DE3339131C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft einen Elektronenstrahlverdampfer mit einem Elektronenstrahlerzeuger, einem ersten magnetischen Ablenksystem mit parallelen langgestreckten Polplatten für die lineare Strahlablenkung entlang einer ersten Ko­ ordinate, und mit einem zweiten magnetischen Ablenksystem für die Strahlablenkung entlang einer zweiten Koordinate, die zur ersten Koordinate senkrecht steht, sowie mit einem langgestreckten Verdampfertiegel für die Aufnahme des zu verdampfenden Materials.

Elektronenstrahlen lassen sich praktisch trägheitslos ab­ lenken, wobei der Auftreffpunkt oder Brennfleck des Elektronenstrahls auf einer ebenen oder gewölbten Ober­ fläche definiert bewegt werden kann. Man spricht auch davon, daß der Elektronenstrahl in einem X-Y-Koordinaten­ system bewegt werden kann. Die Bildröhre eines Fernseh­ geräts ist eines der markantesten Beispiele für eine solche Strahlablenkung.

Es ist aber auch bekannt, abgelenkte Elektronenstrahlen für technische Produktionsprozesse einzusetzen. So ist beispielsweise ein Elektronenstrahlverdampfer, der weit­ gehend dem gattungsgemäßen Verdampfer entspricht, aller­ dings einen kreisrunden Verdampfertiegel aufweist, durch die DE-AS 20 47 138 bekannt. Durch die gleiche Druck­ schrift ist es aber auch bekannt, daß sich durch die Strahlablenkung der Fokussierungszustand und damit die Leistungsdichte an der Auftreffstelle des Elektronen­ strahls in unerwünschter Weise ändern kann. Die bekannte Lösung bezweckt eine Kompensation dieses Effekts nur durch die Verweilzeit, nicht aber durch eine Korrektur des Ablenkmusters. Da sich Änderungen des Fokussierungs­ zustandes an der Strahlauftreffstelle mit zunehmendem Abstand vom Tiegelzentrum vergrößern, ist die bekannte Lösung für langgestreckte Verdampfertiegel, d.h. für solche, bei denen die Länge mindestens 3 mal größer ist als die Breite, nicht mit Erfolg anwendbar.

Durch die DE-OS 28 12 285 ist ein Elektronenstrahlverdampfer der eingangs beschriebenen Gattung bekannt, bei dem durch das Zusammenwirken zweier magnetischer Ablenksysteme Elektronenstrahlen in einem bestimmten Linienmuster über die Oberfläche eines langgestreckten Verdampfertiegels geführt werden können. Um hierbei die gesamte Länge des Ver­ dampfertiegels beheizen zu können, mußten zwei Elektronen­ strahlerzeuger vorgesehen werden, die jeweils die Hälfte des Verdampfertiegels beheizen. Die Substrate befinden sich hierbei ständig oberhalb des Verdampfertiegels, wobei sie kontinuierlich gedreht werden. Die Abtast­ frequenz der Badoberfläche im Verdampfertiegel spielt hierbei nur eine verhältnismäßig untergeordnete Rolle, da bei genügend langer Verweilzeit der Substrate im Dampfstrom und bei einer Vielzahl von Umdrehungen der Substrate eine ausreichende Gleichförmigkeit der Be­ schichtung erzielt werden kann.

Eine weitere Problematik ergibt sich jedoch bei der Be­ schichtung von Bändern bzw. Folien aus Kunststoff, die heute bei einer Breite bis zu 1000 mm in einem Durch­ gang beschichtet werden. Um die gesamte Tiegellänge mit einem einzigen Elektronenstrahl zu überstreichen, ist ein großer Ablenkwinkel erforderlich. Zur Vermeidung von Schichtdickenschwankungen in Längsrichtung des laufenden Bandes ist bei vorgegebener Bandgeschwindigkeit die mini­ male Ablenkfrequenz des Elektronenstrahls festgelegt.

Mit den bekannten Elektronenstrahlverdampfern läßt sich jedoch keine ausreichend gleichmäßige Schichtdickenver­ teilung quer zur Laufrichtung des Bandes erreichen, weil der Fokussierungszustand des Elektronenstrahls sich bei einem großen Ablenkwinkel unzulässig ändert. Außerdem unterliegt das Ablenkmuster, mit dem der Elektronen­ strahl über die Oberfläche des Verdampfungsgutes (Bad­ spiegel) geführt wird, merklichen Verzerrungen, die gleichfalls einen schädlichen Einfluß auf die Gleich­ mäßigkeit der Schichtdickenverteilung quer zur Lauf­ richtung des Bandes hat.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen Elektronenstrahlverdampfer der eingangs beschriebenen Gattung anzugeben, bei dem der Fokussierungszustand auch bei großen Ablenkwinkeln erhalten bleibt, und bei dem das Ablenkmuster in der Weise korrigiert werden kann, daß die für eine über die gesamte Tiegellänge gleich­ förmige Dampfentwicklung notwendige Energieverteilung im Verdampfungsgut erzielt werden kann.

Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem ein­ gangs beschriebenen Elektronenstrahlverdampfer erfindungs­ gemäß dadurch, daß

• a) das zweite magnetische Ablenksystem zwei parallele, nicht-metallische Spulenkerne aufweist, die parallel zu den Polplatten des ersten Ablenksystems verlaufen und in Strahlrichtung gesehen unter diesen angebracht sind,
• b) auf jedem Spulenkern eine erste Spule mit gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns und
• c) eine zweite Spule mit zu den beiderseitigen Enden des Spulenkerns zunehmender Windungszahl pro Längenein­ heit des Spulenkerns angeordnet sind.

Es ist dabei besonders vorteilhaft, entsprechend dem Anspruch 2 die zweiten Spulen als Kegelspulen auszubilden, so daß die Anzahl der Windungen pro Längeneinheit des Spulenkerns, ausgehend von dessen Mitte, nach beiden Enden hin linear zunimmt.

Bei dem erfindungsgemäßen Elektronenstrahlverdampfer ist das zweite magnetische Ablenksystem ein Korrektursystem, durch das Fokussierungszustand und das Ablenkmuster des Elektronenstrahls in folgender Weise beeinflußt werden kann:

• 1. Die lineare Auslenkung des Elektronenstrahls kann in der Tiegelebene um den Mittelpunkt der Auslenkungsbe­ wegung gedreht werden. Dadurch läßt sich die Auslenkung parallel zur Tiegellängsachse einjustieren.
• 2. Die Auslenkung des Elektronenstrahls läßt sich bei kissen- oder tonnenförmiger Verzeichnung entzerren und linearisieren.
• 3. Der Elektronenstrahl kann senkrecht zur Auslenkung ver­ schoben werden, und es ist sogar möglich, der Aus­ lenkung eine periodische Queroszillation zu überlagern, die als "Wobbeln" bezeichnet werden kann. Durch das Wobbeln läßt sich die Energiedichte des Elektronen­ strahls reduzieren, die durch eine sogenannte Selbst­ fokussierung zu groß werden könnte. Zu große Energiedichten führen zu einem unerwünschten Spritzen während des Verdampfungsprozesses.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgegen­ standes sind Gegenstand der übrigen Unteransprüche.

Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes und seine unterschiedlichen Einsatzmöglichkeiten werden nach­ folgend anhand der Fig. 1 bis 14 näher erläutert.

Es zeigen:

Fig. 1 eine Vorderansicht des unteren Teils des Elektronenstrahlerzeugers mit dem ersten und zweiten magnetischen Ablenk­ system in Blickrichtung "X" gemäß Fig. 2,

Fig. 2 eine Seitenansicht des Gegenstandes nach Fig. 1 mit zusätzlich eingezeichnetem Verdampfertiegel,

Fig. 3 eine Draufsicht und einen teilweisen Horizontalschnitt durch das erste magnetische Ablenksystem für die lineare Strahlablenkung mit gestrichelt einge­ zeichneter Ablenkbahn,

Fig. 4 einen Vertikalschnitt durch eine der beiden parallelen Polplatten in Fig. 3,

Fig. 5 einen Vertikalschnitt durch eine Hälfte des zweiten magnetischen Ablenksystems mit einer Linearspule und zwei Kegel­ spulen,

Fig. 6 eine Draufsicht auf den Gegenstand nach Fig. 5,

Fig. 7 bis 14 verschiedene mögliche Ablenkmuster des Elektronenstrahls auf dem Badspiegel in einem langgestreckten Verdampfertiegel.

In Fig. 1 ist der untere Teil eines herkömmlichen Elektronen­ strahlerzeugers 1 dargestellt, wie er beispielsweise in der DE-PS 12 48 175 beschrieben ist. Am unteren Ende eines Strahl­ führungsrohres 2 befindet sich eine Strahlaustrittsöffnung 3. Die geometrische Achse des Systems und damit der Strahlweg ist durch die strichpunktierte Linie 4 angedeutet. Beider­ seits der Strahlaustrittsöffnung 3 befinden sich in spiegel­ symmetrischer Anordnung zwei Polschuhe 5, die nicht Teil der nachfolgend beschriebenen ersten und zweiten Ablenksysteme, sondern zusätzlich angeordnet sind. Sie dienen lediglich dazu, den Elektronen­ strahl um einen Winkel von etwa 25 Grad abzulenken, um bei­ spielsweise den Elektronenstrahlerzeuger 1 seitlich ver­ setzt über dem Verdampfertiegel 6 (Fig. 2) anordnen zu können. Diese Maßnahme dient dazu, einen etwaigen Dampf­ eintritt in das Strahlführungsrohr 2 zu verhindern. Es handelt sich hierbei um eine voreingestellte permanente Strahlablenkung, die nichts mit der dynamischen Strahlab­ lenkung zu tun hat, um deren Beeinflussung es im vorliegenden Falle geht.

Unterhalb der Strahlaustrittsöffnung 3 ist ein erstes magnetisches Ablenksystem 7 mit zwei parallelen langgestreckten Pol­ platten 8 angeordnet, von denen in Fig. 1 nur die Vorderste sichtbar ist. Die beiden Polplatten verlaufen parallel zur Zeichenebene der Fig. 1 und mit symmetrischem Ab­ stand zu dem bereits durch die Polschuhe 5 abgelenkten Elektronenstrahl. Der Ablenkwinkel α, um den der Elek­ tronenstrahl mittels des ersten Ablenksystems 7 abgelenkt werden kann, ist durch die gestrichelten Linien 9 ange­ deutet.

Wiederum unterhalb des ersten Ablenksystems 7 befindet sich das zweite magnetische Ablenksystem 10, das zwei in Fig. 1 nicht sichtbare Spulenkerne 11 aufweist, die parallel zu den Polplatten 8 verlaufen und symmetrisch zu einer mittleren Ebene angeordnet sind, die auch die Symmetrieebene zwischen den beiden Polplatten 8 ist. In Fig. 1 ist nur das vorderste Gehäuse 12 des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 zu sehen. Bezüglich weiterer Einzelheiten wird auf die Fig. 5 und 6 ver­ wiesen.

In Fig. 2 sind gleiche Teile wie in Fig. 1 mit gleichen Bezugszeichen versehen. Es ist zu erkennen, daß die beiden Polplatten 8 parallel zueinander und senkrecht zur Zeichenebene verlaufen und beiderseits symmetrisch eines mittleren Strahlweges angeordnet sind, der hier durch die dicke strichpunktierte Linie 13 angedeutet ist. Es ist weiterhin zu erkennen, daß die Gehäuse 12 des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 gleichfalls senkrecht zur Zeichenebene verlaufen, bzw., daß ihre Längsachsen und damit die Längsachsen der Spulenkerne parallel zu einer Symmetrieebene verlaufen, die auch die Symmetrie­ ebene der Polplatten 8 ist. In dieser Symmetrieebene liegt auch die Linie 13.

Am Ende des Strahlweges befindet sich der langgestreckte Verdampfertiegel 6, dessen längste Achse gleichfalls senkrecht zur Zeichenebene verläuft. Die durch den Ver­ dampfer gelegte Symmetrieebene E-E ist durch eine dünne strichpunktierte Linie angedeutet.

Der Aufbau des ersten magnetischen Ablenksystems wird anhand der Fig. 3 und 4 näher erläutert:
Die Polplatten 8 besitzen je einen doppelwandigen Mantel 14, durch den mittels zweier Anschlüsse 16 eine Kühlflüssig­ keit (Wasser) geleitet werden kann. Die äußere Oberfläche eines jeden Mantels entspricht einem flachen Quader; beide Mäntel 14 sind mit einem Gehäuse 15 verbunden. In den Mänteln 14 sowie im Gehäuse 15 befinden sich drei aus Ferrit bestehende Platten 17 bzw. 18, die zu einem "U" zusammengefügt sind. Die Platte 18 bildet das Joch der Polplatten, auf dem eine zweiteilige Magnetspule 19 ange­ ordnet ist.

Wird die Magnetspule 19 mit Wechselstrom gespeist, so er­ gibt sich zwischen den Polplatten 8 ein wechselndes Magnet­ feld entsprechender Frequenz. Dadurch erfährt der Elektronenstrahl eine Auslenkung parallel zu den Polplatten.

Der Strahlweg ist durch die gestrichelte Linie 20 ange­ deutet, die im Idealfall in der Symmetrieebene zwischen den Polplatten liegt. Die mittlere Lage des Elektronen­ strahls ist durch einen Kreis 21 angedeutet. Die Zufuhr des Magnetisierungsstroms erfolgt durch eine Vielfach- Steckverbindung 22, die jedoch von herkömmlicher Be­ schaffenheit ist und daher hier nicht näher erläutert wird. Die beiden doppelwandigen Mäntel 14 bestehen aus amagnetischem Werkstoff (Chrom-Nickel-Stahl) um einen ungehinderten Durchtritt der Magnetfeldlinien zu ermög­ lichen.

In den Fig. 5 und 6 ist eine Hälfte des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 beschrieben. Die nach­ stehend noch näher beschriebenen Teile dieses zweiten Ablenksystems sind in dem bereits erwähnten hohl­ zylindrischen Gehäuse 12 untergebracht, das zum Zwecke der Durchleitung einer Kühlflüssigkeit gleichfalls doppelwandig ausgebildet ist. Die Anschlüsse 23 sind nur in Fig. 6 gezeigt. Der doppelwandige Mantel des Gehäuses 12 ist am freien Ende durch eine Platte 24 permanent verschlossen, während ein am jenseitigen Ende angebrachter Ringflansch 25 mit einem abnehmbaren Deckel 26 verschraubt ist. Zwischen der Platte 24 und dem Deckel 26 erstreckt sich, formschlüssig gelagert, der Spulenkern 11, auf dem eine erste Spule 27 mit gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulen­ kerns 11 angeordnet ist. Diese Spule ist zur zeichnerischen Hervorhebung durch Diagonalkreuze gekennzeichnet. Die betreffende Spule kann auch als Linearspule oder Zy­ linderspule bezeichnet werden. Die Gehäuse 12 sind nach innen und außen hermetisch geschlossen, d.h. jeder Durchtritt von Gasen, Wasser und Wasserdampf oder anderen Flüssigkeiten ist unterbunden.

Auf dieser ersten Spule 27 ist eine zweite Spule 28 an­ geordnet, die, ausgehend von der Mitte der ersten Spule in Richtung auf die beiderseitigen Enden des Spulenkerns 11 eine zunehmende Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns aufweist. Im einfachsten Fall ist die zweite Spule 28 aus zwei Spulenhälften zusammengesetzt, die als Kegelspulen ausgebildet sind, d.h. die Hüllfläche der äußersten Windungen dieser Spule ist jeweils eine Kegelfläche.

Der Spulenkern 11 besteht aus einem stangen- oder rohr­ förmigen Isoliermaterial mit Gewebe- oder Papiereinlagen. Es ist wichtig, daß die Spulenkombination keinen Eisenkern aufweist, um so eine möglichst hohe Grenzfrequenz zu erreichen. Die beschriebene Spulenanordnung erzeugt auf ihrer gesamten Länge im Durchtrittsbereich des Elektronen­ strahls je nach der Beaufschlagung mit bestimmten Er­ regerströmen ein ganz bestimmtes Streu-Magnetfeld parallel zur Zylinderachse, dessen Variationsmöglich­ keiten und Wirkungen nachfolgend noch näher erläutert werden. Sowohl die Enden der ersten Spule 27 als auch die inneren und äußeren Enden beider Spulenhälften der zweiten Spule 28 sind zu einer Vielfachsteckverbindung 29 geführt, die jedoch Stand der Technik ist und daher nicht weiter erläutert wird.

Es ist zu erkennen, daß die Längsachse des Spulenkerns 11 exzentrisch zur Achse A-A des Gehäuses 12 angeordnet ist. Bei der Montage der beiden zusammen gehörenden Hälften des zweiten Ablenksystems 10 wird dabei so ver­ fahren, daß die beiden Spulenkerne 11 einander beider­ seits des Strahlweges möglichst nahe gegenüber liegen. Der Abstand der einander am nächsten kommenden Mantel­ linien der Gehäuse 12 ist durch Strahlbewegung und -durchmesser vorgegeben.

In den Fig. 7 bis 14 ist jeweils der langgestreckte Verdampfertiegel 6 in der Draufsicht gezeigt, in dem sich das in der Regel schmelzflüssige Verdampfungsgut befindet, welches durch den Elektronenstrahl beheizt und zur Verdampfung gebracht werden soll.

In Fig. 7 ist durch den eingezeichneten Doppelpfeil ein Ablenkmuster angedeutet, wie es bei Elektronenstrahl­ kanonen angestrebt wird. Um ein solches Ablenkmuster zu erhalten, wird die Magnetspule i 9 (Fig. 3/4) mit einer Wechselspannung entsprechender Frequenz angesteuert. Der Auftreffpunkt (Brennfleck) des Elektronenstrahls auf dem Verdampfungsgut bewegt sich hierbei entlang einer ge­ raden Linie in der zur Zeichenebene senkrecht ver­ laufenden Symmetrieebene des Verdampfers.

Fig. 8 zeigt anhand des ausgezogenen mittleren Doppel­ pfeils das gleiche Ablenkmuster wie in Fig. 1. Werden die beiden ersten Spulen 27 (Linearspulen) mit Gleich­ spannung versorgt, so läßt sich je nach der Strom­ richtung eine Parallelverschiebung des Ablenkmusters in Richtung auf einen der gestrichelten Doppelpfeile vornehmen. Die Größe der Parallelverschiebung hängt dabei von der Stärke des Erregerstromes ab.

Fig. 9 zeigt, was mit dem Ablenkmuster nach Fig. 7 geschieht, wenn die ersten Spulen 27 (Linearspulen) mit einer Wechselspannung beaufschlagt werden, deren Frequenz größer ist als die Ablenkfrequenz für die Strahlbewegung in Längsrichtung des Verdampfertiegels 6. Das Ablenkmuster entspricht nunmehr der gestrichelten Sinuslinie. Ein solcher Ablenkvorgang kann auch als "Wobbeln" bezeichnet werden.

Fig. 10 zeigt, was mit dem ursprünglichen Ablenkmuster gemäß Fig. 7 geschieht, wenn die paarweise nebeneinander liegenden Hälften der zweiten Spulen 28 zu den paarweise nebeneinander liegenden anderen Hälften der zweiten Spulen 28 gegensinnig von Gleichstrom durchflossen werden. Das ursprünglich lineare Ablenkmuster bleibt linear, wird jedoch um den Mittelpunkt M des Verdampfer­ tiegels 6 um einen bestimmten Winkel gedreht. Eine solche Maßnahme kann beispielsweise dann sinnvoll sein, wenn das Ablenkmuster ursprünglich nicht parallel zu einer Längskante des Verdampfertiegels 6 verläuft, zum Zwecke einer optimalen Verdampfung jedoch in Parallelrichtung einjustiert werden soll.

In Fig. 11 wird gezeigt, was mit dem ursprünglich gerad­ linigen Ablenkmuster nach Fig. 7 geschieht, wenn die paar­ weise nebeneinander liegenden Hälften der zweiten Spulen und die gleichfalls paarweise nebeneinander liegenden anderen Hälften dieser Spulen gleichsinnig von Gleichstrom durchflossen werden. Bei einer solchen Maßnahme wird das Ablenkmuster in der Mitte M des Ver­ dampfertiegels 6 in Längsrichtung geknickt. Eine solche Maßnahme kann beispielsweise dann angewendet werden, wenn das Ablenkmuster ursprünglich nicht wie in Fig. 7 gezeigt, einen linearen Verlauf hat, sondern verzerrt ist. Durch entsprechende Schaltung und Versorgung der zweiten Spulen 28 läßt sich eine entsprechende Entzerrung durchführen.

Die Verhältnisse lassen sich noch durch ein entsprechendes Wickelmuster der zweiten Spulen 28 beeinflussen. Fig. 12 zeigt einen Fall, bei dem das ursprüngliche Ablenkmuster einen gekrümmten Verlauf hat (ausgezogener Doppelpfeil). Durch eine entsprechende Versorgung der zweiten Spulen analog Fig. 11 in Verbindung mit einer entsprechenden Verteilung der Wicklungsdichte pro Längeneinheit der Spulenkerne läßt sich eine Linearisierung des Ablenk­ musters erreichen, wie dies in Fig. 12 durch die ge­ strichelte Linie dargestellt ist. Auf diese Weise ist eine vollkommene Entzerrung möglich.

Die vorstehend beschriebenen Beeinflussungsmöglichkeiten des Ablenkmusters lassen sich sowohl einzeln als auch in Kombination anwenden, d.h. durch Oberlagerung der verschiedenen Ablenkmuster läßt sich nahezu jedes Ab­ lenkmuster auf der Oberfläche des Verdampfungsgutes er­ zeugen.

In Verbindung mit einer Ansteuerung der Magnetspule 19 durch einen Mikroprozessor läßt sich auch eine Aneinander­ reihung punktförmiger Auftreffstellen des Elektronen­ strahls gemäß Fig. 13 erzeugen, wobei bis zu 32 oder sogar 64 unterschiedliche Auftreffpunkte auf der Ober­ fläche des Verdampfungsguts herbeigeführt werden können. Durch entsprechende Oberlagerung von Magnet­ feldern durch die ersten Spulen 27 und die zweiten Spulen 28 lassen sich hinsichtlich der Lage der einzelnen Punkte wiederum verschiedene Beeinflussungen bzw. Korrekturen vornehmen. Sowohl die Positionen als auch die Verweilzeiten des Elektronenstrahls in den einzelnen Positionen sind praktisch frei programmierbar. Dadurch ist eine de­ finierte Energieverteilung, mit der die Schichtdicken­ gleichmäßigkeit beeinflußt wird, gleichfalls programmier­ bar.

Fig. 14 zeigt eine derartige Möglichkeit, hier können die Magnetspulen 19 des ersten Ablenksystems 7 und die erste Spule 27 des zweiten Ablenksystems 10 synchron an­ gesteuert werden. Dadurch ist eine zweidimensionale Positionsvorgabe des Auftreffpunkts des Elektronenstrahls möglich. Jede mögliche Positionskonfiguration ist auf diese Weise erreichbar und ein punktweises Entzerren einer gemäß Fig. 14 ursprünglich verzeichneten Strahl­ position ist ohne weiteres möglich.

Claims (5)

1. Elektronenstrahlverdampfer mit einem Elektronenstrahl­ erzeuger, einem ersten magnetischen Ablenksystem mit parallelen langgestreckten Polplatten für die lineare Strahlablenkung entlang einer ersten Ko­ ordinate, und mit einem zweiten magnetischen Ab­ lenksystem für die Strahlablenkung entlang einer zweiten Koordinate, die zur ersten Koordinate senkrecht steht, sowie mit einem langgestreckten Verdampfertiegel für die Aufnahme des zu ver­ dampfenden Materials, dadurch gekennzeichnet, daß

• a) das zweite magnetische Ablenksystem (10) zwei parallele, nicht-metallische Spulenkerne (11) aufweist, die parallel zu den Polplatten (8) des ersten Ablenksystems (7) verlaufen und in Strahlrichtung gesehen unter diesem angebracht sind,
• b) auf jedem Spulenkern (11) eine erste Spule (27) mit gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns und
• c) eine zweite Spule (28) mit zu den beiderseitigen Enden des Spulenkerns (11) zunehmender Windungs­ zahl pro Längeneinheit des Spulenkerns ange­ ordnet sind.

2. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweiten Spulen (28) als Kegel­ spulen ausgebildet sind.

3. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Spulen (27, 28) des zweiten Ablenksystems (10) in doppelwandigen, geschlossenen Ge­ häusen (12) untergebracht sind, die beiderseits des Strahlweges verlaufen.

4. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gehäuse (12) zylindrisch ausgebildet sind und daß ihre Achsen (A-A) parallel zu den Polplatten (8) des ersten Ablenksystems (7) verlaufen.

5. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Spulenkerne (11) exzentrisch in den Gehäusen (12) befestigt sind.