KR930009889A - 기판을 이송하기 위한 장치 - Google Patents

기판을 이송하기 위한 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR930009889A
KR930009889A KR1019920019185A KR920019185A KR930009889A KR 930009889 A KR930009889 A KR 930009889A KR 1019920019185 A KR1019920019185 A KR 1019920019185A KR 920019185 A KR920019185 A KR 920019185A KR 930009889 A KR930009889 A KR 930009889A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
frame
substrate
substrate holders
supported
holders
Prior art date
Application number
KR1019920019185A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100228809B1 (ko
Inventor
말러 페터
울프 한스
Original Assignee
페터 좀머캄프, 에리히 투테
레이볼드 앗크티엔게젤샤프트
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 페터 좀머캄프, 에리히 투테, 레이볼드 앗크티엔게젤샤프트 filed Critical 페터 좀머캄프, 에리히 투테
Publication of KR930009889A publication Critical patent/KR930009889A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100228809B1 publication Critical patent/KR100228809B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00—Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02—Controlled or contamination-free environments or clean space conditions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Abstract

다수의 스테이션, 가열장치 및 수직위치로 예정된 이송로를 따라 스테이션을 통해 이동될 수 있는, 대략 판형의 편평한, 평행 육면체 구조의 기판홀더를 구비한 진공처리 시스텍내에서 그리고 이 전공 시스템을 통해 기판(23, 23 ,....)을 이송하기 위한 장치.
여기서, 중실의 하부(6)에는 진공 챔버내에서의지지 및 안내를 위한 장치가 형성된 상부(7)가 배열되며, 처리될 기판(23, 23 ,....)은 기판홀더(14, 15)에 의해 상기 프레임에 지지되고, 프레임에 대한 기판홀더(14, 15)의 상기 지지는 움질일 수 있도록 구현되며, 기판홀더(14, 15)와 프레임사이의 상대운동, 예컨대, 가열에 의한 길이 변동을 가능하게 한다.

Description

기판을 이송하기 위한 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 2개의 마주놓인 분무원 사이에 삽입된 기판을 가진 기판홀더의 단면도, 제2도는 제1도의 기판홀더의 측면도, 제3도는 제2도의 선 X-X을 따라 자른 기판홀더의 단면도, 제4도는 휠/레일 장치를 가진 기판홀더의 단면도.

Claims (12)

  1. 다수의 스테이션, 가열장치 및 수직위치로 예정된 이송로를 따라 스테이션을 통해 이동될 수 있는, 대략 판형의, 편평한, 평행 육면체 구조의 기판홀더를 구비한 진공 처리 시스템내에서 그리고 이 시스템을 통해 기판을 이송하기 위한 장치에 있어서, 중실의 하부(6)에는 예컨대, 레일(28) 및 수직레그(29)와 상호 작용하는 2개의 휠 세트(30, 30′ , ..., 31, 31′ , ...)로 이루어진, 진공챔버내에서의지지 및 안내를 위한 장치가 설치되고, 상기 하부(6)위에는 가는 줄세공의, 편평한 프레임으로 형성된 상부(7)가 제공되며, 처리될 기판(23, 23′ , ...)은 기판홀더(14, 15)에 의해 상기 프레임에 지지되고, 프레임에 대한 기판홀더(14, 15)의 상기 지지는 움질일 수 있도록 구현되며 가열에 의한 상대운도, 예컨대 길이 변동을 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 기판을 이송하기 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서, 하부(6)는 일체로 그리고 평행 육면체형상으로 구현되는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 하부(6)는 휠/레일 장치에 의해 지지되고 안내되는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상부(7)가 하부(6)와 견고히 접속된 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상부(7)는 다수의 수직 지지대(8, 8′ , 9, 9′ ) 및 수평 지지대(10, 11)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 프레임의 수직 지지대(8, 8 ′, 9, 9′ ) 및 수평지지대(10, 11)는 적어도 하나의 연결대에 서로 움직일 수 있도록 구현되며 서로 상대운동, 예컨대 열에 의한 길이 변동을 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제1항에 있어서, 기판홀더(14, 15)는 기판홀더(14, 15)상단에 설치된 하부로 개방된 후크(12, 12′ , 13, 13′ )에 의해 프레임의 지지대(10, 11)에 지지되는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제1항에 있어서, 각 2개의 기판홀더(14, 15)는 서로 반사대칭으로 배열되는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제8항에 있어서, 하부(6)상에 있는 2개의 기판홀더(14, 15)사이에는 좁은, 중공의 평행육면체의, 상부로 개방된 사이 공간(24)이 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제9항에 있어서, 진공챔버의 커버에 지지된 가열수단(25)이 상부로부터 사이공간(24)내로 삽입되는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제1항에 있어서, 상부(7)의 수직 지지대(8,8′, 9,9′ )의 외부면에는 차페판(27, 27′ ...)이 형성되고, 상기 차페판은 기판(23, 23′ ,...)의 주요 연장방향으로 뻗어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 2개의 인접한 지지프레임(5, 5′ )의 차폐판(27, 27 ′,...)이 간격없이 중첩되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019920019185A 1991-11-30 1992-10-19 기판을 이송하기 위한 장치 KR100228809B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4139549A DE4139549A1 (de) 1991-11-30 1991-11-30 Vorrichtung fuer den transport von substraten
DEP4139549.2 1991-11-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930009889A true KR930009889A (ko) 1993-06-21
KR100228809B1 KR100228809B1 (ko) 1999-11-01

Family

ID=6445988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920019185A KR100228809B1 (ko) 1991-11-30 1992-10-19 기판을 이송하기 위한 장치

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP0544995B1 (ko)
JP (1) JP2543300B2 (ko)
KR (1) KR100228809B1 (ko)
CN (1) CN1040524C (ko)
DE (2) DE4139549A1 (ko)
HK (1) HK54096A (ko)
TW (1) TW206198B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101011617B1 (ko) * 2008-09-26 2011-01-27 임태용 투수성 생태 호안 블럭 및 제조 방법

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH691680A5 (de) * 1996-10-15 2001-09-14 Unaxis Deutschland Gmbh Transportvorrichtung für Werkstücke in einer Vakuumanlage.
US6264804B1 (en) 2000-04-12 2001-07-24 Ske Technology Corp. System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system
DE10261362B8 (de) * 2002-12-30 2008-08-28 Osram Opto Semiconductors Gmbh Substrat-Halter
KR100639004B1 (ko) * 2005-01-05 2006-10-26 삼성에스디아이 주식회사 트레이의 감지 및 이송장치
KR101165466B1 (ko) * 2005-08-31 2012-07-13 엘지디스플레이 주식회사 캐리어 및 이를 구비한 공정 장치
DE102005045718B4 (de) 2005-09-24 2009-06-25 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Träger für ein Substrat
ATE514802T1 (de) * 2006-03-29 2011-07-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vakuumtransportvorrichtung mit beweglicher führungsschiene
CN1970830B (zh) * 2006-11-30 2010-11-17 北京实力源科技开发有限责任公司 一种柔性输送装置及使用该装置的真空镀膜设备
DE102007052524B4 (de) 2007-11-01 2012-05-31 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Transportmittel und Vakuumbeschichtungsanlage für Substrate unterschiedlicher Größe
DE102008015982B3 (de) 2008-03-27 2009-07-30 Grenzebach Maschinenbau Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Fixierung und den Weitertransport stoßempfindlicher Platten in Sputter-Beschichtungsanlagen, Computerprogramm zur Durchführung des Verfahrens und maschinenlesbarer Träger hierzu
DE102009038369B4 (de) 2009-08-24 2012-05-24 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substrathalter für scheiben-oder plattenförmige Substrate und Vakuumbehandlungsanlage mit einer vertikalen Substrattransporteinrichtung
KR20120120296A (ko) * 2010-01-14 2012-11-01 오리콘 솔라 아게, 트루바흐 진공 챔버 내에 반응기를 고정하기 위한 장착 장치
DE102010054483A1 (de) * 2010-12-14 2012-06-14 Manz Automation Ag Mobile, transportable elektrostatische Substrathalteanordnung
DE102012010151A1 (de) * 2012-05-24 2013-11-28 Manz Ag Thermisch optimierter elektrostatischer Substrathalter
US11688589B2 (en) 2013-06-10 2023-06-27 View, Inc. Carrier with vertical grid for supporting substrates in coater
CN105378142B (zh) 2013-06-10 2019-04-19 唯景公司 用于溅射系统的玻璃托盘

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH542772A (de) * 1971-09-21 1973-10-15 Balzers Patent Beteilig Ag Einrichtung zum Transportieren von zu beschichtenden Substraten durch eine Vakuumanlage
US4042128A (en) * 1975-11-26 1977-08-16 Airco, Inc. Substrate transfer apparatus for a vacuum coating system
DE3623970A1 (de) * 1986-07-16 1988-01-28 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Transporteinrichtung mit rollensystemen fuer vakuum-beschichtungsanlagen
KR0133676B1 (ko) * 1987-12-07 1998-04-23 후세 노보루 웨이퍼 이동 교체 장치 및 방법
JP2559617B2 (ja) * 1988-03-24 1996-12-04 キヤノン株式会社 基板処理装置
DD285514A7 (de) * 1988-05-25 1990-12-19 Zi Fuer Festkoerperphysik Und Werkstofforschung Der Adw,Dd Vorrichtung zum beschichten von fadenfoermigen substraten im vakuum
EP0346815A3 (en) * 1988-06-13 1990-12-19 Asahi Glass Company Ltd. Vacuum processing apparatus and transportation system thereof
DE4029905C2 (de) * 1990-09-21 1993-10-28 Leybold Ag Vorrichtung für den Transport von Substraten
DE4036339C2 (de) * 1990-11-15 1993-10-21 Leybold Ag Vorrichtung für den Transport von Substraten

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101011617B1 (ko) * 2008-09-26 2011-01-27 임태용 투수성 생태 호안 블럭 및 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
HK54096A (en) 1996-04-03
CN1073648A (zh) 1993-06-30
JP2543300B2 (ja) 1996-10-16
EP0544995A1 (de) 1993-06-09
CN1040524C (zh) 1998-11-04
JPH05213444A (ja) 1993-08-24
TW206198B (ko) 1993-05-21
KR100228809B1 (ko) 1999-11-01
DE4139549A1 (de) 1993-06-03
EP0544995B1 (de) 1995-10-11
DE59203986D1 (de) 1995-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930009889A (ko) 기판을 이송하기 위한 장치
KR20110033245A (ko) 태양광 모듈의 스트럭처링 장치
JPS57211439A (en) Automatic assembly device
JPH04247869A (ja) 基板を搬送するための装置
JPH04285166A (ja) 基板を搬送するための装置
ATE386684T1 (de) Einheit und verfahren zum transportieren von in einer anzahl von aufeinanderliegenden reihen angeordneten behältern
EP0295235A3 (en) Device for handling spacing frames
CN109786299A (zh) 载台及使用载台的晶圆搬送方法及加工装置
KR830006798A (ko) 패널과 샤도우마스크의 반송장치
DE59002425D1 (de) C- Förderer.
KR880002449A (ko) 제과장치
ES8205461A1 (es) Horno de paredes calefactoras intercambiables para el tra- tamiento termico de hojas de vidrio
FI833673A0 (fi) Anordning foer foerspaenning av en glasskiva
KR930002537A (ko) 기판 이송장치
KR870009954A (ko) 절곡용의 유리판 이송 방법 및 장치
ES2017014B3 (es) Dispositivo para transportar y llenar marcos distanciadores de vidrio aislante.
ATE238854T1 (de) Hitzeschilder
DE3863047D1 (de) Vorrichtung zum anwaermen des randbereiches von glastafeln.
ES2032264A6 (es) Armazon para sostener platos con viandas.
KR830006799A (ko) 칼러 브라운관 형광면의 제조방법
IS1463B6 (is) Endurbætur á tækni til að mynda trefjaflóka
ATE59697T1 (de) Tragestruktur fuer isolationsmaterial, insbesondere fuer die thermische isolation von heissen und grossen flaechen.
TH17668A (th) ชิ้นส่วนรองรับสำหรับติดตั้งอุปกรณ์ลำเลียง
DE69104463D1 (de) Raum zum aufgehen von Teig, welcher eine Förderanlage und damit verknüpfte Träger aufweist.

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee