DE2815627C3 - Aufdampfquelle - Google Patents
AufdampfquelleInfo
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Description
25
30
Die Erfindung betrifft eine Aufdampfquelle gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Eine derartige Aufdampfquellc, wie sie zum Beschichten
von Gegenständen mit einem Überzug aus mehreren Substanzen verwendet wird, ist beispielsweise aus
der DE-PS 8 82 174 bekannt. Bei dieser bekannten Aufdampfquelle wird ein von einer einzigen über den Tiegeln
angeordneten Elektronenstrahlkanone erzeugter Elektronenstrahl von einer elektrostatischen Ablenkvorrichtung
abwechselnd auf die einzelnen in den nebeneinander angeordneten Tiegeln enthaltenen Substanzen
gelenkt, um so die zur Verdampfung nötige Energie zuzuführen.
Nachteilig an dieser bekannten Aufdampfquellc ist, daß die Substanzen aus den verschiedenen Tiegeln nur
dann gleichzeitig verdampft werden, wenn der Wechsel bO des Elektronenstrahls /wischen den Tiegeln ausreichend
schnell erfolgt, was aber ebenso wie der I !instand,
daß die Elektronenstrahlkanone einen der Anzahl zu beaufschlagender Tiegel entsprechend äußerst energiereichen
Elektronenstrahl liefern können muß. einen ho- bi hon technischen Aufwand erfordert.
Wenn Schichten mit unterschiedlichen, genau einzuhaltenden
Zusammensetzungen aufgedampft werden sollen, kann bei dem bekannten Gerät die Energiezufuhr
zu den einzelnen Tiegeln allenfalls durch Einstellung der Beaufschlagungszeitintervalle etwas beeinflußt
werden, kaum aber durch Regelung der Elektronenstrahlstärke.
Hierdurch wird es schwierig, Schichtzusammensetzungen mit sehr unterschiedlichen Konzentrationen
der einzelnen Substanzen zu verwirklichen. Außerdem besteht der Nachteil, daß die Elektronenstrahlkanone
und/oder die elektrostatische Ablenkvorrichtung die Tiegel gegenüber den zu bedampfenden
Substraten ganz erheblich abschatten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Aufdampfquelle der eingangs beschriebenen Gattung so
weiterzubilden, daß trotz Verwendung von eine Abschat tung vermeidenden Magnetfeldern für die Ablenkung
der Elektronenstrahlen eine sehr dichte und kompakte Anordnung bei individueller Regelungsmöglichkeit
und gleichzeitiger Vermeidung irgendwelcher gegenseitiger Störungen der zur Steuerung der Elektronenstrahlen
verwendeten Magnetfelder ermöglicht wird.
Zur Lösung dieser Aufgabe sind die Merkmale des Patentanspruchs I vorgesehen.
Aufgrund dieser Ausbildung wird gewährleistet, daß trotz enger und kompakter Anordnung der Tiegel in der
Weise, daß eine nahezu punktförmige Ai'fdampfquelle zur gleichzeitigen, individuell regelbaren Verdampfung
unterschiedlicher Substanzen vorliegt, ausreichend Platz, für die Unterbringung der individuell regelbaren
Elektronenstrahlkanonen zur Verfügung steht.
Gleichzeitig wird durch die Schirmwirkung der plattenförmigen Polschuhe erreicht, daß die einzelnen Teilbereiche,
in denen jeweils ein Magnetfeld zur Steuerung eines Elektronenstrahls im Vakuum verläuft, sehr weitgehend
voneinander entkoppelt sind, so daß eine Regelung eines einzelnen Elektronenstrahls sich praktisch
nicht auf benachbarte Elektronenstrahlen auswirkt, obwohl die einzelnen plattenförmigen Polschuhe nicht
zwischen benachbarte Tiegel erstrecken. Die magnetische Entkoppelung der Teilbereiche ermöglicht es. daß
gezielte magnetische Störungen zur Feinsteuerung des betreffenden Elektronenstrahls in einem dieser Teilbereiche
durch eine zusätzliche Steuervorrichtung überlagert werden können, ohne daß trotz des engen und
kompakten Gesamtaufbaus benachbarte Elektronenstrahlen dadurch störend beeinflußt werden.
Es ist /war bereits eine einzelne Elektronenstrahlquelle
zum Vakuumschmelzen bekannt (US-PS 32 70 233), die eine ringförmige Kathode aufweist, von
der Elektronen ausgehen, die durch eine gemeinsame Fokussicrungselektrode und eine darunter angeordnete
gemeinsame Anode mit einzelnen Durchlaßöffnungen zu einer Mehrzahl von Elektronenstrahlen zusammengefaßt
werden. Unter der Anode liegen zwischen Magnetspulen mit Magnetkernen senkrecht zur Elektronenstrahlrichtung
verlaufende Magnetfelder vor, welche alle Elektronenstrahlen zu einem das zu schmelzende
Metall enthaltenden Schmelztiegel lenken. Das Problem, verschiedene Tiegel mit tinterschiedlichen Sub
stanzen zu einer nahezu punktförmigcn Aufdamptquel-Ie
zusammenzufassen und ihnen individuell regelbar, aber kontinuierlich Energie /u/'iiuhren. ties tu Iv. dbi-i
bei dieser bekannten Λ nordnnnp nicht.
Weiter ist schon eint linienförmige Aiikl.>mpfquei!t
, mit einer Reihe vmi die gleiche Substanz enthaltenden
Tiegeln bekannt (DK-AS I 2 0β .IbO). bei der neben jedem
Tiegel etwa in gleiehei Hohe eine i-.lektronenstrahlkanone
angeordnet ist. die m< h /.iiMmin./n nut dem
Eugeordneten Tiegel zwischen je zwei plattenförmigen
magnetischen Polschuhen befindet Auch bei dieser bekannten Anordnung liegt nicht das Problem vor. eine
nahezu punktförmige Aufdampfquelle für verschiedene Substanzen zu schaffen; vielmehr soll im G sgenteil eine
einzige Substanz auf einem langen, limenförmigen Bereich
aufgedampft werden. Sowohl die Tiegel als auch die magnetische Ablenkvorrichtung nehmen somit einen
erheblichen Platz ein.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind durch die Unteransprüche gekennzeichnet
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung
beschrieben; in dieser zeigt
F i g. 1 eine Draufsicht auf eine Aufdampfquelle mit zwei Elektronenstrahlkanonen und zwei Tiegeln,
Fig.2 eine Seitenansicht längs der Linie 2-2 nach
Fig. 1,
F i g. 3 eine teilweise im Schnitt ausgeführte Seitenansicht längs der Linie 3-3 nach F i g. 1,
Fig.4 eine Draufsicht auf eine Aufdampfquelle mit
drei Elektronenstrahlkanonen und drei Tiegeln und
F i g. 5 eine Draufsicht auf eine Aufdampfungsquelle mit sechs Elektronenstrahlkanonen und sechs Tiegeln.
Die Fig. 1—3 geben eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Aufdampfquelle wieder.
Diese Ausführungsform umfaßt einen ersten Tiegel 11 und einen gleichartigen zweiten Tiegel 12. Der erste
Tiegel 11 besitzt zur Aufnahme von Material If 2, das
verdampft werden soll, eine kreisförmige Aufnahmevertiefung mit einer kegelstumpfartig verlaufenden Wand
111. Normalerweise erstreckt sich das Niveau des Materials
im Tiegel 11 nicht über eine Kante 113 beim oberen
Bereich der Wand 111. Oberhalb der Kante 113 verläuft
eine zweite kegelstumpfartig ausgebildete Wand 114.
Die Wand 114 bildet zur Aufnahme des Verdampfungsmaterials einen Trichter, hilft mit, den nach oben gerichteten
Dampfstrom zu begrenzen und schützt andere Bauelemente der Aufdampfungsquelle davor, daß sich
verdampftes Material daran ablagert. Alle Bauelemente der Aufdampfungsquellen liegen unterhalb der Oberseite
des Tiegels 11, welche durch den Rand 115 am oberen
Bereich der Wand 114 gebildet wird.
Die Tiegel 11 und 12 werden durch Materialentfernung
aus einem Vollblock 10 aus nicht magnetischem Material, wie es beispielsweise Kupfer ist. gebildet. Falls
es wünschenswert erscheint, kann der Block 10 in getrennte gleichartige Blöcke 101 und 102 unterteilt werden.
Die Kühlung des Blocks 101 wird dadurch bewirkt, daß man Wasser oder eine andere Flüssigkeit durch
einen Kanal 104 zirkulieren läßt, der an ein Paar Eintritts- und Austrittsanschlußelemente 105 angeschlossen
ist Der Block 102 wird durch eine in einem Kanal, der mit einem zweiten Paar von Anschlußelenienten 106
verbunden ist, bewirkte Flüssigkeitszirkulation gekühlt Die Blöcke 101,102 und die anderen Teile der Aufdampfungsquelle
sind durch irgendwelche geeignete Befestigungsmittel an einer Stützplatte 116 befestigt, die aus
geeigneten nicht-magnetischem Material, wie beispielsweise nicht-magnetischem rostfreien Stahl, hergestellt
ist.
Der Block 101 ist auch mit einer öffnung 120 mit drei
vertikal verlaufenden Wänden und einer vierten Wand ausgestattet welche die obere Wand 114 des Tiegels 11
schneidet. Die Öffnung 120 und der Tiegel 11 sind durch
eine horizontale Bank bzw. einen horizontalen Steg 121 getrennt, der eine sich verjüngenden Randbereich 122
besitzt. Um zu verhindern, daß ein Überlaufen erfolgt.
sollte das Niveau des geschmolzenen Materials im Tiegel
11 nicht den höchsten Teil der Bank 121 übersteigen. Eine erste Elektronenslrahlkanone 21 ist unterhalb
der Bank 121 angeordnet, wo sie vor dem vom Tiegel 11 nach oben strömenden Dampf geschützt ist Die Elektronenstrahlkanone
umfaßt einen im allgemeinen U-förmigen Faden 211, der durch elektrischen Strom aufgeheizt
und auf hohem negativen Potential gehalten wird. Der Faden 211 wird durch einen Strahlformer 212 teilweise
eingeschlossen, welcher ebenfalls auf hohem negativen Potential gehalten wird. Die emittierten Elektronen
werden durch eine Anode 213 beschleunigt, die normalerweise auf Erdpotential oder Masse gehalten
wird.
Der aus der Kanone 21 austretende erste Elektronenstrahl 71 ist vom Tiegel 11 horizontal weggerichtet. Unter
dem Einfluß einer magnetischen Ablenkvorrichtung 60 wird der Elektronenstrahl, wie es in F i g. 3 zu sehen
ist, längs eines gekrümmten Weges abgelenkt der nach oben durch die öffnung 120 quer über die Bank 121 und
dann nach unten auf einen Strahlaufschlagbereich 711 auf dem Material im Tiegel 11 verläuft. Auf gleiche Weise
wird ein zweiter Elektronenstrahl, der aus einer zweiten Elektronenstrahlkanone 22 austritt, längs eines gekrümmten
Weges zu einem zweiten Tiegel 12 abgelenkt.
Die Ablenkvorrichtung 60 umfaßt eine Vielzahl von Platten, deren Polausbildung durch eine Vielzahl von
Magneten erfolgt, deren Nord- und Südpole in besonderer Orientierung stehen. Alle Polschuhe sind aus einem
magnetischen Material gebildet, wie es beispielsweise magnetischer rostfreier Stahl ist. Alle Polschuhe sind
aus Platten hergestellt, die mit Ausnahme von Abschrägungen (311 und 411 an diejenigen Enden, die vom Magnet
51 weiter weg liegen) im allgemeinen rechteckig. Ein erster Nordpolschuh 31 und ein erster Südpolschuh
41 sind auf gegenüberliegenden Seiten einer ersten Kanone 21 angeordnet. Auf gleichartige Weise sind ein
zweiter Nordpolschuh 32 und ein zweiter Südpolschuh 42 an gegenüberliegenden Seiten einer zweiten Kanone
22 positioniert. Diejenigen Endbereiche des Nordpolschuhs 31 und des Südpolschuhs 42, die näher zu den
Tiegeln liegen, zeigen Zuspitzungen 312 bzw. 412, um zwischen der. zwei Polstücken einen breiteren Luftspalt
zu erhalten.
In der in den Fig. 1—3 gezeigten Ausführungsform
sind der erste Südpolschuh 41 und der zweite Nordpolschuh 32 durch eine erste magnetische Einrichtung, die
einen ersten Magneten 51 umfaßt, miteinander verbunden und gepolt. Der zweite Südpolschuh 42 und der
erste Nordpolschuh 31 sind durch eine zweite magnetische Einrichtung, die einen zweiten Magneten 52 umfaßt,
miteinander verbunden und gepolt. Nord- und Südpole der Magneten sind durch die Buchstaben N bzw. S
gekennzeichnet. Die Anordnung der Polschuhe und der Magneten wird so gewählt, daß die Ablenkvorrichtung
60 einen einzigen magnetischen Kreis besitzt, der durch die geschlossene Figur 61 angedeutet wird, welche eine
Linie des magnetischen Flusses darstellt Das sich ergebende Magnetfeld erstreckt sich in die Bereiche zwischen
jeder Elektronenstrahlkanone und dem zugeordneten Tiegel hinein und lenkt die Strahlen längs separater
gekrümmter Wege ab.
In der in der F i g. 1 gezeigten bevorzugten Ausführungsform
werden der erste Südpolschuh 41 und der zweite Nordpolschuh 32 aus Platten gebildet, deren Abmessungen
171,5 χ 63,5 χ 6,35 mm sind. Der zweite Südpolschuh
42 und der erste Nordpolschuh 31 werden
aus Platten gebildet, deren Abmessungen 95,25 χ 63.5 χ 6,35 mm sind. Die langen Polsehuhe 41
und 32 sind an entgegengesetzten Seiten der Kanonen 2t und 22 angeordnet, während die kurzen Polsehuhe 42
und 31 zwischen den Kanonen 21 und 22 liegen. Die langen Polsehuhe 41 und 32 erstrecken sich an entgegengesetzten
Seilen von Tiegeln 11 und 12 entlang, während sich die kurzen Polsehuhe 42 und 31 nicht zwischen
den Tiegeln 11 und 12 erstrecken. Der Winkel 62 zwischen den kurzen Polschuhen 31 und 42 ist angenähert
60°. Der Winkel 63 zwischen dem kurzen Polschuh 31 und dem langen Polschuh 41 ist angenähert 8". Der
Abstand an der Stelle größter Annäherung der Polsehuhe 31 und 41 ist 88,9 mm. Der Abstand zwischen den
Mittelpunkten der kreisförmigen Tiegel i! und 12 ist
76,2 mm. Der Horizontalabstand vom Faden 211 zum Mittelpunkt des Tiegels 11 ist 4t.14 mm. Die Magnete
51 und 52 sind auf ungefähr 0,044 Tesla bzw. 0,037 Tesla
magnetisiert (440 gauss and 370 gauss). Mit dieser Anordnung von Polschuhen, Magneten, Kanonen und Tiegeln
werden die Elektronenstrahlen von den Kanonen 21 und 22 so abgelenkt, daß sie in kleinen Bereichen
nahe den Mittelpunkten der zugeordneten Tiegel aufschlagen. Größe, Form und Stelle einer Aufschlagzone
variiert mit Änderungen in der Anordnung der Ablenkvorrichtung.
Eine Strahlschwenkvorrichtung bewirkt, daß die Elektronenstrahlen die Oberfläche des Verdampfungsmaterials überstreichen. Der erste Elektronenstrahl von
der Kanone 21 wird durch eine erste Strahlschwenkeinrichtung 81 über den Tiegel 11 hin- und hergeführt.
Gleichermaßen wird der zweite Elektronenstrahl von der Kanone 22 durch ein gleichartige /.weite Strahlschwenkeinrichtung
82 über den Tiegel 12 hin- und herbewegt. Wie sich aus F i g. 1 erkennen läßt, umfaßt die
Strahlschwenkeinrichtung 82 drei Spulen 821, 822 und 823. Die Spulen 821 und 823 besitzen parallele Achsen
und sind über und auf entgegengesetzten Seiten der Kanone 22 angeordnet. Die Spulen 821 und 823 sind in
Reihe mit einem Paar elektrischer Anschlüsse 824 geschaltet. Die Spule 822 erstreckt sich quer zwischen den
Spulen 823 und 821, womit ein im allgemeinen U-förmiger Aufbau gebildet wird, der sich zum Tiegel hin öffnet.
Die Spule 822 ist an ein Paar elektrischer Anschlüsse 825 angeschlossen. Wird ein geeignetes elektrisches Signal
an die Spulen 822 und 823 angelegt, dann wird der zweite Strahl seitlich in einer Richtung parallel zur Achse
der Spule 822 abgelenkt. Wenn an die Spule 822 ein geeignetes elektrisches Signal angelegt wird, erfolgt eine
Ablenkung des zweiten Strahls in Längsrichtung parallel zu den Achsen der Spulen 821 und 823. Die Sirahischwenkeinrichtungen
81 und. 82 arbeiten so, wie es in der US-PS 37 10 072 beschrieben ist.
Mit der besonderen Anordnung der magnetischen Einrichtung 60 und der Strahlschwenkvorrichtung wird
ein Minimum an Störung zwischen der Strahlschwenkeinrichtung des einen Strahls und der Ablenkung des
anderen Strahls erzielt. Bei einem Experiment mit der in F i g. 1 dargestellten Ausführungsform wurde die Ablenkung
der Aufschlagzone des zweiten Strahls im Tiegel 12 dann beobachtet, als der erste Strahl angenähert
36 mm von einer Seite des Tiegels 11 zur anderen geschwenkt wurde. Die Aufschlagfläche des zweiten
Strahls verschob sich angenähert um 2,5 mm in Längsrichtung, als der erste Strahl in Längsrichtung verschwenkt
wurde. Der zweite Strahl wurde nicht bemerkbar abgelenkt, als der erste Strahl in seitliche Richtung
verschwenkt wurde. Weitere Tests zeigten, daß die Strahlen nahezu senkrecht auf die Aufschlagsgebiete
einfielen, und daß die horizontale Lage eines Aufschlagsgebietes relativ unabhängig vom Niveau des geschmolzenen
Materials im Tiegel war.
F i g. 4 zeigt eine zweite Ausführungsform, die erste
und zweite Tiegel 11, 12, Eiektronenstrahlkanonen 21, 22, Nordpolschuhe 31, 32 und .Südpolschuhe 41, 42 umfaßt.
Zusätzlich sind ein dritter Tiegel 13, eine dritie Elektroncnstrahlkanone 23. ein dritter Nordpolschuh 33
und ein dritter Südpolschuh 43 vorgesehen, wobei diese Polsehuhe an entgegengesetzten Seiten der Elektronenstrahlkanone
23 angeordnet sind. Die Polsehuhe 41 und 33 sind mit größerer Länge ausgebildet und verlaufen
an den entgegengesetzten Seiten der Gruppe aus drei
\% Tiegel!1.. Die Polschuh? 31, 42, 32. 43 erstrecken sich
nicht zwischen die Tiegel U und 12 oder zwischen die Tiegel 12 und 13.
Bei dieser Ausführungsform umfaßt die Ablenkvorrichtung 60 einen eisten Südpolschuh 41 und einen
zweiten Nordpolschuh 33, die durch eine erste magnetische Einrichtung mit einem ersten Magneten 51 miteinander
verbunden sind. Der zweite Südpolschuh 43 und der erste Nordpolschuh 31 sind durch eine zweite magnetische
Einrichtung verbunden, die einen zweiten Magneten 52, Polstücke 42, 32 und einen dritten Magneten
53 umfaßt. Die Ablenkvorrichtung 60 bildet einen einzigen magnetischen Kreis, der durch eine Flußlinie 61
dargestellt ist. Das sich ergebende magnetische Feld lenkt die drei Elektronenstrahlen, die von den drei Kanonen
21 bis 23 herrühren, längs getrennter Wege zu den zugeordneten Tiegeln 11 — 13 ab. Die Aufdampfquelle
enthält auch Strahlenschwenkeinrichtungen 81 bis 83. die ähnlich wie die Strahienschwenkeinrichtungcn
der Ausführungsform nach Fig. 1 aufgebaut sind.
Die Linear- und Winkelabmessungen, und die Polstärkcn
der Magneten in der speziellen Ausführungsform nach F i g. 4 sind ebenso groß wie die zugeordneten Lincar-/Winkelabmessungen
und Polstärken der Ausführungsform nach Fig. 1.
In Fig. 5 ist eine dritte Ausführungsform wiedergegeben,
die eine Vielzahl von Elekironenstrahlkanonen
21 bis 26 und eine entsprechende Anzahl von Tiegeln 11
bis 16 umfaßt. Die Mittelpunkte der kreisförmigen Tiegel sind symmetrisch längs eines Kreises 110 angeordnet.
jedoch könnten die Tiegel auch längs einer unregelmäßien Figur angeordnet werden.
Eine magnetische Ablenkvorrichtung 60 bildet einen einzigen magnetischen Kreis 61, der zur Ablenkung der
Elektronenstrahlen von den Eiektronenstrahlkanonen längs getrennter Wege zum Verdampfungsmaterial ein
magnetisches Feld erzeug;. Die magnetische .Ablenkvorrichtung
60 umfaßt eine Vielzahl von Nordpolschuhen 31 bis 36. eine Vielzahl von Südpolschuhen 41 bis 46
und eine Vielzahl von Magneten 51 bis 56. Jeder folgende Südpolschuh ist mit dem nächstfolgenden Nordpolschuh
durch einen Magneten verbunden, so zum Beispiel durch den Magneten 51, der zwischen dem Südpolschuh
41 und dem Nordpolschuh 36 liegt. Ebenfalls enthalten ist eine Vielzahl von Strahlschwenkeinrichtungen
to 81 bis 86, die entsprechenden Eiektronenstrahlkanonen
21 bis 26 zugeordnet sind.
Bei allen erläuterten Ausführungsformen ist der Winkel (beispielsweise Winke! 62 in Fig. 1) zwischen dem
Südpol- und dem Nordpolstück, die zwischen zwei auf-
b5 einanderfolgenden Eiektronenstrahlkanonen angeordnet
sind, ungefähr 60°. Die Entfernung zwischen aufeinanderfolgenden Kanonen nimmt ab, wenn sich dieser
Winkel verkleinert. Jedoch erscheinen Winkel unter ei-
ner unteren Grenze von ungefähr 30° als wenig geeignet, da der dazwischengeschaltete Magnet sehr kurz
wird. Die Gesamtlänge einer Aufdampfquelle mil zwei
Elektronenstrahlkanonen nimmt zu, wenn der Winkel
größer wird.
wird. Die Gesamtlänge einer Aufdampfquelle mil zwei
Elektronenstrahlkanonen nimmt zu, wenn der Winkel
größer wird.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
10
15
20
25
30
35
45
50
60
65
Claims (5)
10
Patentansprüche:
1 Aufdampfquelle zum Verdampfen von mehreren verschiedenen, jeweils in einem eigenen Tiegel
enthaltenen Substanzen durch Elektronenstrahlbeschuß. wobei die einzelnen Tiegel unmittelbar nebeneinander
angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß für jeden Tiegel (11 bis 16)
eine eigene, in ihrer Leistung individuell steuerbare Elektronenstrahlkanone (21 bis 26) vorgesehen ist,
welche sich zwischen zwei als Platten ausgebildeten, entgegengesetzt gepolten magnetischen Polschuhen
(41,31; 42,32; 43, 33; 44,34; 45,35; 46,36) befindet,
und daß die nebeneinanderliegenden, entgegengesetzt gepolten Polschuhe (31, *2; 31, 43; 33, 42; 31,
46; 36: 45; 35, 44; 34, 43) benachbarter Elektronenstrahlkanonen
unter einem Winkel von größer als 30° zueinander angeordnet sind, sich nicht bis zwischen
unmittelbar nebeneinander angeordnete Tiegel (U bis 16) erstrecken und durch Magnete (51 bis
56) miteinander verbunden sind.
2. Aufdampfquelle nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß alle Elektronenstrahlkanonen (21
bis 26) unterhalb der Maximalhöhe (113) des Materials in jedem Tiegel (11 bis 16) angeordnet sind.
3. Aufdampfquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß alle Bauelemente der Ablenkvorrichtung
(60) unterhalb der Oberseite jedes Tiegels (11 bis 16) liegen.
4. Aufdampfquelle nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Einrichtung (81,82) zum Hin-
und Herschwenken der Elektronenstrahlen (71) vorgesehen ist.
5. Aufdampfquelle nach Anspruch 4, dadurch ge- J5
kennzeichnet, daß die nebencinanderliegenden, entgegengesetzt gepolten Polschuhe (31, 42; 31, 43; 33,
42; 31, 46; 36, 45; 35, 44; 34, 43) benachbarter Elektronenstrahlkanonen unter einem Winkel zwischen
30° und 90° zueinander angeordnet sind.
20
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-
1977
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