DD285514A7

DD285514A7 - Vorrichtung zum beschichten von fadenfoermigen substraten im vakuum

Info

Publication number: DD285514A7
Application number: DD31604888A
Authority: DD
Inventors: Dieter Kraut; Veronika Polei; Kurt Richter
Original assignee: Zi Fuer Festkoerperphysik Und Werkstofforschung Der Adw,Dd
Priority date: 1988-05-25
Filing date: 1988-05-25
Publication date: 1990-12-19

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von fadenfoermigen Substraten im Vakuum. Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet des Maschinenbaus und betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von z. B. Anodendraehten. Bei der Erfindung handelt es sich um eine Vorrichtung zum Beschichten von fadenfoermigen Substraten im Vakuum, bei der auf einer Achse im Abstand voneinander zwei Scheiben, die der Halterung der Substrate dienen, befestigt sind und die Achse an einem Ende fest, am anderen Ende drehbar mit je einem Rad verbunden ist, wobei die Laufflaechen der Raeder auf einer zentral angetriebenen Platte liegen, die eine Aussparung fuer einen von der gleichen Antriebsachse bewegten Planeten besitzt, der eine Gabel traegt, die die Achse jeweils zwischen Rad und Scheibe reibungsarm fuehrt. Durch die erfindungsgemaesze Vorrichtung wird es erstmals moeglich, fadenfoermige Substrate ueber die gesamte Oberflaeche gleichmaeszig zu beschichten. Fig. 1{Maschinenbau; Vorrichtung; Beschichten; fadenfoermige Substrate; Vakuum; Anodendraehte; Substrathalterung; Planetenantrieb}

Description

Durch die zentrale Antriebsachse 9 werden die Platte 8 und der Planet 10 in Drehbewegung versetzt, wobei der Planet 10 seine Lage relativ zur Platte 8 beibehält. Damit dreht sich auch die auf dem Planeten 10 befestigte Gabel 11. Diese führt die Achse 5, was wiederum über das mit ihr fest verbundene und auf der Platte 8 ablaufende Rad β eine Drehbewegung der Substrate 2 um die Achse 6 hervorruft. Insgesamt bewirken die einzelnen Bewegungsabläufe, daß die Substrate 2 beim Durchlauf unter der Sputterquelle 1 Drehbewegungen.um die zentrale Antriebsachse 9, um die gedachte Achse 12 und um die Achse 5 ausführen.

Claims

Vorrichtung zum Beschichten von fadenförmigen Substraten im Vakuum, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer Achse (5) im Abstand voneinander zwei Scheiben (3,4), die der Halterung der Substrate (2) dienen, befestigt sind und die Achse (5) an einem Ende fest, am anderen Ende drehbar mit je einem Rad (6,7) verbunden ist, wobei die Laufflächen der Räder (6,7) auf einer zentral angetriebenen Platte (8) liegen, die eine Aussparung für einen von der gleichen Antriebsachse (9) bewegten Planeten (10) besitzt, der eine Gabel (11) trägt, die die Achse (5) jeweils zwischen Rad (6,7) und Scheibe (3,4) reibungsarm führt.

Hierzu 1 Seite Zeichnung

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet des Maschinenbaus und betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von z. B. Anodendrähten.

Charakteristik des bekannten Standes der Technik

Es sind bereits zahlreiche Vorrichtungen zum Beschichten von Substraten im Vakuum beschrieben worden (DD 127088, DD 223171, DE 2813180, DE 3138351). Die bekannten technischen Lösungen betreffen Vorrichtungen, die als bewegliche Substrataufnahmen im Abstand von Materiequellen (Verdampfer, Sputtertargets) in einer Vakuumkammer angeordnet sind. Der von einer Materiequelle beim Beschichtungsvorgang ausgehende Materiestrom hat eine Dichteverteilung, die eine homogene Schichtdicke über Längen bzw. Flächen der Substrate nicht gewährleistet. Für fadenförmige Substrate sind bisher noch keine Vorrichtungen beschriebe."! worden.

Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist es, eine für fadenförmige Substrate geeignete Vorrichtung zum Beschichten dieser Substrate zu entwickeln.

Darlegung des Wesens der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zum Beschichten fadenförmiger Substrate im Vakuum anzugeben, die eine über die gesamte Oberfläche homogene Schichtdicke auf den Substraten gewährleistet. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß bei einer Vorrichtung zum Beschichten fadenförmiger Substrate im Vakuum auf einer Achse im Abstand voneinander zwei Scheiben, die der Halterung der Substrate dienen, befestigt sind und die Achse an einem Ende fest, am anderen Ende drehbar mit je einem Rad verbunden ist, wobei die Laufflächen der Räder auf einer zentral angetriebenen Platte liegen, die eine Aussparung für einen von der gleichen Antriebsachse bewegten Planeten besitzt, der eine Gabel trägt, die die Achse jeweils zwischen Rad und Scheibe reibungsarm führt. Die zentrale Antriebsachse treibt die Platte und den Planeten durch den Materiestrom (1. Bewegung). Hierbei dreht sich der Planet um seine Mittelachse
(2. Bewegung). Durch die Relativbewegung der auf dem Planeten befestigten und die Achse des Substratträgers führenden Gabel einerseits und den auf der zentral angetriebenen Platte laufenden Rädern der Achse andererseits bewegen sich die Substrate um die Achse
(3. Bewegung).

Hierdurch wird erreicht, daß die Substrate den in seiner räumlichen Ausdehnung unterschiedlich dichten Materiestrom so durchlaufen, daß über die gesamte Länge der Substrate eine allseitig gleichmäßig dicke Schicht erzeugt wird. Die Anzahl an Durchläufen der Substrate unter der Sputterquelle bis zur zyklischen Wiederkehr der gleichen Stellung der Substrate zur Sputterquelle kann variiert werden durch die Variation der geometrischen Abmessungen der Vorrichtung. Selbstverständlich ist es, daß die Substrate im Abstand voneinander auf bzw. an den Scheiben befestigt sind, da sonst die Rückseite der Substrate nicht mit beschichtet werden kann.

Ausführungsbeispiel

Die Erfindung ist nachstehend an einem Ausf ührungsboispiel näher erläutert, das sich auf eine Vorrichtung zum Beschichten von fadenförmigen Substraten bezieht. Die zugehörige Zeichnung zeigt einen Querschnitt der Vorrichtung. Innerhalb eines nicht dargestellten Rezipienten befinden sich im Bereich einer Sputterquelle 116 Stück 0,02mm dicke Quarzfäden als Substrate 2. Die Substrat', 2 s>nd zwischen Scheiben 3; 4 im gleichen Abstand voneinander aufgespannt. Die Scheiben 3; 4 haben einen Durchmesser von 18mm und sind fest auf einer Achse 5 im Abstand von 80 mm angeordnet. Die Achse 5 hat an ihren Enden zwei Räder 6; 7, wobei das eine Rad 6 fest und das andere Rad 7 drehbar mit ihr verbunden ist. Beide Räder laufen auf einer Platte 8. Die Platte 8 ist fest mit einer zentralen Antriebsachse 9 verbunden und besitzt eine Aussparung, unter der sich ein Planet 10 befindet, der sich um eine gedachte Achse 12 dreht. Auf diesam Planeten 10 ist eine Gabel 11 befestigt. In der Gabel 11 wird die Achse 5 beiderseits jeweils zwischen Rad 6; 7 und Scheibe 3; 4 reibungsarm geführt. Die Sputterquelle 1 befindet sich außermittig über der Laufbahn der Substrate 2. Ihr Abstand zu den Substraten 2 beträgt 50mm.