SU370899A1 - Установка дл электроннолучевого нагрева материалов - Google Patents

Установка дл электроннолучевого нагрева материалов

Info

Publication number
SU370899A1
SU370899A1 SU711706901A SU1706901A SU370899A1 SU 370899 A1 SU370899 A1 SU 370899A1 SU 711706901 A SU711706901 A SU 711706901A SU 1706901 A SU1706901 A SU 1706901A SU 370899 A1 SU370899 A1 SU 370899A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
coils
correction
axis
electron beam
along
Prior art date
Application number
SU711706901A
Other languages
English (en)
Inventor
Б.А. Мовчан
В.А. Тимашов
В.Н. Горманчук
Original Assignee
Институт Электросварки Им. Е.О. Патона Ан Украинской Сср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Электросварки Им. Е.О. Патона Ан Украинской Сср filed Critical Институт Электросварки Им. Е.О. Патона Ан Украинской Сср
Priority to SU711706901A priority Critical patent/SU370899A1/ru
Priority to DE19722234378 priority patent/DE2234378C3/de
Priority to US00276037A priority patent/US3814829A/en
Priority to FR7235403A priority patent/FR2157832B1/fr
Application granted granted Critical
Publication of SU370899A1 publication Critical patent/SU370899A1/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10Lenses
    • H01J37/14Lenses magnetic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Description

Изобретение относитс  к устройствам дл  электронно-лучевого нагрева материалов в вакууме.
Известно устройство дл  электронно-лучевого нагрева материалов в вакууме, формирующее плоский электронный луч, в котором установлены три последовательно расположенные по траектории луча электромагнитные системы, обеспечивающие отклонение , преобразование формы и фокусировку луча.
Однако такое устройство относительно сложно по конструкции и имеет большие габариты. Кроме того, необходимо точное согласование всех последовательно установленных электромагнитных систем, что существенно снижает надежность работы всего устройства.
Предлагаемое устройство обеспечивает дифференциацию вакуума, защиту электростатической пущки от паров и брызг. Электромагнитна  система управлени  лучом предлагаемого устройство позвол ет плоский слаборасход щийс  луч, формируемый электростатической пущкой, отклон ть на углы, до 45° с одновременной фокусировкой и преобразованием его в цилиндрический, а TaKj же осуществл ть коррекцию траектории луча и развертку его в плоскости, перпендикул рной плоскости отклонени .
Электромагнитна  система содержит один электромагнитный блок, включающий в себ  магнитопровод пр моугольной формы , на двух взаимно параллельных сторонах которого расположены катушки отклонени , а на д&ух других сторонах установлены катущки коррекции и фокусировки. При этом катушки отклонени , расположенные на длинных сторонах пр моугольного магнитопровода , включены электрически последовательно таким образом, что магнитные пол  этих катущек складываютс  параллельно в пространстве и направлены поперечно вход щему плоскому лучу.
При оптимально выбранных (обычно лежащих в пределах 1,2-5) соотношени х длин стержней пр моугольного магнитопровода магнитное поле катушек отклонени  отклон ет плоский луч с одновременной фокусировкой и преобразованием его в цилиндрический .
Подфокусировка отклоненного луча в цилиндрический либо заданное фокусирование в узкое длинное фокальное п тно достигаетс  изменением соотношени  ампервитков в этих катушках шунтирующими регулируемыми сопротивлени ми, создава  этим неоднородное магнитное поле требуемой формы .
Две обмотки коррекции, расположенные на коротких стержн х пр моугольного сердечника , соединены аналогично, создава  также поперечное по отношению к вход цхему лучу магнитное поле. При подключении катушек коррекции к источнику, создающему посто нный ток с переменной составл ющей заданной амплитуды и частоты, обеспечиваетс  коррекци  и развертка траектории луча в плоскости, перпендикул рной плоскости отклонени  луча.
На фиг. 1 дана конструктивна  схема предлагаемой установки, разрез; на фиг. 2 - конструктивна  схема электромагнитного устройства , форма магнитного пол  и проекци  трех характерных траекторий элементов плоского слаборасход шегос  луча; на фиг. 3 - принципиальна  схема соединени  катушек электромагнитного блока. Электростатическа  пушка (пущка Пирса ), формирующа  плоский слаборасход шийс  пучок электронов, состоит из линейного термокатода 1, прикатодного фокусирующего электрода 2 и ускор ющего анода 3, Лучевод 4, выполненный в виде медного (с водоохлаждением) блока с отверстием пр моугольного сечени  дл  прохода плоского луча А, соедин ет ускор ющий анод 3 пушки с предлагаемым электромагнитным блоком, выполненным в виде замкнутого пр моугольного магнитопровода 5 (см. фиг. 1 и 2), на длинных стержн х которого установлены две катушки 6 и 7 отклонени . На коротк-их стержн х магнитопровода 5 установлены две катушки 8 и 9 коррекции и фокусировки соответственно. Электромагнитный блок расположен в пазах медного водоохлаждаемого основани  10. Точка соединени  катушек отклонени  имеет вывод 11 дл  раздельпого шунтировани  их регулируемыми сопротивлени ми RI , Rg (см. фиг. 3). Плоский слаборасход щийс  луч А, сфокусированный пушкой Пирса и проход щий в лучеводе 4, имеет в поперечном сечении
пр моугольную форму. Попада  в поперечное магнитное поле катушек 6 и 7 отклонени  (на фиг. 2 изображено сплошными лини ми), электроны отклон ютс  перпендикул рно вектору напр женности магнитного пол .
В результате .взаимодействи  плоского слаборасход щегос  электронного луча с рассматриваемым магнитным полем происходит его отклонение с одновременным преобразованием в цилиндрический и фокусировкой в фокальное п тно 12 на объекте нагрева.
Уменьшение фокального п тна 12 по оси о -С и увеличение по оси X-Y достигаетс  ослаблением пол  катушки 7 отклонени  шунтированием ее витков регулируемым сопротивлением R, .

Claims (1)

  1. Уменьшение фокального п тна по оси X-Y и увеличение его по оси О -С достигаетс  ослаблением пол  катушки 6 отклонени  шунтированием ее регулируемым сопротивлением R2 . Коррекци  (смещение) и развертка луча по оси о-С осуществл ютс  поперечным полем (па фиг. 2 изображено пунктирными лини ми) катушек 8 и 9. Совмещение коррекции с разверткой достигаетс  питанием катущек 8 и 9 посто нным током с переменной составл ющей заданной амплитуды и частоты. Формула изобретени  Установка дл  электронно-лучевого нагрева материалов, содержаща  электроннолучевую пушку, формирующую плоскосимметричный ленточный электронный луч и электромагнитную систему управлени  лучом , включающую в себ  магнитопровод пр моугольной формы, на двух взаимно параллельных сторонах которого расположены катушки отклонени , отличающа с  тем, что, с целью повышени  точности управлени  лучом и преобразовани  его, упрощени  конструкции и уменьшени  габаритов, катушки отклонени  установлены на длинных сторонах пр моугольного магнитопровода, на других сторонах которого установлены катушки коррекции и фокусировки, причем кажда  пара катушек соединена между собой электрически последовательно.
SU711706901A 1971-10-26 1971-10-26 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов SU370899A1 (ru)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU711706901A SU370899A1 (ru) 1971-10-26 1971-10-26 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
DE19722234378 DE2234378C3 (de) 1971-10-26 1972-07-13 Einrichtung zur Elektronensirahlerhitzung von Werkstoffen
US00276037A US3814829A (en) 1971-10-26 1972-07-28 Device for electron-beam heating of materials mainly for their melting and evaporation
FR7235403A FR2157832B1 (ru) 1971-10-26 1972-10-05

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU711706901A SU370899A1 (ru) 1971-10-26 1971-10-26 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU370899A1 true SU370899A1 (ru) 1979-04-05

Family

ID=20490757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU711706901A SU370899A1 (ru) 1971-10-26 1971-10-26 Установка дл электроннолучевого нагрева материалов

Country Status (3)

Country Link
US (1) US3814829A (ru)
FR (1) FR2157832B1 (ru)
SU (1) SU370899A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7772571B2 (en) 2007-10-08 2010-08-10 Advanced Ion Beam Technology, Inc. Implant beam utilization in an ion implanter

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU705699A2 (ru) * 1976-05-03 1979-12-25 Орденов Ленина И Трудового Красного Знамени Институт Электросварки Им. Е.О.Патона Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
GB2033704B (en) * 1978-10-30 1982-09-29 Electricity Council Electron discharge heating device
US4341569A (en) * 1979-07-24 1982-07-27 Hughes Aircraft Company Semiconductor on insulator laser process
FR2495878A1 (fr) * 1980-12-09 1982-06-11 Dmitriev Stanislav Dispositif pour irradier des objets par electrons
DD208995A1 (de) * 1982-08-03 1984-04-18 Manfred Neumann Einrichtung zum elektronenstrahlbedampfen sehr breiter baender
US4731537A (en) * 1985-06-13 1988-03-15 Sony Corporation Electron beam gun
DE3532888A1 (de) * 1985-09-14 1987-04-02 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Anordnung zur regelung der ablenkung eines elektronenstrahls
US5346554A (en) * 1990-04-12 1994-09-13 Seiko Instruments Inc. Apparatus for forming a thin film
US10290463B2 (en) 2017-04-27 2019-05-14 Imatrex, Inc. Compact deflecting magnet

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USB385358I5 (ru) * 1935-10-31
GB612906A (en) * 1946-06-06 1948-11-19 Eric William Bull Improvements in or relating to magnetic deflecting means for cathode ray tubes
US3390222A (en) * 1965-08-17 1968-06-25 Air Reduction Electron beam apparatus with variable orientation of transverse deflecting field
US3622679A (en) * 1970-09-29 1971-11-23 Air Reduction Heating system for electron beam furnace

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7772571B2 (en) 2007-10-08 2010-08-10 Advanced Ion Beam Technology, Inc. Implant beam utilization in an ion implanter

Also Published As

Publication number Publication date
FR2157832B1 (ru) 1976-03-26
FR2157832A1 (ru) 1973-06-08
DE2234378A1 (de) 1973-05-03
US3814829A (en) 1974-06-04
DE2234378B2 (de) 1975-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4492873A (en) Apparatus for electron beam irradiation of objects
US6438207B1 (en) X-ray tube having improved focal spot control
SU370899A1 (ru) Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
US3319110A (en) Electron focus projection and scanning system
US2752520A (en) Tri-color kinescope
Moak et al. Nanosecond pulsing for Van de Graaff accelerators
US3430169A (en) Deflection yoke
US4105890A (en) Device for electron-beam heating of materials
US3504211A (en) Electron beam control device for use with a cathode ray tube for dynamic correction of electron beam astigmatism and defocusing
US4180760A (en) Flat cathode ray tube having magnetically collimated electron beam device
US2376707A (en) Space discharge device
US2406740A (en) Keystone correction apparatus
US3748612A (en) Charged particle beam deflection control yoke
US2806164A (en) Beam convergence apparatus for tri-color kinescopes
US2813212A (en) Electromagnetic cathode ray beam deflection system
US2728027A (en) Cathode ray deflection systems
US3638064A (en) Convergence deflection system for a color picture tube
JPH0594781A (ja) カラー表示管システム
US3035203A (en) Cathode-ray tube
US3513350A (en) Convergence deflection system for a color picture tube
US3316432A (en) Cathode ray tube electron gun mount with unitary magnetic centering and gettering means
US3406273A (en) Magnetic vapor deflector for an electron beam
KR950701765A (ko) 자기 집속 및 기하학적 구조가 보정된 음극선관용 전자 빔 편향 장치(device for the deflection of electron beams for cathode ray tubes, which is selfconvergent and geometry corrected)
US3767927A (en) Electron beam apparatus with beam-stabilization system
US2995680A (en) Electrical system