DE2719725C2 - Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung von Materialien - Google Patents
Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung von MaterialienInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung von Materialien der im
Oberbegriff drs Patentanspruchs 1 beschriebenen, aus
der US-PS 38 14 829 bekannten Art.
Diese Eleiuronenstrühlkanone der bekannten Einrichtung
erzeugt einen schwach divergierenden flachen Strahl; sie besteht aus einer linear.,! Glühkathode, einer
kathodennahen Fokussierelektrode und einer Beschleunigung.sanode. Die Beschleunigungsanode der Kanone
ist konstruktiv mit einem sn der Grundplatte angeordneten Strahlleiter verbunden, wobei in Nuten der
Grundplatte ein elektromagnetisches Elektronenstrahlsteuersystem untergebracht ist. Je zwei Ablenkwicklungen
und Korrektur- und Abtastwicklungen sind in Reihe geschaltet, wobei das Ende der einen Wicklung mit dem
Anfang der anderen Wicklung verbunden ist. Der Verbindungspunkt der Ablenkwicklungen zum getrennten
Shunten derselben ist durch Regelwiderstände herausgeführt.
Das elektromagnetische Strahlsteuersystem gestattet es, den durch die Elektronenstrahlkanone erzeugten
flachen Strahl um Winkel bis 45° unter gleichzeitiger Fokussierung und Verformung derselben zu einem
zylindrischen Strahl abzulenken sowie eine Korrektur der Strahibahn und eine Ablenkung des Strahls in der
zur Vertikalablenkebene senkrechten Ebene zu bewirken.
Die Nachfokussierung des abgelenkten Strahls zu einem zylindrischen Strahl bzw. die erforderliche
Änderung der Form des an der zu erwärmenden Fläche erhaltenen Brennfleckes wird durch Änderung des
Amperewindungsverhältnisses in den Ablenkwicklungen mittels der Shuntregelwiderstände erreicht, wobei
ein inhomogenes Magnetfeld der nötigen Form erzeugt wird.
Diese bekannte Vorrichtung hat den Nachteil, daß die Wirksamkeit der Fokussierung des Elektronenstrahls
und der Änderung der Form des Brennflecks von dem vorgeschriebenen Ablenkwinkel des Elektronenstrahls
abhängig ist. Wenn z. B. die Einrichtung mit relativ geringen Ablenkwinkeln (15° und weniger) arbeitet, was
für eine Reihe technologischer Prozesse erforderlich ist, wird die Wirksamkeit der Fokussierung des Elektronenstrahls
entsprechend auf ein Mindestmaß herabgesetzt und die Möglichkeit seiner Formänderung begrenzt
Dies ist durch die geringe Stärke der Magnetfelder der Abienkwicklungen bedingt.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung von Materialien
der eingangs genannten Art zu schaffen, bei der das elektromagnetische Strahlsteuersystem eine Erhöhung
der Wirksamkeit der Strahlfokussierung und eine Änderung der Form des Elektronenstrahls in weiten
Grenzen bei zwischen 0° und 45° gewählten Strahlablenkwinkeln ermöglicht
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Patentanspruch 1 angegebenen Maßnahmen gelöst
Eine bevorzugte Weiterbildung der erfinöungsgemäßen
Einrichtung ist Gegenstand des Patentanspruchs 2.
Die erfindungsgemäße Einrichtung hat den Vorteil, daß die Umformung des Elektronenstrahls möglich ist
derart, daß man einen langen und schmalen Brennfleck auf der Erwärmungsfläche bei geringen Ablenkwinkeln
erhält Diese Möglichkeit der Verformung des Elektronenstrahls gestattet es, die Erfindung nicht nur in
Anlagen zum Schmelzen und Verdampfen von Stoffen im Vakuum, soncern auch zur Erwärmung von sich
bewegenden Bandmaterialien ohne Strahlabtastung zu benutzen, was das Strahlsteuersystem vereinfacht
Vorteilhaft ist weiterhin, daß sich die Benutzung von Shuntwiderständen, die bei der bekannten Einrichtung
zur Nachfokussierung des Elektronenstrahls und Verformung des Brennflecks dienten, erübrigt
Die Erfindung wird im folgenden anhand des in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher
erläutert. Es zeigt
F i g. 1 das Ausführungsbeispiel der Einrichtung zur
Elektronenstrahlerwärmung von Materialien im Querschnitt,
F i g. 2 das Prinzipschaltbild des elektromagnetischen Strahlsteuersystems der Einrichtung und die Form des
von den Zusatzwicklungen erzeugten Magnetfeldes,
F i g. 3 die Form des Brennflecks an der Oberfläche des anzuwärmenden Materials.
Die Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung enthält eine Elektronenstrahlkanone zur Erzeugung
eines schwach divergierenden flachen Elektronenstrahls, die aus einer Kathodeneinheit 1 (Fig. 1) mit
einer Giühkathoue 2 und einer in der Nähe derselben angeordneten Fokussierelektrode 3 besteht, und eine
Beschleunigungsanode 4. Die Einrichtung enthält ferner einen Strahlleiter 5, der in Form eines Kupferblocks mit
Kanälen zur Wasserkühlung desselben und einer rechteckigen Öffnung zum Durchgang des flachen
Strahls 7 ausgeführt ist. Über den Strahlleiter 5 ist die Beschleunigungsanode 4 konstruktiv mit der Grundplatte
8 verbunden, in deren Nuten ein elektromagnetisches Steuersystem in Form eines geschlossenen rechteckigen
Magnetkerns 9 untergebracht ist. An den gegenüberliegenden Schenkeln 10 (Fig. 2), 11 und 12, 13 des
Magnetkerns 9 sind jeweils Ablenkwicklungen 14, 15 und Korrektur- und Abtastwicklungen 16, 17 angeordnet.
Auf jedem Schenkel 10, 11, 12, 13 sitzt jeweils eine
Zusatzwicklung 18,19,20,21.
Die Ablenkwicklungen 14, 15 sind in Reihe an eine Speisequelle 22 angeschlossen. Ebenso sind die Korrektur-
und Abtastwicklungen 16, 17 in Reihe an eine Speisequelle 23 angeschlossen. Die Zusatzwicklungen
18, 19, 20, 21 sind in Reihe an eine Speisequelle 24 mit
stufenlos veränderlichem Wert und veränderlicher Polarität ihrer Spannung angeschlossen.
Die Zusatzwicklungen 18, 19, 20, 21 erzeugen quer zur Bahn des Strahls 7 jeweils Magnetfelder I, II, HI, IV,
die eine magnetische Quadrupollinse bilden. Durch durchgehende Linien sind die Magnetfelder I1II, III, IV
bei der einen Polarität der Spannung der Spannungsquelle 24 und durch punktierte Linien die gleichen
Felder I1 II, III, IV bei der anderen Polarität dieser
Spannung gezeigt. tu
In F i g. 3 sind die auf der Oberfläche 28 (F i g. 1) des anzuwärmenden Materials sich ergebenden Brennflekke
25, 26, 27 wiedergegeben. AB (Fig.3) und CD sind
Symmetrieachsen der Brennflecke 25,26,27.
Die Arbeitsweise der Einrichtung zur Elektronen-Strahlerwärmung von Materialien ist folgende.
Die von der linearen Glühkathode 2 (Fig. 1)
ausgehenden Elektronen werden durch die kathodennahe Fokussierungselektrode 3 und die Beschleunigungsanode 4 zu einem schwach divergierenden flachen
Strahl 7 formiert Dieser Strahl passiert den StrahHeher
5, wird dann von dem elektromagnetischen Steuersystem verformt und abgelenkt und auf die Oberfläche 28
des erwärmenden Materials unter einem vorgegebenen Winkel als Strahl von vorgegebener Form gerichteL
Bei der einen Polarität der Spannung der Speisequelle 24 (F i g. 2) erzeugt der elektrische Strom der Zusatzwickiungen
18, 19 die magnetischen Querfeider I, II (in Fig.2 durch durchgehende Linien gezeigt), die eine
Sammelwirkung auf den schwach divergierenden Strahl jo
7 (Fig. 1) ausüben. Der elektrische Strom der Zusatzwicklungen 20, 21 erzeugt die magnetischen
Querfelder HI, IV (in F i g. 2 durch durchgehende Linien gezeigt), die eine Streuwirkung auf den Strahl 7 (F i g. 1)
ausüben. Infolge dieser Einwirkung der Magnetfelder I, II, IH, IV auf den Elektronenstrahl 7 wird an der
Oberfläche 28 des anzuwärmenden Materials ein in Richtung der Achse AB verlängerter und in Richtung
der Achse CD verkürzter Brennfleck gebildet
Bei Änderung der Polarität der Spannung der Speisequelle 24 üben die Magnetfelder I, II (in F i g. 2
durch punktierte Linien gezeigt) der Wicklungen 18,19 eine Streuwirkung auf den Elektronenstrahl 7 (Fig. 1)
aus, während die Magnetfelder III, IV der Wicklungen 20, 21 eine Sammelwirkung auf den Strahl 7 ausüben.
Infolgedessen ergibt sich auf der Oberfläche 28 des anzuwärmenden Materials ein in Richtung der Achse
CD verlängerter und in Richtung der Achse AB verkürzter Brennfleck 26 (F i g. 3).
Aus dem vorstehend Gesagten ist nun klar, daß man
durch stufenlose Regelung des Spannungswertes und Änderung der Polarität der Spannung von der
Speisequelle 24 (Fig.2) nicht nur ?ien Brennfleck 25
(Fig.3), 26 jeweils in Richtung der A.chsen AB, CD
verlängern, sondern den Elektronenstrahl 7 (Fig. 1) zu einem kreisförmigen Brennfleck 27 (F i g. 3) fokussieren
kann.
Aus Jer vorstehend beschriebenen Arbeitsweise der Einrichtung ist ersichtlich, daß die Wirkung der
magnetischen Quadrupollinse auf den Elektronenstrahl 7 (F i g. 1) in einem hinreichend weiten Strahlablenkwinkelbereich,
d. h. von 0° bis maximal 45° für die betreffende Konstruktion der Einrichtung, und zwar zu
beiden Seiten der Längssymmetrieebene der Einrichtung, erhalten bleibt
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung
von Materialien, mit einer Elekironenstrahlkanone
zur Erzeugung eines Elektronenstrahls und einem elektromagnetischen Strahlsteuersystem, das einen
Magnetkern in Form eines rechteckigen Rahmens mit zumindest zwei auf gegenüberliegenden Schenkeln
angeordneten Ablenkwicklungen und zumindest zwei auf den zwei anderen gegenüberliegenden ι ο
Schenkeln angeordneten Korrektur- und Abtastwicklungen aufweist, dadurch gekennzeichnet,
daß auf jedem Schenkel des Magnetkerns (9) zumindest eine Zusatzwicklung (18, 19, 20, 21)
angeordnet ist, derart, daß die beim Stromdurchgang ι,
durch diese Zusatzwicklungen (18, 19, 20, 21) entstehenden Magnetfelder (I, II, HI, IV) eine
magnetische Quadrupollinse bilden.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Zusatzwicklunge.n (18,19,20,21) in 2a
Reihe geschaltet und an eine Speisequelle (24) mit stufenlos veränderbarem Wert und veränderlicher
Polarität ihrer Spannung angeschlossen sind.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3532888A1 (de) * | 1985-09-14 | 1987-04-02 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Anordnung zur regelung der ablenkung eines elektronenstrahls |
EP0399390A2 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-28 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren und Anordnung zur Steuerung der Bündelung eines Strahls monopolar geladener Partikel |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3339131A1 (de) * | 1983-10-28 | 1985-05-09 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens zwei magnetischen ablenksystemen |
DE4309870A1 (de) * | 1993-03-26 | 1994-09-29 | Audi Ag | Verfahren zum Umschmelzen von Oberflächenbereichen von Werkstücken |
DE19634456A1 (de) | 1996-08-26 | 1998-03-05 | Rainer Dr Spehr | Elektronenoptische Linsenanordnung mit spaltförmigem Öffnungsquerschnitt |
US6455990B1 (en) | 1998-12-11 | 2002-09-24 | United Technologies Corporation | Apparatus for an electron gun employing a thermionic electron source |
US6196889B1 (en) | 1998-12-11 | 2001-03-06 | United Technologies Corporation | Method and apparatus for use an electron gun employing a thermionic source of electrons |
UA43927C2 (uk) * | 2000-12-26 | 2002-01-15 | Міжнародний Центр Електронно-Променевих Технологій Інституту Електрозварювання Ім. Е.О. Патона Нан України | Електронна гармата з лінійним термокатодом для електронно-променевого нагрівання |
EP1345992B1 (de) * | 2000-12-28 | 2006-07-05 | Ciba SC Holding AG | Disazofarbstoffe und ihre kupferkomplexe zum faerben von papier |
US7772571B2 (en) | 2007-10-08 | 2010-08-10 | Advanced Ion Beam Technology, Inc. | Implant beam utilization in an ion implanter |
DE102008036713A1 (de) * | 2008-08-07 | 2010-02-11 | Technische Universität Carolo-Wilhelmina Zu Braunschweig | Verfahren zum Trennen zweier über zumindest eine Klebschicht miteinander verklebter Objekte |
US10290463B2 (en) * | 2017-04-27 | 2019-05-14 | Imatrex, Inc. | Compact deflecting magnet |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3373310A (en) * | 1964-07-17 | 1968-03-12 | E H Res Lab Inc | Cathode ray tube selective deflection amplifier using a quadrupole lens of critical length |
US3555347A (en) * | 1967-07-10 | 1971-01-12 | Gen Electric | Self aligning electron beam welder |
SU370899A1 (ru) * | 1971-10-26 | 1979-04-05 | Институт Электросварки Им. Е.О. Патона Ан Украинской Сср | Установка дл электроннолучевого нагрева материалов |
US3900736A (en) * | 1974-01-28 | 1975-08-19 | Ibm | Method and apparatus for positioning a beam of charged particles |
-
1976
- 1976-05-03 SU SU762355080A patent/SU705699A2/ru active
-
1977
- 1977-05-02 US US05/792,981 patent/US4105890A/en not_active Expired - Lifetime
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3532888A1 (de) * | 1985-09-14 | 1987-04-02 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Anordnung zur regelung der ablenkung eines elektronenstrahls |
EP0399390A2 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-28 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren und Anordnung zur Steuerung der Bündelung eines Strahls monopolar geladener Partikel |
EP0399390B1 (de) * | 1989-05-23 | 1996-10-23 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren und Anordnung zur Steuerung der Bündelung eines Strahls monopolar geladener Partikel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2350686B1 (de) | 1980-02-08 |
DE2719725A1 (de) | 1977-11-17 |
FR2350686A1 (fr) | 1977-12-02 |
SU705699A2 (ru) | 1979-12-25 |
US4105890A (en) | 1978-08-08 |
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