DE3339131A1 - Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens zwei magnetischen ablenksystemen - Google Patents
Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens zwei magnetischen ablenksystemenInfo
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Description
83520
LEYBOLD-HERAEUS GmbH
Bonner Straße 504
Bonner Straße 504
D-5000 Köln - 51
Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens
zwei magnetischen Ablenksystemen "
zwei magnetischen Ablenksystemen "
Die Erfindung betrifft einen Elektronenstrahlverdampfer mit
einem Elektronenstrahlerzeuger, einem ersten magnetischen
Ablenksystem mit parallelen langgestreckten Polplatten
für die lineare Strahlablenkung entlang einer ersten Koordinate., und mit einem zweiten magnetischen Ablenksystem für die Strahlablenkung entlang einer zweiten Koordinate, die zur ersten Koordinate senkrecht stehts sowie mit
einem langgestreckten Verdampfertiegel für die Aufnahme
des zu verdampfenden Materials.
für die lineare Strahlablenkung entlang einer ersten Koordinate., und mit einem zweiten magnetischen Ablenksystem für die Strahlablenkung entlang einer zweiten Koordinate, die zur ersten Koordinate senkrecht stehts sowie mit
einem langgestreckten Verdampfertiegel für die Aufnahme
des zu verdampfenden Materials.
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Elektronenstrahlen.lassen.sich praktisch trägheitslos ablenken, wobei der Auftreffpunkt oder Brennfleck des
Elektronenstrahls auf einer ebenen oder gewölbten Oberfläche definiert bewegt werden kann. Man spricht auch
davon, daß der Elektronenstrahl in einem X-Y-Koordinatensystem bewegt werden kann. Die Bildröhre eines Fernsehgeräts ist eines der markantesten Beispiele für eine
solche Strahlablenkung.
für technische Produktionsprozesse einzusetzen. So ist beispielsweise ein Elektronenstrahlverdampfer, der weitgehend dem gattungsgemäßen Verdampfer entspricht, allerdings einen kreisrunden Verdampfertiegel aufweist, durch
die die DE-AS 20 47 138 bekannt. Durch die gleiche Druck
schrift 1st es aber auch bekannt, daß sich durch die
Strahlablenkung der Fokussierungszustand und damit die Leistungsdichte an der Auftreffstelle des Elektronenstrahls in unerwünschter Weise ändern kann. Die bekannte
Lösung bezweckt eine Kompensation dieses Effekts nur
durch die Verweilzeit, nicht aber durch eine Korrektur
des Ablenkmusters. Da sich Änderungen des Fokussierungszustandes an der Strahlauftreffstelle mit zunehmendem
Abstand vom Tiegelzentrum vergrößern, ist die bekannte Lösung für langgestreckte Verdampfertiegel, d.h. für
solche, bei denen die Länge mindestens 3 mal größer ist als die Breite, nicht mit Erfolg anwendbar.
copy
Durch die DE-OS 28 12 285 ist ein Elektronenstrahlverdampfer
der eingangs beschriebenen Gattung bekannt, bei dem durch das Zusammenwirken zweier magnetischer Ablenksysteme
Elektronenstrahlen in einem bestimmten Linienmuster über die Oberfläche eines langgestreckten Verdampfertiegels geführt
werden können. Um hierbei die gesamte Länge des Verdampfertiegels beheizen zu können, mußten zwei Elektronenstrahlerzeuger vorgesehen werden, die jeweils die Hälfte
des Verdampfertiegels beheizen. Die Substrate befinden
sich hierbei ständig oberhalb des Verdampfertiegels,
wobei sie kontinuierlich gedreht werden. Die Abtastfrequenz der Badoberfläche im Verdampfertiegel spielt
hierbei nur eine verhältnismäßig untergeordnete Rolle,
da bei genügend langer Verweilzeit der Substrate im
Dampfstrom und bei einer Vielzahl von Umdrehungen der
Substrate eine ausreichende Gleichförmigkeit der Beschichtung erzielt werden kann.
Eine weitere Problematik ergibt sich jedoch bei der Beschichtung von Bändern bzw. Folien aus Kunststoff, die
heute bei einer Breite bis zu 1000 mm in einem Durchga-ng beschichtet werden. Um die gesamte Tiegellänge
müteinem einzigen Elektronenstrahl zu überstreichen, ist ein großer Ablenkwinkel erforderlich. Zur Vermeidung
von Schichtdickenschwankungen in Längsrichtung des
laufenden Bandes ist bei vorgegebener Bandgeschwindigkeit die minimale Ablenkfrequenz des Elektronenstrahls festgelegt.
Mit den bekannten Elektronenstrahl Verdampfern läßt sich jedoch keine ausreichend gleichmäßige Schichtdickenver-
teilung quer zur Laufrichtung des Bandes erreichen, weil der Fokussierungszustand des Elektronenstrahls sich bei
einem großen Ablenkwinkel unzulässig ändert. Außerdem unterliegt das Ablenkmuster, m4t dem der Elektronenstrahl
Über die Oberfläche des Verdampfungsgutes (Badspiegel) geführt wird, merklichen Verzerrungen, die
gleichfalls einen schädlichen Einfluß auf die Gleichmäßigkeit der Schichtdickenverteilung quer zur Laufrichtung
des Bandes hat.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen Elektronenstrahlverdampfer der eingangs beschriebenen
Gattung anzugeben; bei dem der Fokussierungszustand auch bei großen Ablenkwinkeln erhalten bleibt, und
bei dem das Ablenkmuster in der Weise korrigiert werden kann, daß die für eine über die gesamte Tiegellänge gleichförmige
Dampfentwicklung notwendige Energieverteilung·
im Verdampfungsgut erzielt werden kann.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs beschriebenen Elektronenstrahlverdampfer erfindungsgemäß
dadurch, daß
a) das zweite magnetische Ablenksystem zwei parallele, nicht-metallische Spulenkerne aufweist, die
parallel zu den Polplatten des ersten Ablenksystems verlaufen und unter diesen angebracht sind,
b) auf jedem Spulenkern eine erste Spule mit gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns und
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c) eine zweite Spule mit zu den beiderseitigen Enden des Spulenkerns zunehmender Windungszahl pro Längeneinheit
des Spulenkerns angeordnet sind.
Es ist dabei besonders vorteilhaft., die zweiten Spulen
als Kegelspulen auszubi1den3 so daß die Anzahl der
Windungen pro Längeneinheit des Spulenkerns, ausgehend von dessen Mitte«, nach beiden Enden hin linear zunimmt.
Das erfindungsgemäße zweite magnetische Ablenksystem ist ein i(orrektursystema durch das Fokussierungszustand und
das Äblenkmuster des Elektronenstrahls in folgender Weise beeinflußt werden kann:
1. Die lineare Auslenkung des Elektronenstrahls kann in der Tiegelebene um den Mittelpunkt der Auslenkungsbewegung
gedreht v/erden. Dadurch läßt sich die Auslenkung parallel zur Tiegellangsachse einjustieren.
2, Die Auslenkung des Elektronenstrahls läßt sich bei
kissen·= oder tonnenförmiger Verzeichnung entzerren
und 1inearisiereno
Der Elektronenstrahl kann senkrecht zur Auslenkung verschoben .werden9 und as ist sogar möglich, der Auslenkung
eine periodische Queroszillation zu überlagern,
die als "Wobbeln" bezeichnet .werden kann. Durch das
Wobbein läßt sich die Energiedichte des Elektronenstrahls reduzierenD die durch eine sogenannte Selbstfokussierung
zu groß werden könnte» Zu große Energiedichten führen zu einem unerwünschten Spritzen während des
Verdampfungsprozesses ο
Weitere vorteilhafte Wirkungen und Variationsmöglichkeiten des Erfindungsgegenstandes werden nachfolgend im Zusammenhang mit den Figuren 7 bis 14 noch näher erläutert.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgegen-Standes sind Gegenstand der übrigen Unteransprüche.
Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes und
seine unterschiedlichen Einsatzmöglichkeiten werden nachfolgend anhand der Figuren 1 bis 14 näher erläutert.
Es zeigen:
des Elektronenstrahlerzeuger mit dem
ersten und zweiten magnetischen Ablenksystem in Blickrichtung "X" gemäß Figur 2,
Horizontalschnitt durch das erste magnetische Ablenksystem für die lineare
zeichneter Ablenkbahn,
parallelen Polplatten in Figur 3,
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9 -
Figur 5 einen Vartikai schnitt durch eine Hälfte
des zweiten magnatischen Ablenksystems
mit einer Linearspule und zwei Kegelspulen a
Figur 6 ©ine Draufsicht auf den Gegenstand nach
Figur S3
Figuren 7 bis 14 verschiedene mögliche Ablenkmuster des
Elektronenstrahls auf dem Badspiegel in einem langgestreckten Verdampfertiegel.
In Figur 1 ist der untere Teil eines herkömmlichen Elektronenstrahlerzeuger
1 dargestellt*, wie er beispielsweise in der DE-PS 12 48 175 beschrieben ist. Arn unteren Ende eines Strahlführungsrohres
2 befindet sich eine Strahlaustrittsöffnung 3. Die geometrische Achse des Systems und damit der Strahlweg
ist durch die strichpunktierte Linie 4 angedeutet. Beiderseits der Strahlaustrittsöffnung 3 befinden sich in spiegelsymmetrischer
Anordnung zwei Polschuhe 5, die nicht Teil des erfindungsgemlßen Ablenksystems, sondern zusätzlich
angeordnet sind« Sie dienen lediglich dazu9 den Elektronenstrahl
um einen Winkel von etwa 25 Grad abzulenken, um beispielsweise den Elektronenstrahlerzeuger 1 seitlich versetzt
über dem Verdampfsrtiegel 6 (Figur 2) anordnen zu
können. Diese Maßnahme dient dazu5 einen etwaigen Dampfeintritt
in das Strahlführungsrohr 2 zu verhindern. Es handelt sich hierbei um eine vorangestellte permanente
Strahlablenkung., die nichtemit der dynamischen Strahlablenkung
zu tun hats um deren Beeinflussung es im vorliegenden
Falle geht«
83520 - 10 -
Unterhalb der Strahlaustrittsöffnung 3 ist ein erstes magnetisches
Ablenksystem 7, mit zwei parallelen langgestreckten Polplatten
8 angeordnet, von denen in Figur 1 nur die Vorderste sichtbar ist. Die beiden Polplatten verlaufen parallel
zur Zeichenebene der Figur 1 und mit symmetrischem Abstand
zu dem bereits durch die Polschuhe 5 abgelenkten Elektronenstrahl. Der Ablenkwinkel ok. , um den der Elektronenstrahl
mittels des ersten Ablenksystems 7 abgelenkt werden kann, ist durch die gestrichelten Linien 9 angedeutet.
Wiederum unterhalb des ersten Ablenksystems 7 befindet sich das zweite magnetische Ablenksystem 10, das zwei in
Figur 1 nicht sichtbare Spulenkerne 11 aufweist, die parallel zu den Polplatten 8 verlaufen und symmetrisch
zu einer mittleren Ebene angeordnet sind, die auch die Symmetrieebene zwischen den beiden Polplatten 8 ist.
In Figur 1 ist nur das vorderste Gehäuse 12 des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 zu sehen. Bezüglich
weiterer Einzelheiten wird auf die Figuren 5 und 6 verwiesen.
In Figur 2 sind gleiche Teile wie in Figur 1 mit gleichen Bezugszeichen versehen. Es ist zu erkennen* daß die
beiden Polplatten 8 parallel zueinander und senkrecht zur Zeichenebene verlaufen und beiderseits symmetrisch
eines mittleren Strahlweges angeordnet sind, der hier durch die dicke strichpunktierte Linie 13 angedeutet ist.
Es ist weiterhin zu erkennen, daß die Gehäuse 12 des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 gleichfalls senkrecht
B3SZ0
zur Zeichenebene verlaufens bzw.» daß ihre Längsachsen
und damit die Längsachsen dar Spulenkerne parallel zu
einer Symmetrieebene verlaufen., die auch die Symmetrieebene der Polplatten 8 ist* In dieser Symmetrieebene
liegt auch die Linie 13»
Am Ende des Strahlweges befindet sich der langgestreckte Verdampfertiegel 6S dessen längste Achse gleichfalls
senkrecht zur Zeichenebene verläuft« Die durch den Verdampfer gelegte Symmetrieebene E=E ist durch eine dünne
strichpunktierte Linie angedeutet.
Der Aufbau des ersten magnetischen Ablenksystems wird anhand der Figuren 3 und 4 näher erläutert:
Die Polplatten 8 besitzen je einen doppelwandigen Mantel 14,
durch den mittels zweier Anschlüsse 16 eine Kühlflüssigkeit (Wasser) geleitet werden kann. Die äußere Oberfläche
eines jeden Mantels entspricht einem flachen Quader; beide Mäntel 14 sind mit einem Gehäuse 15 verbunden. In
den Mänteln 14 sowie im Gehäuse 15 befinden sich drei aus Ferrit bestehende Platten 17 bzw. 18, die zu einem "U"
zusammengefügt sind. Die Platte 18 bildet das Joch der Polplattens auf dem eine zweiteilige Magnetspule 19 angeordnet
ist.
Wird die Magnetspule 19 mit Wechselstrom gespeist, so ergibt
sich zwischen den Polplatten 8 ein wechselndes Magnetfeld entsprechender Frequenz,, Dadurch erfährt der
Elektronenstrahl eine Auslenkung.parallel zu den Polplatten.
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- 12 -
Der Strahlweg ist durch die gestrichelte Linie 20 angedeutet, die im Idealfall in der Symmetrieebene zwischen
den Polplatten liegt. Die mittlere Lage des Elektronenstrahls ist durch einen Kreis 21 angedeutet. Die Zufuhr
des Magnetisierungsstroms erfolgt durch eine Vielfach-Steckverbindung
22, die jedoch von herkömmlicher Beschaffenheit ist und daher hier nicht näher erläutert
wird. Die beiden doppelwandigen Mäntel 14 bestehen aus
"amagnetischem Werkstoff (Chrom-Nickel-Stahl) um einen ungehinderten Durchtritt der Magnetfeldlinien zu ermög-1
ichen.
In den Figuren 5 und 6 ist eine Hälfte des zweiten magnetischen Ablenksystems 1Θ beschrieben. Die nachstehend
noch näher beschriebenen Teile dieses zweiten Ablenksystems sind in dem bereits erwähnten hohlzylindrischen Gehäuse 12 untergebracht, das zum Zwecke
der Durchleitung einer Kühlflüssigkeit gleichfalls doppelwandig ausgebildet ist. Die Anschlüsse 23 sind
nur in Figur 6 gezeigt. Der doppelwandige Mantel des
Gehäuses 12 ist am freien Ende durch eine Platte 24 permanent verschlossen, während ein am jenseitigen
Ende angebrachter Ringflansch 25 mit einem abnehmbaren Deckel 26 verschraubt ist. Zwischen der Platte 24 und
dem Deckel 26 erstreckt sich, formschlüssig gelagert, der Spulenkern 11, auf dem eine erste Spule 27 mit
gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns 11 angeordnet ist. Diese Spule ist zur zeichnerischen
Hervorhebung durch Diagonal kreuze gekennzeichnet. Die
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betreffende Spule kann aueh als Linearspule oder Zylinderspule
bezeichnet werden» Die Gehäuse 12 sind nach innen und außen hermetisch geschlossens d.h. jeder
Durchtritt von Gasens Masser und Wasserdampf oder
anderen Flüssigkeiten ist unterbunden.
Auf dieser ersten Spule 27 ist eine zweite Spule 28 angeordnet,,
dies ausgehend von der Mitte der ersten Spule in Richtung auf die beiderseitigen Enden des
Spulenkerns 11 eine zunehmende Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns aufweist. Im einfachsten
Fall ist die zweite Spule 28 aus zwei Spulenhälften zusammengesetzt die als Kegelspulen ausgebildet sind,
d.h. die Hüllfläche der äußersten Windungen dieser
Spule ist jeweils eine !(egelfläche.
Der Spulenkern 11 bestent aus einem stangen- oder rohrförmigen Isoliermaterial mit Gewebe- oder Papiereinlagen,
Ein derartiges Material ist unter der Bezeichnung "Pertinax" im Handel erhältlich. Es ist wichtig, daß
die Spulenkombination keinen Eisenkern aufweist, um so eine möglichst hohe Grenzfrequenz zu erreichen.
Die erfindungsgemäße Spulenanordnung erzeugt auf ihrer
gesamten Länge im Durchtrittsbereich des Elektronenstrahls je nach der Beaufschlagung mit bestimmten Erregerströmen
ein ganz bestimmtes Streu-Magnetfeld parallel zur Zylinderachse;, dessen Variationsmöglichkeiten
und Wirkungen nachfolgend noch näher erläutert werden. Sowohl die Enden der ersten Spule 27 als auch
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die inneren und äußeren Enden beider Spulenhälften der
zweiten Spule 28 sind zu einer Vielfachsteckverbindung geführt, die jedoch Stand der Technik ist und daher
nicht weiter erläutert wird.
Es ist zu erkennen, daß die Längsachse des Spulenkerns exzentrisch zur Achse A-A des Gehäuses 12 angeordnet
ist. Bei der Montage der beiden zusammen gehörenden Hälften des zweiten Ablenksystems 10 wird dabei so verfahren,
daß die beiden Spulenkerne 11 einander beiderseits des Strahlweges möglichst nahe gegenüber liegen.
Der Abstand der einander am nächsten kommenden Mantellinien der Gehäuse 12 ist durch Strahlbewegung und
-durchmesser vorgegeben.
In den Figuren 7 bis 14 ist jeweils der langgestreckte Verdampfertiegel 6 in der Draufsicht gezeigt, in dem
sich das in der Regel schmelzflüssige Verdampfungsgut
befindet, welches durch den Elektronenstrahl beheizt und zur Verdampfung gebracht werden soll.
In Figur 7 ist durch den eingezeichneten Doppelpfeil ein Ablenkmuster angedeutet, wie es bei Elektronenstrahlkanonen
angestrebt wird. Um ein solches Ablenkmuster zu erhalten, wird die Magnetspule 19 (Figuren 3/4) mit einer
Wechselspannung entsprechender Frequenz angesteuert. Der Auftreffpunkt (Brennfleck) des Elektronenstrahls auf dem
Verdampfungsgut bewegt sich hierbei entlang einer geraden Linie in der zur Zeichenebene senkrecht verlaufenden
Symmetrieebene des Verdampfers.
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Figur 8 zeigt anhand d<ss ausgezogenen mittleren Doppelpfeils
das gleiche Äblenkmuster wie in Figur 1. Werden die beiden ersten Spulen 27 (Linearspulen) mit Gleichspannung
versorgt,, so IMßt sich je nach der Stromrichtung
aine Parallslversehiebung des Ablenkmusters
in Richtung auf einen der gestrichelten Doppelpfeile vornehmen« Dia Gr'öß% dev? Parallel verschiebung hängt
dabei von der Stärke des Erregerstromes ab.
Figur 9 zeigts was mit dem Ablenkmuster nach Figur 7
geschieht;, wenn die ersten Spulen 27 (Linearspulen)
mit einer Wechselspannung beaufschlagt werden, deren Frequenz größer ist als die Ablenkfrequenz für die
Strahlbewegung in Längsrichtung des Verdampfertiegels
Das Äblenkmuster entspricht nunmehr der gestrichelten
Sinusiinie» Ein solcher Äbienkvorgang kann auch als
"MobbeTn" bezeichnet werden»
Figur 10 zeigt0 was mit dem ursprünglichen Ablenkmuster
gemäß Figur 7 geschieht;, wenn die paarweise nebeneinander
liegenden Hälften der zweiten Spulen 28 zu den paarweise nebeneinander liegenden anderen Hälften der zweiten
Spulen 28 gagensinnig von gleichstrom durchflossen werden» Das ursprünglich lineare Äblenkmuster bleibt
linear3 wird jedoch um den Mittelpunkt M des Verdampfertiegels
6 um einen bestimmten Winkel gedreht. Eine solche Maßnahme kann beispielsweise dann sinnvoll sein, wenn
das Äblenkmuster ursprünglich nicht parallel zu einer Längskante des Verdampfertiegels 6 verläuft, zum Zwecke
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einer optimalen Verdampfung jedoch in Parallelrichtung
einjustiert werden soll.
In Figur 11 wird gezeigt, was mit dem ursprünglich geradlinigen Ablenkmuster nach Figur 7 geschieht, wenn die paarweise
nebeneinander liegenden Hälften der zweiten Spulen und die gleichfalls paarweise nebeneinander
liegenden anderen Hälften dieser Spulen gleichsinnig von Gleichstrom durchflossen werden» Bei einer solchen
Maßnahme wird das Ablenkmuster in der Mitte M des Verdampfertiegels
6 in Längsrichtung geknickt. Eine solche Maßnahme kann beispielsweise dann angewendet werden3
wenn das Ablenkmuster ursprünglich nicht wie in Figur 7 gezeigt, einen linearen Verlauf hat, sondern verzerrt
ist. Durch entsprechende Schaltung und Versorgung der· zweiten Spulen 28 läßt sich eine entsprechende Entzerrung
durchführen.
Die Verhältnisse lassen sich noch durch ein entsprechendes Wickelmuster der zweiten Spulen 28 beeinflussen. Figur
zeigt einen Fall, bei dem das ursprüngliche Ablenkmuster
einen gekrümmten Verlauf hat (ausgezogener Doppelpfeil). Durch eine entsprechende Versorgung der zweiten Spulen
analog Figur 11 in Verbindung mit einer entsprechenden Verteilung der Wicklungsdichte pro Längeneinheit der
Spulenkerne läßt sich eine Linearisierung des Ablenkmusters erreichen, wie dies in Figur 12 durch die gestrichelte
Linie dargestellt ist. Auf diese Weise ist eine vollkommene Entzerrung möglich.
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Die vorstehend beschriebenen Beeinflussungsmöglichkeiten
des Äblenkmusters lassen sich sowohl einzeln als auch
in Kombination anwenden, d.h. durch überlagerung der verschiedenen Ablenkmuster läßt sich nahezu jedes Ablenkmuster
auf der OberfVäche des Verdampfungsgutes erzeugen.
In Verbindung mit einer Ansteuerung der Magnetspule 19 durch einen Mikroprozessor läßt sich auch eine Aneinanderreihung
punktförmiger Auftreffstellen des Elektronen-Strahls
gemäß Figur 13 erzeugen, wobei bis zu 32 oder sogar 64 unterschiedliche Auftreffpunkte auf der Oberfläche
des Verdampfungsguts herbeigeführt werden
können. Durch entsprechende Überlagerung von Magnetfeldern durch die ersten Spulen 27 und die zweiten
Spulen 28 lassen sich hinsichtlich der Lage der einzelnen
Punkte wiederum verschiedene Beeinflussungen bzw. Korrekturen
vornehmen. Sowohl die Positionen als auch die Verweilzeiten des Elektronenstrahls in den einzelnen Positionen sind
praktisch frei programmierbar. Dadurch ist eine definierte Energieverteilung, mit der die Schichtdückengleichmäßigkeit
beeinflußt wird, gleichfalls programmierbar.
Figur 14 zeigt eine derartige Möglichkeit, hier können die Magnetspulen 19 des ersten Ablenksystems 7 und die
erste Spule 27 des zweiten Ablenksystems 10 synchron angesteuert werden» Dadurch ist eine zweidimensionale
83520
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Positionsvorgabe des Auftreffpunkts des ElektronenstrahTs
möglich. Jede mögliche Positionskonfiguration ist auf diese Weise erreichbar und ein punktweises Entzerren
einer gemäß Figur 14 ursprünglich verzeichneten Strahlposition ist ohne weiteres möglich.
-49-
- Leerseite -
Claims (5)
- O η Ρ 11ft α C>83520SPRÜCHE:1ο Elektronenstrahlverdampfer rait einem Elektronenstrahl erzeuger., einem ersten magnetischen Ablenksystem mit parallelen langgestreckten Polplatten für die lineare Strahlablenkung entlang einer ersten Ko-Ordinate., und mit einara zweiten magnetischen Ablenksystem für die Strahlablenkung entlang einer zweiten Koordinate, die zur ersten Koordinate senkrecht steht., sowie mit einem langgestreckten Verdampfertiegel für die Aufnahme des zu verdampfenden Materials, dadurch 'gekennzeichnet, daßa) das zweite magnetische Ablenksystem (10) zwei paralleles nicht-matallische Spulenkerne (11) aufweists die parallel zu den Polplatten (8) des ersten Ablenksystems (7) verlaufen und unter diesem angebracht sind«,b) auf jedem Spulenkern (11) eine erste Spule (27) mit gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns undc) eine zweite Spule (28) mit zu den beiderseitigen Enden des Spulenkerns (11) zunehmender Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns angeordnet sind»
- 2. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet;, daß die zweiten Spulen (28) als Kegelspulen ausgebildet sind*i ft *83520
- 3. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 1S dadurch gekennzeichnet, daß die Spulen (27, 28) des zweiten Ablenksystems (10) in doppelwandigen, geschlossenen Gehäusen (12) untergebracht sind, die beiderseits des Strahlweges verlaufen.
- 4. Elelctronenstrahlverdampfer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gehäuse (12) zylindrischo
ausgebildet sind und daß ihre Achsen (A-A) parallel zu den Polplatten (8) des ersten Ablenksystems (7)verlaufen. - 5. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Spulenkerne (11) exzentrisch in den Gehäusen (12) befestigt sind.
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
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| GB08423997A GB2149201B (en) | 1983-10-28 | 1984-09-21 | Electron beam vaporiser deflection system |
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Patent Citations (4)
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|---|---|---|---|
| OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
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