DE2029014C3 - Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen von Werkstoffgemischen - Google Patents
Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen von WerkstoffgemischenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen gemäß der Gattung des Patentanspruchs.
Bei einer solchen bekannten, in der CH-PS 4 27 744 offenbarten Vorrichtung ist eine Ringnute zur Aufnah- ίο
me des zu verdampfenden Stoffgemisches vorgesehen, deren Breite der Breite des Elektronenstrahls entspricht
oder aber auch kleiner oder größer als die Strahlbreite sein kann. Da an der Auftreffstelle des Elektronenstrahls
eine praktisch vollständige momentane Ver- ■'< dampfung des dort befindlichen Stoffgemisches angestrebt
ist, soll das Stoffgemisch nur in einer entsprechend
dünnen Schicht aufgetragen sein, die nach ihrer Verdampfung von einer Zugabevorrichtung her ergänzt
werden kann. Im Falle einer die Breite des Elektronen- ■'> Strahls übersteigenden Breite des Bandes der zu
verdampfenden Stoffe soll der Strahl zur Erreichung des gleichen Zieles einer praktisch vollständigen momentanen
Verdampfung periodisch quer zur Vorschubrichtung des Bandes mit entsprechender Frequenz abge- r>r>
lenkt werden. Eine Änderung des abgedampften Gemisches unmittelbar während eines Abdampfungsvorganges ist bei der vorgenannten bekannten Vorrichtung
nicht vorgesehen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die der mi
Gattung des Patentanspruchs entsprechende Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen von Werkstoffgemischen
auf ein Werkstück so zu vervollkommnen, daß die auf das Werkstück aufzubringende Aufdampfschicht auch
während des Aufdampfvorganges in ihrem Mischlings- >> verhältnis zuverlässig reproduzierbar verändert werden
kann.
im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs wiedergegebene Lehre gelöst
Bei einer solchen Ausbildung der Vorrichtung ergibt sich die Zusammensetzung des jeweils aufgedampften
Gemisches aHein schon aus der Steuerung des Elektronenstrahls. Bei zwei oder mehr konzentrischen
Ringnuten, von denen jede mit einem anderen Werkstoff ganz gefüllt ist, ergibt sich eine gleichbleibende
Mischung bei gleichartig abwechselnd beheizten Ringnuten, während unterschiedliche Beheizungszeiten
der einzelnen Ringnuten zu einer entsprechenden Änderung des aufgedampften Werkstoffgemisches
führen.
Im Falle der Anwendung einer einzigen, gegenüber t-jr Breite des Elektronenstrahls breiteren Ringnute mit
durch gekrümmte Trennwände unterteilten Sektoren, die mit unterschiedlichen Werkstoffen gefüllt sind,
ergibt sich die Auswahl des aufgedampften Werkstoffgemisches allein schon durch eine entsprechende
Ausrichtung des Elektronenstrahls auf einen bestimmten Ringbereich innerhalb der radialen Gesamtbreite
der Ringnute. Im übrigen hat die Kreisscheibe eine so große Wärmeträgheit, daß alle zur Abdampfung
herangezogenen Ringnuten selbst bei einer nur periodisch abwechselnden Beheizung auf eine hinreichend
gleichmäßige Temperatur gebracht werden, deren Höhe sodann ein Maß für die abgedampfte
Werkstoffmenge ist Beide alternativ vorgeschlagenen Maßnahmen führen bei einer vorauszusetzenden
gleichmäßigen Rotation der Kreisscheibe zu sehr gleichmäßigen Beschichtungen, wie sie beispielsweise
zur Erzielung guter optischer Filter mit nur molekularen Schichtstärken erforderlich sind.
Die Veränderung der Zusammensetzung eines von einer Vakuum-Aufdampfvorrichtung aufgedampften
Werkstoffgemisches unmittelbar während des Abdampfvorganges ist grundsätzlich bereits durch die
CH-PS 4 52 312 bekannt Die dort vorgesehene Vorrichtung arbeitet statt mk einer Kreisscheibe mit
einem um seine Achse drehbaren zylindrischen Topf, der an seiner zylindrischen Innenwand in einem kleinen
Abstand nebeneinander zwei Ringnuten aufweist, deren eine oberhalb der Oberfläche einer für beide Ringnuten
gemeinsamen Schmelze eines Werkstoffes noch eine Schmelzschicht eines weiteren Werkstoffes aufnehmen
kann. Durch ein ablenkbares Elektronenstrahlenbündel ist indessen nur eine jederzeit gleichmäßige Beheizung
der beiden genannten Ringnuten offenbart, während die Änderung des Mischungsverhältnisses des abgedampften
Werkstoffgemisches allein dadurch erfolgen soll, daß in die Ringnuten während des Abdampfvorganges
durch entsprechend abdichtbare öffnungen der Vakuumkammer abwechselnd unterschiedliche Schmelzstäbe
zugeführt und abgeschmolzen werden sollen.
Durch die US-PS 24 82 329 ist es bereits bekannt,
mehrere zu verdampfende Werkstoffe in voneinander getrennten kreisförmigen Ausnehmungen auf einer
drehbaren Kreisscheibe entlang einem konzentrischen Kreis in gleichmäßigen Abständen verteilt anzuordnen.
Die Kreisscheibe ist schrittweise um jeweils einen Teilungsabstand zwischen den einzelnen Ausnehmungen
drehbar, so daß sich jeweils gerade eine der Ausnehmungen über einer entsprechend punktförmigen,
unter der Kreisscheibe angeordneten Heizquelle befindet.
Durch die DE-PS 8 82 174 ist es weiterhin bekannt,
voneinander getrennte kreisförmige Tiegel entlang einem Kreis gleichmäßig verteilt ortsfest anzuordnen
und ein Elektronenstrahlbündel mittels eines magnetischen
Drehfeldes und einer mit zeitlich verschobenen Wechselströmen gespeisten Plattenanordnung von
einem zum anderen Tiegel so wandern zu lassen, daß dadurch das Mischungsverhältnis der zu verdampfenden
Werkstoffe verändert wird. Die Wärmekapazität der Tiegelinhalte genügt, um über die kurze Zeit, in der
die Oberfläche vom Elektronenstrahl nicht getrocknet wird, noch weiteres Materia! zu verdampfen.
Der Gattung der vorliegenden Erfindung näherkommende
Vorrichtungen zum Vakuumaufdampfen mit einem Drehtisch und einer auf dessen Kreisscheibe
vorgesehenen, ein Werkstoffgemisch aufnehmenden Ringnute sind auch schon durch die DE-PS 8 82 171
bekanntgeworden. Abgesehen davon, daß eine Änderung des abgedampften Werkstoffgemisches während
des Abdampfvorganges auch in dieser Druckschrift nicht angesprochen ist, ist dort auch keine Ablenkung
eines zur Aufheizung des in der Ringnute befindlichen Werkstoffgemisches vorgesehenen Elektronenstrahls
offenbart
Gemäß der FR-PS 13 07 017 ist es schließich im
Zusammenhang mit einem Verfahren zum Herstellen von Metallringen bekanntgeworden, in einer Vakuumkammer
eine mit mehreren konzentrischen Rinnen versehene rotierend antreibbare Scheibe vorzusehen,
deren die angestrebte Ringform aufweisenden Rinnen den zu schmelzenden Werkstoff aufnehmen, während
das Schmelzen des Werkstoffes mittels eines Elektronenstrahls bewerkstelligt wird. Der geschmolzene
Werkstoff soll aber nicht verdampft, sondern im Gegenteil schnell abgekühlt und zur Erstarrung
gebracht werden.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist anhand der Zeichnung nachstehend beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 die Aufdampfvorrichtung in einem schematisch gehaltenen lotrechten Axialschnitt,
Fig.2 eine die zu verdampfenden Werkstoffe
aufnehmende Kreisscheibe der Vorrichtung gemäß F i g. 1 in einer vergrößert dargestellten Draufsicht,
F i g. 3 in gleicher Darstellung eine gegenüber F i g. 2 abgewandelte Kreisscheibe.
Die in den F i g. 1 und 2 dargestellte Aufdampfvorrichtung weist eine Vakuumkammer in Form einer
Glocke 1 auf, die über eine Abdichtung 2 vakuumdicht auf einer Grundplatte 3 aufruht. Die Vakuumkammer ist
über eine Rohrleitung 4 in üblicher Weise an eine Vakuumpumpe 5 angeschlossen.
Innerhalb der Vakuumkammer ist an einem Ständer 6 ein Halter 7 aufgehängt, an dessen Unterseite ein
Werkstück 8 gehalten ist, dessen nach unten gekehrte Oberfläche in nachstehend noch erläuterter Weise mit
einer Mischung aus mehreren verdampften Substanzen in einem während der Bedampfung veränderbaren
Mischungsverhältnis bedampft werden soll. Außerdem ist unter dem Halter 7 auf der Grundplatte 3 ein
Elektronenmotor 9 angeordnet, auf dessen nach oben ragender Abtriebswelle eine Kreisscheibe to festgelegt
ist. Eine an der Oberseite der Kreisscheibe 10 befindliche, verhältnismäßig breite und in ihrer Ausbildung
nachstehend noch erläuterte konzentrische Ringnute 11 dient zur Aufnahme der zu verdampfenden
Werkstoffe.
Die Elektronenquelle besteht aus einem Kalhodenhcizdraht 12, der an einer Randstelle der Kreisscheibe
10 unter dieser gehalten ist. Die vom Kathodenheizdraht ausgesandten Elektronen können mittels einer
elektrisch und magnetisch arbeitenden Ablenkvorrichtung 13 so abgelenkt und beschleunigt werden, daß sie
sich an einer über die radiale Breite beliebig wählbaren Stelle der Ringnute 11 sammeln und den jeweils dort
befindlichen Werkstoff zum Verdampfen bringen können. Auf diese Weise wird jeweils nur ein kleiner
Teil der in der Ringnute 11 befindlichen Werkstoffe verdampft Da die Kreisscheibe 10 jedoch eine im
Verhältnis zur zugeführten Heizenergie große Wärmeträgheit besitzt und vom Elektromotor 9 her rotierend
κι angetrieben wird und sich dabei zugleich relativ zur Beheizungsstelle bewegt, ergibt sich im Verlaufe ihrer
Drehung eine gleichmäßige Beheizung der jeweils ausgewählten schmalen Ringfläche der Ringnute U und
damit eine sehr gleichmäßige Abdampfung der auf
r> dieser Ringfläche befindlichen Werkstoffe und somit
auch eine sehr gleichmäßige Dicke der auf das Werkstück 8 aufgedampften Schicht
Gemäß der in F i g. 2 dargestellten Ausführungsform ist die durch die beiden konzentrischen Zylinderflächen
jo 14 und 15 begrenzte Ringnute 1* durch jeweils kreisbogenfönnig gekrümmte, im wesentlichen aber
etwa radial verlaufende Trennwände 17 in zur Aufnahme je eines unterschiedlichen Werkstoffs bestimmte
Teilräume unterteilt Dabei werden zwischen
2ri den in Umfangsrichtung der Kreisscheibe 10 aufeinanderfolgenden
Teilräumen gleich große Verdampfungsringflächen nur im Bereich der schraffiert angedeuteten
Ringfläche 16 gebildet Liegt die zur Drehachse der Kreisscheibe 10 konzentrische Verdampfungsringfläche
in aber innerhalb oder außerhalb der genannten Ringfläche
16, so ergeben sich in jeweils zwei aufeinanderfolgenden Teilräumen entsprechend den Krümmungen der
Trennwände 17 entsprechend unterschiedlich große Ringsegmentflächen und damit entsprechend unter-
J5 schiedliche Anteile verdampfter Werkstoffe. Die Trennwände
17 können z. B. aus wassergekühlten Metallwänden bestehen.
Wird nun die Ablenkvorrichtung 13 im Sinne einer Änderung des Radius der jeweiligen Verdampfungsstel-
M) Ie auf der Kreisscheibe 10 gesteuert, dann wird mit der
Aufd.-impfvorrichtung das gegenseitige Verhältnis der aufgedampften unterschiedlichen Werkstoffe während
des Aufdampfens verändert.
4~> beschriebenen Ausführungsbeispiel abgewandelte
Kreisscheibe 10 weist zwei konzentrische Ringnuten 18 und 19 unterschiedlicher Breite auf und dient zur
Aufnahme von zwei verschiedenen Werkstoffen in je einer der beiden Ringnuten. Auch in diesem Falle ist
Vi davon ausgegangen, daß die Ablenkvorrichtung der im
übrigen dem ersten Ausf'Jhrungsbeispiel entsprechenden
Heizvorrichtung steuerbar ist, und zwar so, daß wahlweise jeweils eine Stelle der äußeren Ringnute 18
oder der inneren Ringnute 19 über einen einstellbaren
γ, Zeitraum beheizt werden kann. Aufgrund der Wärmeträgheit
der Kreisscheibe wird sich dabei die Verdampfung an einer vorher beheizten Ringsegmentstelle auch
nach Beendigung der Beheizung noch für eine bestimmte Zeit fortsetzen. Durch Umschalten der
mi Ablenkvorrichtung 13 zwischen den beiden Ringnuten
18 und 19 in einem bestimmten Zeitverhältnis läßt sich dann die auf das Werkstück 8 aufgedampfte Mischung
zwischen den beiden unterschiedlichen Werkstoffen auch während des Aufdampfvorganges verändern. Auch
η-, wenn sich durch eine solche Hintereinanderaufdampfung
unterschiedlicher Werkstoffe auf dem Werkstück 8 theoretisch keine genau homogene Mischung der
beiden Substanzen erzielen läßt, so kann durch eine
5 6
entsprechend schnelle Aufeinanderfolge der Umschal- Beheizungszeit der einen und der anderen Ringnute
tungen der Ablenkvorrichtungen 13 doch erreicht verändert werden.
werden, daß die erzielte Mischung der auf das Bei der in F i g. 2 dargestellten Kreisscheibe 10 sind
optischen Anwendungen des bedampften Gegenstandes ■-. als je Teilraum spiegelbildlich zueinander verlaufende
als homogen betrachtet werden kann. Dies gilt auch für Kreisbogenabschnitte ausgebildet, die alle durch die
den Fall, daß die Anteile der verdampften Werkstoffe Drehachse der Kreisscheibe 10 verlaufen,
während des Verdampfens durch Ändern der jeweiligen
während des Verdampfens durch Ändern der jeweiligen
Claims (1)
- Patentanspruch:Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen von Werkstoffgemischen auf ein Werkstück, bestehend aus "» einer an eine Vakuumpumpe angeschlossenen Vakuumkammer, in der das zu bedampfende Werkstück über einer eine konzentrische, Werkstoff aufnehmende Ringnute aufweisenden Kreisscheibe eines Drehtisches angeordnet ist, aus einer Elektro- ι» nenstrahlquelle als Heizvorrichtung zum Beheizen eines Ringnutbereiches während der Drehung der Kreisscheibe gegenüber dem Elektronenstrahl und aus einer Vorrichtung zum Ablenken des Elektronenstrahls radial zur Kreisscheibe, dadurch ι·· gekennzeichnet, daß die Kreisscheibe (10) eine große Wärmeträgheit besitzt und entweder mindestens eine weitere konzentrische Ringnute aufweist, wobei in den Ringnuten unterschiedliche Werkstoffe angeordnet sind, oder bei einer die 2ii radiale Breite des Heizbereiches des Elektronenstrahls übersteigenden Breite einer einzigen Ringnute (11) dieselbe in Sektoren! zur Aufnahme unterschiedlicher Werkstoffe unterteilende gekrümmte Trennwände (17) aufweist, und daß die -'"> Ablenkvorrichtung während des Aufdampfvorganges so steuerbar ist, daß eine vorgegebene Änderung des Mischungsverhältnisses der aus den beiden Ringnuten (18 und 19) bzw. aus den Sektoren der einzigen Ringnute (11) abgedampften Werkstoffe ;< > erfolgt
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE8403/69A SE345881B (de) | 1969-06-13 | 1969-06-13 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2029014A1 DE2029014A1 (de) | 1971-01-07 |
DE2029014B2 DE2029014B2 (de) | 1972-12-07 |
DE2029014C3 true DE2029014C3 (de) | 1979-10-04 |
Family
ID=20273979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2029014A Expired DE2029014C3 (de) | 1969-06-13 | 1970-06-12 | Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen von Werkstoffgemischen |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3695217A (de) |
JP (1) | JPS4947631B1 (de) |
CH (1) | CH553258A (de) |
DE (1) | DE2029014C3 (de) |
FR (1) | FR2052572A5 (de) |
GB (1) | GB1318046A (de) |
SE (1) | SE345881B (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3996469A (en) * | 1975-01-06 | 1976-12-07 | Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. | Floating convection barrier for evaporation source |
US4048462A (en) * | 1975-01-17 | 1977-09-13 | Airco, Inc. | Compact rotary evaporation source |
US4091257A (en) * | 1975-02-24 | 1978-05-23 | General Electric Company | Deep diode devices and method and apparatus |
DE3316554C1 (de) * | 1983-05-06 | 1984-07-12 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Verdampfervorrichtung mit Strahlheizung zum Aufdampfen mehrerer Materialien |
JP2913745B2 (ja) * | 1990-04-10 | 1999-06-28 | 松下電器産業株式会社 | 真空蒸着装置 |
JP2003113466A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-04-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着装置 |
DE102012207159A1 (de) * | 2012-04-30 | 2013-10-31 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten |
-
1969
- 1969-06-13 SE SE8403/69A patent/SE345881B/xx unknown
-
1970
- 1970-06-11 US US45496A patent/US3695217A/en not_active Expired - Lifetime
- 1970-06-11 GB GB2834670A patent/GB1318046A/en not_active Expired
- 1970-06-12 DE DE2029014A patent/DE2029014C3/de not_active Expired
- 1970-06-13 JP JP45051456A patent/JPS4947631B1/ja active Pending
- 1970-06-15 CH CH900970A patent/CH553258A/de not_active IP Right Cessation
- 1970-06-15 FR FR7021879A patent/FR2052572A5/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3695217A (en) | 1972-10-03 |
SE345881B (de) | 1972-06-12 |
DE2029014A1 (de) | 1971-01-07 |
FR2052572A5 (de) | 1971-04-09 |
CH553258A (de) | 1974-08-30 |
JPS4947631B1 (de) | 1974-12-17 |
GB1318046A (en) | 1973-05-23 |
DE2029014B2 (de) | 1972-12-07 |
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---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |