを行う基板搬送装置
およびそれを備えた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用
いられている。例えば、半導体デバイスの製造プロセス
では、生産効率を高めるために一連の処理の各々をユニ
ット化し、複数の処理ユニットを統合した基板処理装置
が用いられている。

【０００３】図９は、従来の基板処理装置の一例を示す
斜視図である。図９の基板処理装置１は、処理領域Ａ，
Ｂおよび搬送領域Ｃを有する。処理領域Ａには、基板に
処理液の塗布処理を行う回転式塗布ユニット（スピンコ
ータ）ＳＣおよび基板に現像処理を行う回転式現像ユニ
ット（スピンデベロッパ）ＳＤが並設されている。ま
た、処理領域Ｂには、基板に加熱処理を行う加熱ユニッ
ト（ホットプレート）ＨＰ、基板に冷却処理を行う冷却
ユニットＣＰおよび基板の密着強化処理を行う密着強化
装置ＡＨが複数段に配置されている。

【０００４】搬送領域Ｃには基板Ｗを搬送する搬送ユニ
ット２が設けられている。搬送ユニット２は、処理領域
Ａと処理領域Ｂとの間に配置され、Ｘ方向に移動可能に
形成されている。搬送ユニット２は、基板Ｗを保持する
一対のアーム４ａ，４ｂおよびアーム４ａ，４ｂを進退
移動させるアーム駆動部３とを含んでいる。

【０００５】処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃの一端部
側には、基板Ｗを収納するカセット６を支持するととも
に基板Ｗの搬入および搬出を行う搬入搬出装置（インデ
クサ）ＩＮＤおよび基板Ｗの搬入および搬出を行う移載
ロボット７を備える。

【０００６】搬入搬出装置ＩＮＤの移載ロボット７は、
Ｙ方向に往復移動し、カセット６から基板Ｗを取り出し
て搬送ユニット２に渡し、一連の処理が施された基板Ｗ
を搬送ユニット２から受け取ってカセット６内に戻す。

【０００７】搬送ユニット２は、移載ロボット７から受
け取った基板Ｗを保持してＸ方向に延びる搬送路を往復
移動し、基板Ｗを所定の処理部に搬入するとともに、処
理済の基板Ｗを処理部から受け取り、移載ロボット７に
渡す。

【０００８】基板処理装置１においては、雰囲気中のパ
ーティクル（粒子）等による基板Ｗの汚染を防止するた
めに、回転式塗布ユニットＳＣや回転式現像ユニットＳ
Ｄ等の処理ユニット内のみならず、基板Ｗの搬送領域Ｃ
においても、清浄な雰囲気に保つことが要求されてい
る。

【０００９】そこで、基板処理装置の上方に清浄な空気
を供給する空気調整ユニットを配置した基板処理装置が
提案されている。

【００１０】図１０は、このような空気調整ユニットを
有する基板処理装置の模式的斜視図である。また、図１
１は、図１０に示す基板処理装置の主要部の断面図であ
る。図１０および図１１に示す基板処理装置１は、上方
にファン８２およびフィルタ８４を有する空気調整ユニ
ット８を備えている。空気調整ユニット８は、基板処理
装置１の内部を下降した空気流を循環路８１を通して再
び基板処理装置の上方の空気調整ユニット８に循環させ
る循環型の空気調整ユニットである。基板処理装置１の
下方から循環路８１内に吸い込まれた空気はファン８２
により上部空間８３内に供給され、フィルタ８４を通り
パーティクル等の汚染物が除去され、清浄な空気となっ
て基板処理装置１の処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃに
下降し、汚染源を下方に流し去る。これにより、基板処
理装置１内の雰囲気が清浄な状態に保たれる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１０
および図１１に示す基板処理装置１では、基板処理装置
１の上方のほぼ全面にわたって空気調整ユニット８が配
置されている。このため、フィルタ８４が高価な場合に
は、基板処理装置１全体の製造費用が増大し、また維持
費用も高くなる。例えば、化学吸着フィルタは特に高価
であり、化学吸着フィルタを基板処理装置１の上方の全
面に配置すると、基板処理装置１全体の製造コストが非
常に高くなる。

【００１２】また、搬送領域Ｃでは、搬送ユニット２が
基板Ｗを保持して比較的高速で往復移動する。搬送ユニ
ット２は複雑な形状を有している。このため、搬送領域
Ｃに上方の空気調整ユニット８から搬送領域Ｃに向かっ
て空気流が層流状に供給されている場合でも、搬送ユニ
ット２の移動により乱流が生じ、搬送路付近のパーティ
クル等が巻き上げられる。そして、巻き上げられたパー
ティクルによって搬送中の基板Ｗが汚染されるという問
題が生じる。

【００１３】本発明の目的は、基板搬送装置の移動によ
る気流の乱れによって搬送中の基板が汚染されることの
ない基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置を提
供することである。

【００１４】本発明の他の目的は、基板処理装置内の雰
囲気を清浄に保つためのフィルタの設置面積を節約する
ことが可能な基板搬送装置およびそれを備えた基板処理
装置を提供することである。

【００１５】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板搬送装置は、基板を基板保持部に保持し
て搬送するとともに、基板に対して所定の処理を行う処
理部に移動して基板の受け渡しを行う搬送部と、基板保
持部の上方の位置でフィルタを保持するとともに、少な
くとも基板保持部の上方を覆い、搬送部と連動して移動
するカバー部材とを備えたものである。

【００１６】第１の発明に係る基板搬送装置において
は、基板保持部の上方の位置でフィルタを保持するとと
もに、少なくとも基板保持部の上方を覆うカバー部材
が、搬送部と連動して移動するように構成されているの
で、基板保持部上の基板は、フィルタによって汚染物の
除去された高度に清浄な雰囲気の状態に維持されて搬送
される。

【００１７】第２の発明に係る基板搬送装置は、第１の
発明に係る基板搬送装置の構成において、カバー部材
が、上面に開口部を有し、基板保持部の周囲を取り囲む
ように中空に構成され、開口部にフィルタを保持するよ
うにしたものである。

【００１８】第２の発明に係る基板搬送装置において
は、少なくとも基板保持部の周囲がカバー部材に取り囲
まれている。しかも、カバー部材の上面の開口部にフィ
ルタが設けられている。これにより、カバー部材内の雰
囲気が外部と隔離され、清浄な状態に保たれる。したが
って、基板搬送装置が移動した場合でも、カバー部材の
移動による気流の乱れによって巻き上げられたパーティ
クルによって基板が汚染されることが防止される。

【００１９】第３の発明に係る基板搬送装置は、第１ま
たは第２の発明に係る基板搬送装置の構成において、搬
送部が、鉛直方向に移動可能かつ鉛直方向の軸の周りで
回転可能に設けられた第１の移動部を含み、基板保持部
は、処理部に対して進退移動可能に第１の移動部上に設
けられたものである。

【００２０】この場合、搬送部は、適宜鉛直方向に移動
したり鉛直方向に軸の周りで回転したりすることにより
処理部まで移動し、基板保持部が処理部に対して進退移
動を行うことにより、処理部との間で基板の受け渡しを
行う。そして、その場合に、基板保持部上の基板はフィ
ルタによって汚染物の除去された高度に清浄な雰囲気の
状態に維持されて搬送される。また、カバー部材が、上
面に開口部を有するとともに基板保持部の周囲を取り囲
むように中空に構成され、開口部にフィルタを保持する
ように構成された場合は、カバー部材内の雰囲気が外部
と隔離され、基板搬送装置が移動した場合でもカバー部
材の移動による気流の乱れによって巻き上げられたパー
ティクルによって基板が汚染されることが防止される。

【００２１】第４の発明に係る基板搬送装置は、第３の
発明に係る基板搬送装置の構成において、水平面内の所
定方向に移動可能に設けられた第２の移動部をさらに含
み、第１の移動部が第２の移動部上に設けられるように
したものである。

【００２２】この場合、搬送部は、第２の移動部により
水平方向にも移動して、所定の処理部との間で基板の受
け渡しを行うことができる。

【００２３】第５の発明に係る基板搬送装置は、第１〜
第４のいずれかの発明に係る基板搬送装置の構成におい
て、カバー部材内の基板保持部の上方に設けられ、フィ
ルタを通過してカバー部材の内部を下降する気流を生じ
させる送気手段をさらに備えたものである。この場合、
送気手段およびフィルタによりカバー部材内に清浄な空
気の下降流を生じさせることができる。これにより、カ
バー部材内の基板保持部に保持された基板を常に清浄な
雰囲気中に保持することによって、基板搬送時に基板が
汚染されることを防止することができる。

【００２４】第６の発明に係る基板搬送装置は、第１〜
第５のいずれかの発明に係る基板搬送装置の構成におい
て、カバー部材内の基板保持部の上方に設けられた化学
吸着フィルタをさらに備えたものである。この場合、基
板搬送装置の搬送領域にアルカリ成分が浮遊するような
環境下では、化学吸着フィルタがカバー部材内にアルカ
リ成分が侵入することを防止する。このため、例えば化
学増幅型レジストが塗布された基板にアルカリ成分が作
用して化学増幅型レジストの現像パターンを劣化させる
という問題の発生を防止することができる。

【００２５】特に、化学吸着フィルタはカバー部材の上
面にのみ設ければよく、これによって化学吸着フィルタ
の設置面積が減少され、高価な化学吸着フィルタの設置
による設備費および維持費の増大を抑制することができ
る。

【００２６】第７の発明に基板搬送装置は、第３〜第６
のいずれかの発明に係る基板搬送装置の構成において、
カバー部材の下部が、第１の移動部に固定されたもので
ある。この構成によれば、カバー部材が搬送部とともに
移動し、基板を清浄な雰囲気中に保持して搬送すること
ができる。

【００２７】第８の発明に係る基板搬送装置は、第４〜
第６のいずれかの発明に係る基板搬送装置の構成におい
て、カバー部材の下部が、第２の移動部のいずれかに固
定されたものである。この構成により、カバー部材が搬
送部とともに移動し、基板を清浄な雰囲気中に保持して
搬送することができる。

【００２８】第９の発明に係る基板処理装置は、基板に
所定の処理を行う処理部と、処理部に沿って設けられた
搬送領域に配置された基板搬送ユニットとを備え、基板
搬送ユニットが、基板を基板保持部に保持して搬送する
とともに、処理部との間で基板の受渡しを行う搬送部
と、基板保持部の上方の位置でフィルタを保持するとと
もに、少なくとも基板保持部の上方を覆い、搬送部と連
動して移動するカバー部材とを備えたものである。

【００２９】第９の発明に係る基板処理装置において
は、基板搬送ユニットの基板保持部の上方の位置でフィ
ルタを保持するとともに、少なくとも基板保持部の上方
を覆うカバー部材が、搬送部と連動して移動するように
構成されているので、基板保持部上の基板は、フィルタ
によって汚染物の除去された高度に清浄な雰囲気の状態
に維持されて搬送される。そのため、基板搬送時の基板
の汚染を防止することができる。

【００３０】また、基板保持部の上方の位置にフィルタ
を保持したカバー部材が、搬送部と連動して移動するの
で、搬送領域の上方全面にわたってフィルタを配置した
従来の基板処理装置に比べ、フィルタの設置面積が低減
され、それによって基板処理装置の製造費用および維持
費用を低減することができる。

【００３１】第１０の発明に係る基板処理装置は、第６
の発明に係る基板処理装置の構成において、カバー部材
内の基板保持部の上方に設けられ、フィルタを通過して
カバー部材の内部を下降する気流を生じさせる送気手段
をさらに備えたものである。この場合、カバー部材内を
下降する清浄な気流を生じさせることにより、基板を清
浄な雰囲気中に保持して搬送することができる。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例による基板
搬送装置およびそれを備えた基板処理装置について図面
を参照して説明する。ここでは、まず基板処理装置の全
体構成を図９を参照して説明し、その後、基板搬送装置
について説明する。

【００３３】基板処理装置１は、処理領域Ａ，Ｂおよび
搬送領域Ｃを有する。処理領域Ａには、基板に処理液の
塗布処理を行う回転式塗布ユニット（スピンコータ）Ｓ
Ｃおよび基板に現像処理を行う回転式現像ユニット（ス
ピンデベロッパ）ＳＤが並設されている。また、処理領
域Ｂには、基板に加熱処理を行う加熱ユニット（ホット
プレート）ＨＰ、基板に冷却処理を行う冷却ユニットＣ
Ｐおよび基板の密着強化処理を行う密着強化装置ＡＨが
複数段に配されている。

【００３４】搬送領域Ｃには、基板を搬送する搬送ユニ
ット（基板搬送装置）が設けられている。この搬送ユニ
ットの構成については後に詳述する。

【００３５】処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃの一端部
側には、基板Ｗを収納するとともに、基板Ｗの搬入およ
び搬出を行う搬入搬出装置（インデクサ）ＩＮＤが配置
されている。搬入搬出装置ＩＮＤは、基板Ｗを収納する
複数のカセット６および基板Ｗの搬入および搬出を行う
移載ロボット７を備える。移載ロボット７は、Ｙ方向に
往復移動し、カセット６から基板Ｗを取り出して搬送ユ
ニットに渡し、一連の処理が施された基板Ｗを搬送ユニ
ットから受け取ってカセット６に戻す。

【００３６】図１は、第１の実施例による搬送ユニット
１０の構造を示す斜視図である。図１において、Ｘ方向
は搬送ユニット１０の搬送路の長手方向を示し、Ｙ方向
は処理領域Ａ，Ｂの各処理ユニットへの進退方向を示
し、Ｚ方向は鉛直方向を示している。

【００３７】搬送ユニット１０は、基板Ｗを保持する一
対のアーム２９ａ，２９ｂをＸ方向に移動させるＸ方向
移動機構１７、Ｙ方向へ移動させるＹ方向移動機構（図
示せず）、Ｚ方向に移動させるＺ方向移動機構２１およ
び軸Ｒの周りで回動させる回動機構を有している。

【００３８】Ｘ方向移動機構１７は、Ｘ方向に延びる雄
ねじ軸１４、雄ねじ軸１４を回転させるためのモータ１
１、モータ１１の回転を雄ねじ軸１４に伝達するための
プーリ１３，１５およびベルト１６を備える。雄ねじ軸
１４には、Ｘ方向移動台１８の雌ねじ部１９が螺合され
ている。また、雌ねじ部１９にはケーベルベア２０が連
結されている。これにより、モータ１１が回転すると、
雄ねじ軸１４が回転し、これに伴って雌ねじ部１９およ
びＸ方向移動台１８がＸ方向に移動する。

【００３９】Ｚ方向移動機構２１は、Ｘ方向移動台１８
上に取り付けられたモータ２２を有する。モータ２２の
回転軸には雄ねじ２３が連結され、この雄ねじ２３にＺ
方向移動台２１の雌ねじ部２４が螺合されている。Ｚ方
向移動台２６は、鉛直方向に延びる部分と水平方向に延
びる部分とを有する鉤型形状に形成され、鉛直部分の一
方側面がガイド部材２５に沿って摺動する。これによ
り、モータ２２が回転すると、雄ねじ２３が回転し、こ
れに伴ってＺ方向移動台２６がＺ方向に上下移動する。

【００４０】Ｙ方向移動機構は、Ｚ方向移動台２１の水
平面上に配置された移動体２８を有する。移動体２８
は、アーム２９ａ，２９ｂをそれぞれＹ方向に進退移動
させる。

【００４１】さらに、回動機構は、回転軸が移動体２８
に連結されたモータ２７を備える。モータ２７の回動に
より移動体２８がＲ軸の周りで回転移動する。

【００４２】上記の構成において、搬送ユニット１０は
回動機構、Ｙ方向移動機構およびＺ方向移動機構２１の
周囲を取り囲むカバー部材３０を備える。

【００４３】図２〜図４はカバー部材３０が設けられた
搬送ユニットの断面図である。以下、図２〜図４に示す
各形態のカバー部材３０の構造について説明する。

【００４４】図２に示すカバー部材３０は、円筒状のケ
ース本体３１を備える。ケース本体３１は、少なくとも
一対のアーム２９ａ，２９ｂを保持する移動体２８を収
納しうる大きさを有する。ケース本体３１の上端には、
上方から順にファン３２、ＵＬＰＡ（Ultra Low Penetr
ation Air ）フィルタ３３および化学吸着フィルタ３４
からなる空気調整ユニットが配置されている。また、ケ
ース本体３１の下端にはケース本体３１をＺ方向移動台
２６に固定する固定部材３６が取り付けられている。こ
の固定部材３６は複数の孔３７が形成された多孔面３８
を有している。

【００４５】また、ケース本体３１の側面には、一対の
アーム２９ａ，２９ｂの進退移動を可能とする複数の開
口３５ａ，３５ｂが形成されている。アーム２９ａ，２
９ｂは、この開口３５ａ，３５ｂを通り基板Ｗを保持し
て各処理ユニットに基板Ｗを搬入し、また処理済の基板
Ｗを各処理ユニットから受け取る。なお、開口３５ａ，
３５ｂは、移動体２８の回動位置に応じて複数箇所設け
られている。

【００４６】カバー部材３０は、円筒状に形成されてい
る。このため、搬送ユニット１０がＸ方向やＺ方向に高
速で移動した場合でも、周囲の気流はカバー部材３０の
円筒面に沿って滑らかに流れる。したがって、搬送ユニ
ット１０の周囲の気流の乱れが抑制され、搬送ユニット
１０の移動によるパーティクルの巻き上げが防止され
る。

【００４７】また、カバー部材３０の上部に設けた空気
調整ユニットにより外部からのパーティクルの侵入が阻
止され、カバー部材３０内の基板Ｗの周囲の雰囲気が清
浄な状態に保持される。

【００４８】さらに、化学吸着フィルタ３４により、外
部からのアルカリ成分（アンモニア成分）の侵入も防止
される。これにより、化学増幅型レジストが塗布された
基板Ｗの場合には、アンモニア成分による基板上のレジ
スト膜が中和されて現像パターンが劣化することが防止
される。

【００４９】なお、ファン３２から供給された清浄な空
気流はカバー部材３０の下面の多孔面３８から下方へ流
出する。また、ファン３２が駆動している場合には、清
浄な空気流の一部は開口３５ａ，３５ｂを通りカバー部
材３０から外部に僅かに流れ出る。これによって、外部
の空気がカバー部材３０内に流入することが防止され
る。

【００５０】また、開口３５ａ，３５ｂを開閉するシャ
ッタ部材を設けてもよい。この場合には、開口３５ａ，
３５ｂから外部の空気がカバー部材３０内に侵入して基
板Ｗが汚染されることがより完全に防止される。

【００５１】図３の例によるカバー部材３０は、図２の
例によるカバー部材３０に対し、ケース本体３１が移動
体２８に固定されている点が異なる。この場合には、移
動体２８がモータ２７によりＲ軸周りに回転する際に、
カバー部材３０も同時に回転する。したがって、一対の
アーム２９ａ，２９ｂと開口３５との位置の移動が生じ
ない。そのため、開口３５は一箇所設ければよい。な
お、他の部分の構造およびその作用効果については図２
の例と同様である。

【００５２】さらに、図４の例によるカバー部材３０
は、図２の例によるカバー部材３０に対し、ケース本体
３１がＸ方向移動台１８に固定部材３６を介して固定さ
れている点が異なる。これにより、搬送ユニット１０の
ほぼ全体をカバー部材３０内に収納することができる。
なお、この場合には、ケース本体３１の側面の各処理ユ
ニットの基板受渡し位置に対応する部分に複数の開口３
５ａ〜３５ｄを設ける必要がある。なお、この例による
カバー部材３０の他の部分の構成およびその作用効果は
図２の例によるカバー部材３０と同様である。

【００５３】ここで、本実施例において、搬送ユニット
１０が本発明の搬送部および基板搬送ユニットに相当
し、搬送ユニット１０のＸ方向移動機構１７が第２の移
動部に相当し、Ｚ方向移動機構２１、アーム２９ａ，２
９ｂを除くＹ方向移動機構および回動機構が第１の移動
部に相当し、アーム２９ａ，２９ｂが基板保持部に相当
する。また、ファン３２が送気手段に相当する。

【００５４】図５は、第２の実施例による搬送ユニット
の斜視図である。図５において、搬送ユニット４０はＸ
方向移動機構４１、Ｚ方向移動機構４５、回動機構５５
およびアーム移動機構５０を備えている。

【００５５】Ｘ方向移動機構４１は、Ｘ方向に沿って平
行に配置された一対のガイドレール４２と、Ｘ方向に沿
って配置された雄ねじ軸４３と、ベース部材５８の下面
に形成され、かつ雄ねじ軸４３に螺合された係合部材４
４と、ベース部材５８の下面に設けられたモータ（図示
せず）と、モータと係合部材４４とを連結するタイミン
グベルト（図示せず）とから構成されている。ガイドレ
ール４２は搬送路の両端において固定支持されている。
また、ベース部材５８はガイドレール４２上を摺動移動
する。

【００５６】これにより、モータを正逆方向に回転させ
ることによってその回転がタイミングベルトを介して係
合部材４４に伝達され、係合部材４４が回転することで
ベース部材５８がＸ方向に往復移動する。

【００５７】Ｚ方向移動機構４５は、パンタグラフ機構
部４６を有する。ベース部材５８上のモータ４７の回転
軸に接続されたねじシャフト４８はパンタグラフ機構部
４６の下端のリンクの一端に連結される連結部材４９に
接続されている。これにより、モータ４７が正逆方向に
回動すると、ねじシャフト４８に連結された接続部材４
９がＸ方向に移動し、これによってパンタグラフ機構部
４６がＺ方向に伸縮する。パンタグラフ機構部４６の上
端は支持台５６に接続されている。

【００５８】支持台５６上には、アーム基台５７が設け
られており、アーム基台５７を回転させるモータ（図示
せず）により回動機構５５が構成されている。

【００５９】Ｙ方向移動機構は、アーム基台５７および
アーム基台５７上に配置された一対のアーム５１ａ，５
１ｂを有しており、一対のアーム５１ａ，５１ｂはアー
ム基台５７内に設けられた駆動機構（図示せず）により
Ｙ方向（処理ユニット方向）に進退移動する。

【００６０】上記の構成において、搬送ユニット４０
は、回動機構５５、Ｙ方向移動機構およびＺ方向移動機
構４５の周囲を取り囲むカバー部材６０を備える。図６
〜図８はカバー部材６０が設けられた搬送ユニットの断
面図である。以下、図６〜図８に示す各形態のカバー部
材６０の構造について説明する。

【００６１】図６に示すカバー部材６０は、円筒状のケ
ース本体６１を備える。ケース本体６１は、少なくと
も、一対のアーム５１ａ，５１ｂを保持するアーム基台
５７を収納しうる大きさを有する。ケース本体６１の上
端には、上方から順にファン６２、ＵＬＰＡ（Ultra Lo
w Penetration Air ）フィルタ６３および化学吸着フィ
ルタ６４からなる空気調整ユニットが配置されている。
また、ケース本体６１の下端にはケース本体６１をＺ方
向移動台５６に固定する固定部材６７が取り付けられて
いる。この固定部材６７は複数の孔が形成された多孔面
（図示せず）を有している。

【００６２】また、ケース本体６１の側面には、一対の
アーム５１ａ，５１ｂの進退移動を可能とする開口６５
ａ，６５ｂが形成されている。アーム５１ａ，５１ｂ
は、この開口６５ａ，６５ｂを通り各処理ユニットに基
板Ｗを搬入し、また処理済の基板Ｗを処理ユニットから
受け取る。

【００６３】カバー部材６０は、円筒状に形成されてい
る。このため、搬送ユニット６０がＸ方向やＺ方向に高
速で移動した場合でも、周囲の空気はカバー部材６０の
円筒面に沿って滑らかに流れる。このため、搬送ユニッ
ト６０の周囲の気流の乱れが抑制され、搬送ユニット６
０の移動によるパーティクルの巻き上げが抑制される。

【００６４】また、カバー部材６０の上部に設けた空気
調整ユニットにより外部からのパーティクルの侵入が阻
止され、カバー部材６０内の基板Ｗの周囲の雰囲気は清
浄な状態に保持される。

【００６５】さらに、化学吸着フィルタ６４は、外部か
らのアンモニア成分の侵入を防止する。これにより、化
学増幅型レジストが塗布された基板Ｗの場合には、アン
モニア成分による基板上のレジスト膜が中和されて現像
パターンが劣化することが防止される。

【００６６】また、ファン６２から供給された清浄な空
気流はカバー部材６０の下面の多孔面から下方へ流出す
る。しかも、ファン６２が駆動している場合には、清浄
な空気流の一部は開口６５ａ，６５ｂを通りカバー部材
６０内から外部に僅かに流れ出る。これによって、外部
の空気の流入が防止される。

【００６７】さらに、開口６５ａ，６５ｂを開閉するシ
ャッタ部材を設けてもよい。この場合には、開口６５
ａ，６５ｂから外部の雰囲気がカバー部材６０内に侵入
して基板Ｗを汚染することをより完全に防止することが
できる。

【００６８】図７の例によるカバー部材６０は、図６の
例によるカバー部材６０に対し、ケース本体６１がアー
ム基台５７に固定されている点が異なる。この場合に
は、アーム基台５７がモータによりＲ軸周りに回転する
際にカバー部材６０も同時に回転する。したがって、一
対のアーム５１ａ，５１ｂと開口６５との位置の移動が
生じない。そのため、開口６５は一箇所設ければよい。
なお、他の部分の構造およびその作用効果については図
２の例と同様である。

【００６９】さらに、図８の例によるカバー部材６０
は、図６の例によるカバー部材６０に対し、ケース本体
６１がベース部材５８に固定部材６７を介して固定され
ている点が異なる。この場合には、搬送ユニット６０の
ほぼ全体をカバー部材６０内に収納することができる。
なお、この場合には、ケース本体６１の側面に、各処理
ユニットの基板受渡し位置に対応する部分に複数の開口
６５ａ〜６５ｄを設ける必要がある。

【００７０】また、この例によるカバー部材６０の他の
部分の構成およびその作用効果は図６の例によるカバー
部材６０と同様である。

【００７１】ここで、本実施例において、搬送ユニット
６０が本発明の搬送部および基板搬送ユニットに相当
し、Ｘ方向移動機構４１が第２の移動部に相当し、Ｚ方
向移動機構４５、一対のアーム５１ａ，５１ｂを除くＹ
方向移動機構および回動機構５５が第１の移動部に相当
し、一対のアーム５１ａ，５１ｂが基板保持部に相当す
る。さらに、ファン６２が送気手段に相当する。

【００７２】このように、第１および第２の実施例によ
る搬送ユニットにカバー部材６０を設け、その上端に空
気調整ユニットを設けることにより、基板処理装置の搬
送領域の上方の全面にわたって空気調整ユニットを設け
る必要がなくなる。このため、空気調整ユニットを設置
する領域が少なくて済み、それによって基板処理装置の
コストの低減が図れ、かつ維持費用も低減することがで
きる。

【００７３】なお、上記第１および第２の実施例のよう
に、カバー部材３０，６０の上部には、フィルタ３３，
６３とともに、ファン３２，６２および化学吸着フィル
タ３４，６４を備えることが好ましい。しかし、特に化
学吸着フィルタを必要としない処理雰囲気においては化
学吸着フィルタ３４，６４を省略してもよい。また、基
板処理装置が配置されるクリーンルーム内の下降流（ダ
ウンフロー）によりカバー部材３０，６０内に清浄な空
気の下降流が形成しうる場合には、ファン３２，６２を
省略してもよい。

【００７４】また、カバー部材３０，６０の外形は円筒
形に限らず、気流の乱れが少ない他の形状、例えば楕円
筒形であってもよい。

【００７５】さらに、カバー部材３０，６０を備える搬
送ユニットは図１および図５に示すものに限定されるも
のではなく、基板Ｗを保持ｄて搬送する他の形式の搬送
ユニットであってもよい。

【００７６】また、上記実施例においては、基板保持部
２１ａ，２１ｂ，５１ａ，５１ｂの周囲をカバー部材３
０，６０で取り囲むように構成した例を示したが、それ
に限られるものではなく、例えば基板保持部材の周囲が
開放された構造のカバー部材を用いてもよい。すなわ
ち、カバー部材は基板保持部の上方の位置でフィルタを
保持しうる構造を有すればよく、これにより基板保持部
で保持される基板が清浄な状態に保たれて搬送されると
いう効果を得ることができる。

【００７７】また、上記実施例においては、搬送ユニッ
ト１０，４０がＸ方向にも移動して基板を各処理部まで
移動する例を説明したが、これに限られるものではな
く、本発明は、例えば、搬送ユニットの周囲を複数の処
理部により取り囲んだ配置の基板処理装置において、そ
の搬送ユニットが、Ｘ方向の移動を行わずにＺ方向（鉛
直方向）と鉛直軸の周りの回転方向との移動のみにより
各処理部まで移動するような構成を有する場合にも適用
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例による搬送ユニットの斜
視図である。

【図２】第１の例によるカバー部材を備えた搬送ユニッ
トの断面図である。

【図３】第２の例によるカバー部材を備えた搬送ユニッ
トの断面図である。

【図４】第３の例によるカバー部材を備え搬送ユニット
の断面図である。

【図５】本発明の第２の実施例による搬送ユニットの斜
視図である。

【図６】第１の例によるカバー部材を備えた図５の搬送
ユニットの断面図である。

【図７】第２の例によるカバー部材を備えた図５の搬送
ユニットの断面図である。

【図８】第３の例によるカバー部材を備えた図５の搬送
ユニットの断面図である。

【図９】従来の基板処理装置の斜視図である。

【図１０】空気調整ユニットを備えた従来の基板処理装
置の模式的斜視図である。

【図１１】図１０の基板処理装置の主要部の断面図であ
る。

【符号の説明】

１０，４０ 搬送ユニット ３０，６０ カバー部材 ３１，６１ ケース本体 ３２，６２ ファン ３３，６３ フィルタ ３４，６４ 化学吸着フィルタ ３５ａ〜３５ｄ，６５ａ〜６５ｄ 開口 ２９ａ，２９ｂ，４７ａ，４７ｂ アーム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今西 保夫 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 辻 雅夫 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 岩見 優樹 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 讓一 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を基板保持部に保持して搬送すると
   ともに、基板に対して所定の処理を行う処理部に移動し
   て前記基板の受渡しを行う搬送部と、 前記基板保持部の上方の位置でフィルタを保持するとと
   もに、少なくとも前記基板保持部の上方を覆い、前記搬
   送部と連動して移動するカバー部材とを備えたことを特
   徴とする基板搬送装置。
2. 【請求項２】 前記カバー部材は、 上面に開口部を有し、前記基板保持部の周囲を取り囲む
   ように中空に構成され、前記開口部にフィルタを保持し
   たものであることを特徴とする請求項１記載の基板搬送
   装置。
3. 【請求項３】 前記搬送部は、 鉛直方向に移動可能かつ鉛直方向の軸の周りで回転可能
   に設けられた第１の移動部を含み、 前記基板保持部は、前記処理部に対して進退移動可能に
   前記第１の移動部上に設けられたことを特徴とする請求
   項１または２記載の基板搬送装置。
4. 【請求項４】 前記搬送部は、 水平面内の所定の方向に移動可能に設けられた第２の移
   動部をさらに含み、 前記第１の移動部は、前記第２の移動部上に設けられた
   ことを特徴とする請求項３記載の基板搬送装置。
5. 【請求項５】 前記カバー部材内の前記基板保持部の上
   方に設けられ、前記フィルタを通過して前記カバー部材
   の内部を下降する気流を生じさせる送気手段をさらに備
   えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の
   基板搬送装置。
6. 【請求項６】 前記カバー部材内の前記基板保持部の上
   方に設けられた化学吸着フィルタをさらに備えたことを
   特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板搬送装
   置。
7. 【請求項７】 前記カバー部材の下部が、前記第１の移
   動部に固定されたことを特徴とする請求項３〜６のいず
   れかに記載の基板搬送装置。
8. 【請求項８】 前記カバー部材の下部が、前記第２の移
   動部に固定されたことを特徴とする請求項４〜６のいず
   れかに記載の基板搬送装置。
9. 【請求項９】 基板に所定の処理を行う処理部と、 前記処理部に沿って設けられた搬送領域に配置された基
   板搬送ユニットとを備え、 前記基板搬送ユニットは、 基板を基板保持部に保持して搬送するとともに、処理部
   との間で基板の受渡しを行う搬送部と、 前記基板保持部の上方の位置でフィルタを保持するとと
   もに、少なくとも前記基板保持部の上方を覆い、前記搬
   送部と連動して移動するカバー部材とを備えたことを特
   徴とする基板処理装置。
10. 【請求項１０】 前記カバー部材内の前記基板保持部の
    上方に設けられ、前記フィルタを通過して前記カバー部
    材の内部を下降する気流を生じさせる送気手段をさらに
    備えたことを特徴とする請求項９記載の基板処理装置。