SU705699A2 - Установка дл электроннолучевого нагрева материалов - Google Patents

Установка дл электроннолучевого нагрева материалов

Info

Publication number
SU705699A2
SU705699A2 SU762355080A SU2355080A SU705699A2 SU 705699 A2 SU705699 A2 SU 705699A2 SU 762355080 A SU762355080 A SU 762355080A SU 2355080 A SU2355080 A SU 2355080A SU 705699 A2 SU705699 A2 SU 705699A2
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
coils
electron beam
materials
heating
installation
Prior art date
Application number
SU762355080A
Other languages
English (en)
Inventor
Борис Алексеевич Мовчан
Виктор Александрович Тимашов
Константин Николаевич Клюев
Original Assignee
Орденов Ленина И Трудового Красного Знамени Институт Электросварки Им. Е.О.Патона
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Орденов Ленина И Трудового Красного Знамени Институт Электросварки Им. Е.О.Патона filed Critical Орденов Ленина И Трудового Красного Знамени Институт Электросварки Им. Е.О.Патона
Priority to SU762355080A priority Critical patent/SU705699A2/ru
Priority to US05/792,981 priority patent/US4105890A/en
Priority to DE2719725A priority patent/DE2719725C2/de
Priority to FR7713412A priority patent/FR2350686A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of SU705699A2 publication Critical patent/SU705699A2/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/315—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for welding
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/14—Lenses magnetic
    • H01J37/141—Electromagnetic lenses

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОГО НАГРЕВА МАТЕРИАЛОВ

Claims (1)

  1. Изобретение относитс  к устройствам дл  электроннолучевого нагрева материалов в вакууме . По основному авт. св. N 370899, известна установка дл  электроннолучевого нагрева материалов , содержаща  электроннолучевую пушку и электромагнитную систему управлени  лучом, включающа  магнитопровод пр моугольной формы, на длинных сторонах которого установлены катушки отклонени , а на других - катушки коррекции и фокусировки, причем кажда  пара катушек.соединена электрически последовательно. Однако при работе на относительно малых углах отклонени  (15 и менее) эффективность преобразовани  и фокуснровки луча сводитс  к минимуму. Целью изобретени   вл етс  расширение тех нологических возможностей установки и расширение пределов преобразовани  формы электрон ного луча. Дл  этого на каждой из катушек установлено по одной дополнительной катушке, которые соединены между собой электрически по следовательно, образу  квадрупольную линзу. На фиг. 1 схематически изображено предложенное устройство; на фиг. 2 - показана схема электромагнитной системы. Устройство дл  электроннолучевого нагре:Ва матерналов включает электростатическую щелевую Пушку Пирса, состо щую из линейного термокатода 1, прикатодного фокусирующего электрода 2 и ускор ющего анода 3. Лучевод 4 соедин ет ускор ющий анод 3 с основанием 5, в пазах которого расположена электромагнитна  система управлени , выполненна  в виде замкнутого пр моугольного магнитопрово- да 6, на стер5|да х которого расположены катушки отклонени  7, 8 и катушки развертки и фокусировки/ 9, 10. Последние снабжены дополнительными катушками 11-14. При электрическом последовательном соединении этих катушек н подключении их к источнику питани  15 с плавнорегулируемой величиной и пол рностью напр жени , создаютс  поперечные по отношению к траектории электронного луча магнитные пол , образующие квадрупольную магнитную линзу. При определенной пол рное37 ти питающего напр жени  электрический ток катушек 1-1, 12 создает поперечные магнитные пол , оказывающие собирающее воздействие на плоский слаборасход щийс  луч 16, а электрический ток катушек 13, 14 оказьгеает рассеивающее действие (на фиг. 2 указанные пол  изображены сплошными лини ми). При изменении пол рности питающего напр жени  магни ные пол  катушек П, 12 оказывают рассеивающее воздействие, а магнитные пол  катушек 13, 14 - собирающее. Эффект воздействи  квадрупольной магнит ной линзы на электронный луч сохран етс  в достаточйо широком диапазоне углов отклонени  луча, т.е. от 0 до максимального угла дан Это значиной конструкции устройства «45 тельно расшир ет технологические возможности применени  установки. Получение достаточно длинного и узкого фокального п тна при малых углах отклонени  позвол ет успешно примен ть устройства дл  подогрева движущихс  ленточных материалов без сканировани  электронного луча, что значительно упрощает систему управлени  лучом. Одновременно отпадает необходимость в использовании щунтирующих сопротивлений, выполн ющих функцию подфокусировки и преобразовани  формы злктронного луча. Формула изобретени  Установка дл  электроннолучевого нагреза материалов по авт. св. N 370899, отличающа с  тем, что, с целью расширени  ее технологических возможностей путем улучшени  фокусиррвки и расширени  пределов преобразовани  формы электронного луча, на каждой из катушек установлено по одной дополнительной катушке, которые соединены между собой электрически последовательно, образу  квадрупольную линзу.
SU762355080A 1976-05-03 1976-05-03 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов SU705699A2 (ru)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762355080A SU705699A2 (ru) 1976-05-03 1976-05-03 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
US05/792,981 US4105890A (en) 1976-05-03 1977-05-02 Device for electron-beam heating of materials
DE2719725A DE2719725C2 (de) 1976-05-03 1977-05-03 Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung von Materialien
FR7713412A FR2350686A1 (fr) 1976-05-03 1977-05-03 Dispositif de chauffage de materiaux par bombardement electronique

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762355080A SU705699A2 (ru) 1976-05-03 1976-05-03 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU370899A Addition SU78139A1 (ru) 1947-05-21 1947-05-21 Плавающий электрический кабель

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU705699A2 true SU705699A2 (ru) 1979-12-25

Family

ID=20659554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762355080A SU705699A2 (ru) 1976-05-03 1976-05-03 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4105890A (ru)
DE (1) DE2719725C2 (ru)
FR (1) FR2350686A1 (ru)
SU (1) SU705699A2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7772571B2 (en) 2007-10-08 2010-08-10 Advanced Ion Beam Technology, Inc. Implant beam utilization in an ion implanter

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3339131A1 (de) * 1983-10-28 1985-05-09 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens zwei magnetischen ablenksystemen
DE3532888A1 (de) * 1985-09-14 1987-04-02 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Anordnung zur regelung der ablenkung eines elektronenstrahls
DE3916787C2 (de) * 1989-05-23 1994-01-20 Balzers Hochvakuum Verfahren und Anordnung zur Steuerung der Bündelung eines Strahls monopolar geladener Partikel und Anwendung
DE4309870A1 (de) * 1993-03-26 1994-09-29 Audi Ag Verfahren zum Umschmelzen von Oberflächenbereichen von Werkstücken
DE19634456A1 (de) 1996-08-26 1998-03-05 Rainer Dr Spehr Elektronenoptische Linsenanordnung mit spaltförmigem Öffnungsquerschnitt
US6196889B1 (en) 1998-12-11 2001-03-06 United Technologies Corporation Method and apparatus for use an electron gun employing a thermionic source of electrons
US6455990B1 (en) 1998-12-11 2002-09-24 United Technologies Corporation Apparatus for an electron gun employing a thermionic electron source
UA43927C2 (uk) * 2000-12-26 2002-01-15 Міжнародний Центр Електронно-Променевих Технологій Інституту Електрозварювання Ім. Е.О. Патона Нан України Електронна гармата з лінійним термокатодом для електронно-променевого нагрівання
MXPA03005782A (es) * 2000-12-28 2003-09-10 Ciba Sc Holding Ag TINTES DE DISAZO Y SUS COMPLEJOS DE COBRE, PARA TEnIR PAPEL.
DE102008036713A1 (de) * 2008-08-07 2010-02-11 Technische Universität Carolo-Wilhelmina Zu Braunschweig Verfahren zum Trennen zweier über zumindest eine Klebschicht miteinander verklebter Objekte
US10290463B2 (en) * 2017-04-27 2019-05-14 Imatrex, Inc. Compact deflecting magnet

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3373310A (en) * 1964-07-17 1968-03-12 E H Res Lab Inc Cathode ray tube selective deflection amplifier using a quadrupole lens of critical length
US3555347A (en) * 1967-07-10 1971-01-12 Gen Electric Self aligning electron beam welder
SU370899A1 (ru) * 1971-10-26 1979-04-05 Институт Электросварки Им. Е.О. Патона Ан Украинской Сср Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
US3900736A (en) * 1974-01-28 1975-08-19 Ibm Method and apparatus for positioning a beam of charged particles

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7772571B2 (en) 2007-10-08 2010-08-10 Advanced Ion Beam Technology, Inc. Implant beam utilization in an ion implanter

Also Published As

Publication number Publication date
FR2350686B1 (ru) 1980-02-08
FR2350686A1 (fr) 1977-12-02
US4105890A (en) 1978-08-08
DE2719725A1 (de) 1977-11-17
DE2719725C2 (de) 1984-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SU705699A2 (ru) Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
US6438207B1 (en) X-ray tube having improved focal spot control
US3916202A (en) Lens-grid system for electron tubes
US3962583A (en) X-ray tube focusing means
US4689809A (en) X-ray tube having an adjustable focal spot
GB704586A (en) Improvements in or relating to devices for sectional radioscopy
ES8703679A1 (es) Un dispositivo semiconductor
US5254911A (en) Parallel filament electron gun
SU370899A1 (ru) Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
JPS6138575B2 (ru)
CN109148245A (zh) 电子束装置以及具备该电子束装置的x射线产生装置和扫描电子显微镜
US2376707A (en) Space discharge device
US3514664A (en) Electron guns
US4260893A (en) Device for directing electrically charged particles towards a target
JPH0415982B2 (ru)
GB701010A (en) Compositions having lubricating properties
JPH02278632A (ja) 電子ビームと発生器と該発生器を用いた電子装置
US3073987A (en) Electron discharge device with getter
SU57448A2 (ru) Электронный коммутатор
US3975613A (en) Electron beam-generating system
Pi Magnesium ion source for high intensity mass spectrograph
JPH0567445A (ja) 広範囲加速電圧イオン源用加速装置
JP2526303B2 (ja) リニアフィラメント型電子銃
JP2002150989A (ja) 電子ビーム露光装置及び電子レンズ
JPH0535540B2 (ru)