JPS60175355A - 電子ビ−ム蒸発装置 - Google Patents

電子ビ−ム蒸発装置

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JPS60175355A
JPS60175355A JP59226034A JP22603484A JPS60175355A JP S60175355 A JPS60175355 A JP S60175355A JP 59226034 A JP59226034 A JP 59226034A JP 22603484 A JP22603484 A JP 22603484A JP S60175355 A JPS60175355 A JP S60175355A
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coil
deflection
electron beam
deflection system
magnetic field
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1472Deflecting along given lines
    • H01J37/1474Scanning means
    • H01J37/1475Scanning means magnetic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野: 本発明は電子ビーム発生袋装置、第1座標軸に沿うビー
ムの右綱佃面のナーめの搭<′拡がス平行極板を有する
第1磁界偏向系および第1座標軸に対し垂直の第2座標
軸に沿うビーム偏向のための第2磁界偏向系ならびに蒸
発すべき材料を収容するための長く拡がる蒸発ルツボを
有する電子ビーム蒸発装置に関する。
従来の技術: 電子ビームはほぼ無慣性に偏向することができ、電子ビ
ームの衝突点または焦点は平面または曲面上で一定に動
かすことができる。電子ビームはX−Y座標軸系内で動
かしうるともいえる。テレビ装置の映像管はこのような
ビーム偏向のもつとも顕著な例の1つである。
しかし偏向した電子ビームを工業的製造過程に使用する
ことも公知である。たとえばほぼ上、 位概念の蒸発装
置に相当するもちろん円形の蒸発ルツボ内有する電子ビ
ーム蒸発装置が西独特許第2047138号公報によっ
て公知である。しかし同じ文献からビーム偏向によって
電子ビームの集束状態したがって衝突位置における出力
密度が不所望に変化されることも公知である。公知手段
は偏向パターンの補正によらずに滞留時間のみによって
この効果を補償することを目的としている。ビーム衝突
位置における集束状態の変化はルツボ中心からの距離の
増大とともに太ぎくなるので、公知手段は長く拡がる蒸
発ルツボすなわち長さが幅より少なくとも6倍大きいル
ツボには好結果をもって使用することができない。
西独公開特許公報第2812285号によっつで前記概
念′の電子ビーム蒸発装置が公知であり、この場合2つ
の磁界偏向系の協力作用によって電子ビームを一定の線
形パターン内で長く拡がる蒸発ルツボの表面にわたって
案内することができる。この場合蒸発ルツボの全長を加
熱しうるように、それぞれ蒸発ルツボの半分を加熱する
2つの電子ビーム発生装置を備えなければならない。基
材はこの場合つねに蒸発ルツボの上にあり、連続的に回
転される。蒸発ルツボ内の浴表面の走査周波数はこの場
合比較的重要でない。というのは基材が蒸気流中に十分
長く滞在し、基材を多数回回転する場合、被覆の十分な
均一性を達成しうるからである。
もう1つの問題は現在1通過で被覆する1000 m+
aまでの幅のプラスチックの帯またはシートを被覆する
除虫ずる。ルツボ全長を1つだけの電子ビームで照射す
るため大きい偏向角が必要である。通過する帯の長さ方
向における層厚変動を避けるため、所定の帯速度で電子
ビームの最小の偏向周波数が決定される。公知の電子ビ
ーム蒸発装置によればしかし帯の走行方向と直角方向に
十分均一な層厚分布を達成することはできない。それは
電子ビームの集束状態が大きい偏向角では許容外に変化
するからである。
さらに蒸発材料の表面上を電子ビームを案内する偏向パ
ターンは著しく歪み、この歪みは同様帯の走行方向と直
角の層厚分布の均一性に有害な影響をおよほす。
発明が解決しようとする問題点: 本発明の目的は集束状態が大きい偏向角の場Δ、 lf
J +j子 (出 署 ム I−−n +4’ 力 −
・) ふ−謬し −リ ノ Δ員にわたる均一な蒸気発
生に必要な蒸発材料内のエネルギー分布を達成しうるよ
うに、補正される前記概念の電子ビーム蒸発装置を得る
ことである。
問題点を解決するための手段二 この目的は前記電子ビーム蒸発装置において本発明によ
り a)第2磁界偏向系が2つの平行する非金属コイルコア
を有し、このコアが第1偏向系の極板と平行に走り、か
つこの系の下に設置され、b)各コイルコアにコイルコ
アの単位長さ当シ同じ巻回数の第1コイルおよび C)コイルコアの単位長さ当りコイルコアの両端の方向
へ増大する巻回数の第2コイルが配置されている ことによって解決される。
この場合第2コイルを円錐コイルとして形成するのが表
〈に有利であシ、これによってコイルコアの単位長さ当
りの巻回数はコアの中心から両端に向って直線的に増大
する。
作用: 本発明による第2磁界偏向系は補正系であり、これによ
って電子ビームの集束状態したがって偏向パターンを次
のとおシ制御することができる: 1、 電子ビームの直線偏向はルツボ面内で偏向運動の
中心点を中心に回転することができる。
2、電子ビームの偏向は糸巻形またはたる形歪の際、歪
を除去して直線化することができる。
6 電子ビームは偏向方向に対し垂直にずらすことがで
き、偏向にワープリングと称する周期的横振動を重畳す
ることさえできる。ワーブリングによっていわゆるオー
トフォーカシングにより過大になりうる電子ビームのエ
ネルギー密度を低下することができる。エネルギー密度
カー過犬な場合蒸発過程の間に不所望の飛散が生ずる。
本発明の他の有利な作用および変化可能性は以下に説明
する第7〜14図により明らかである。
他の有利な実施例は特許請求の範囲第2〜5項に記載さ
れる。
実施例: 本発明の実施例およびその種々の使用可能性を図面によ
シ説明する。
第2図にはたとえば西独特許第1248175号明細書
に記載されるような常用電子ビーム発生装置1の下部が
示される。ビーム案内管2の下端にビーム出口孔3があ
る。系の幾何学的軸したがってビーム通路は鎖線4で示
される。
ビーム出口孔30両側に2つのポールシュー5が面対称
に存在し、このシューは本発明による偏向系の一部では
なく、付加的に配置される。
このシューはたとえば電子ビーム発生装置1を蒸発ルツ
ボ6(第1図)の上に横にずらして配置しうるように、
電子ビームを約25°の角度偏向するためにのみ使用さ
れる。この手段はビーム案内管2へ場合によシ蒸気が侵
入するのを防ぐために役立つ。この場合動的ビーム偏向
とは何も関係がないあらかじめ調節した永久的ビーム偏
向であり、本発明は動的ビーム偏向の制御に関する。ビ
ーム出口孔3の下に長く拡がる2′つの平行の極板8を
有する第1磁界偏向系7が配置され、第2図には前方の
極板のみが見える。2つの極板は第2図の紙面と平行に
走り、すでにポールシュー5によって偏向された電子ビ
ームに対し対称的間隔を有する。電子ビームを第1偏向
系7により偏向しうる偏向角αは破線9で示される。
さらに第1偏向系7の下に第2磁界偏向系10があり、
この系は第2図には見えないコイルコア11を有し、こ
のコアは極板8と平行に2つの極板8の対称面でもある
中心面に対し対称に配置される。第2図には第2磁界偏
向系10のケーシング12の前面のみが見える。他の詳
細は第5および6図で説明する。
第1図には第2図と同じ部分は同じ参照番号で示される
。2つの極板8が互いに平行にかつ紙面と垂直に、太い
鎖線13によって示した中心ビーム通路の両側に対称的
に配置されていることが明らかである。さらに第2磁界
偏向系10のケーシング12が同様紙面に対し垂直に走
シ、またはその縦軸したがってコイルコアの縦軸が極板
8の対称面でもある対称面と平行に走ることが明らかで
ある。線13もこの対称面内にある。
ビーム通路の端部に長く拡がる蒸発ルツボ6があり、そ
の縦軸は紙面に対し垂直に走る。蒸発器の対称軸E−E
は細い鎖線で示される。
第1磁界偏向系の構造を第3および4図により詳細に説
明する。
極板8はそれぞれ1つの2重壁14を有し、とれによっ
て2つの接続口16から冷却液(水)を導くことができ
る。缶壁の外面は扁平な直方体に相当し、2つの壁14
はケーシング15と結合する。壁14およびケーシング
15内にU形に接合したフェライトからなる6つの板1
γまたは18が配置される。板18は極板のヨークを形
成し、これに2分割した磁石コイル19が配置される。
磁石コイル19に交流を送ると、極板8の間に相当する
周波数の交番磁場が発生する。それによって電子ビーム
は極板と平行に偏向される。ビーム通路は理想的場合極
板間の対称面内にある破線20によって示される。電子
ビームの中心位置は円21で示される。磁化電流の供給
は多極プラグ結合22によって行われるけれど、これは
常用構造のものなので詳細には説明しない。2つの2重
壁14は磁束線が妨げられず透過するように非磁性材料
にッケルクロム銅)からなる。
第5および6図には第2磁界偏向系100半分が示され
る。この第2偏向系の以下に詳述する部分は既述の中空
円筒ケーシング12内に収容され、このケーシングも冷
却液貫流のため同様2重壁に形成される。接続口23は
第6図にのみ示される。ケーシング1202重壁は自由
端が板24によって永久的に閉鎖され、他端に設けたリ
ングフランジ25に取りはずし可能のふた26がねじ結
合される。板24とふた26の間にコイルコア11が支
持され、このコアにコイルコア11の単位長さ当シ同じ
巻回数の第1コイル27が配置される。このコイルは図
面にはX印で明示される。それぞれのコイルは線形コイ
ルまたは円筒コイルとも称することができる。ケーシン
グ12は内外が気密に閉鎖され、すなわちガス、水およ
び水蒸気または他の液体の通過は阻止される。
この第1コイル27上に第2コイル28が配置され、こ
のコイルは第1コイルの中心からコイルコア11の両端
に向ってコイルコアの単位長さ当り増大する巻回数を有
する。もつとも簡単な場合第2コイル28は円錐コイル
として形成した2つのコイル半分からなり、すなわちこ
のコイルの外側巻線の包絡面はそれぞれ円錐面である。
コイルコア11は織物または紙の挿入体を有するロッド
または管状の絶縁材料からなる。このような材料はpe
rtinaxの商標で市販される。
コイル組合せができるだけ高い限界周波数を達成するた
め鉄心を有しないことが重要である。
本発明によるコイル装置はその全長にわたって電子ビー
ム通過範囲に特定の励磁電流による負荷に応じて円筒軸
と平行に完全に一定の漏洩磁界を発生し、その変化法お
よび作用は以下に詳細に説明する。第1コイル27の端
部および第2コイル28の2つのコイル半分の内側およ
び外側端部はいずれも多極プラグ結合29に通じるけれ
ど、これは技術水準なので詳述しない。
コイルコア11の縦軸がケーシング12の軸A−Aに対
し偏心配置されてし・ることか明らかである。第2偏向
系10のいうしよになる2つの半分を組立てる際、2つ
のコイルコア11がビーム通路の両側に互いにできるだ
け近くにあるように行われる。ケーシング12の互いに
最近接する円筒母線の距離はビーム運動および直径によ
ってあらかじめ与えられる。
第7〜14図には長く拡がる蒸発ルツボ6の平面図が示
され、この中に一般に溶解した蒸発材料が存在し、この
材料を電子ビームによって加熱し、蒸発させる。
第7図には記入した2重矢印によって電子銃の場合にめ
られる偏向パターンが示される。
このような偏向パターンを得るため磁石コイル19(第
6および4図)は適当な周波数の交流電圧で制御される
。電子ビームの衝突点(焦点)はこの場合蒸発器の紙面
に対し垂直に走る対称面内の直線に沿って動く。
第8図には中央の実線の2重矢印により第7図と同じ偏
向パターンが示される。2つの第1コイル27(線形コ
イル)に直流電圧を印加すると、電流方向に応じて破線
で示す2重矢印の1つの方向に偏向パターンが平行摺動
する。平行摺動の大きさはこの場合励磁電流の強さに依
存する。
第9図は第1コイル27(線形コイル)に蒸発ルツボ6
の長さ方向のビーム運動のための偏向周波数より大きい
周波数の交流電圧を印加する際第7図の偏向パターンの
変化を示す。偏向パターンはこの場合破線で示すサイン
曲線に相当する。このような偏向過程ば゛°ワープリン
グ′。
とも称される。
第10図は第2コイル28の互いに隣接スる半分の組ご
とに、第2コイル28の互いに隣接する他の半分の組に
反対方向の直流を流す場合、第7図による初めの偏向パ
ターンの変化を示す。初めの直線偏向パターンは直線に
留まるけれど、蒸発lレツボ6の中心点Mを中心に一定
角度回転する。このような手段はたとえば偏向パターン
が初め蒸発ルツボ6の側縁と平行に走らず、最適の蒸発
のため平行方向に調節したい場合有利である。
第11図には第2コイルの互いに隣接する半分の組およ
びこのコイルの同様圧いに隣接する他の半分の組に同方
向の直流を流す場合、第7図の初めの直線的偏向パター
ンの変化を示す。
このような手段によシ偏向パターンは蒸発ルツボ6の中
心Mで縦方向に折れる。このような手段はたとえば偏向
パターンが第7図に示すような直線的経過を有さす、歪
んでいる場合に使用される。適当な第2コイル28の回
路および電流供給により適当な歪み除去を実施すること
ができる。
状態はさらに第2コイル28の適当な巻線パターンによ
って制御することができる。第12図は初めの偏向パタ
ーンが彎曲した経過(実線の2重矢印)を有する場合を
示す。第11図と同様第2コイルの適当な電流供給によ
りコイルコアの単位長さ当りの巻線密度の適当な分布と
ともに、第12図に破線で示すように偏向パターンの直
線化を達成することができる。この方法で完全な歪除去
が可能である。
偏向パターンの前記制御法は個々にも組合せでも使用す
ることができ、すなわち種々の偏向パターンの重畳によ
って蒸発材料の表面にほぼすべての偏向パターンをつく
ることができる。
マイクロプロセッサによる磁石コイル19の制御と関連
して第16図による電子ビームの点状衝突位置の列をつ
くることもでき、その際62または64までの種々の衝
突点を蒸発材料の表面上に案内することができる。第1
コイル27および第2コイル28による磁界の適当な重
 、畳によって個々の点の位置を種々に制御し、まおよ
び個々の位置の滞留時間もほぼ自由にプログラムするこ
とができる。それによって層厚均一性を制御する一定の
エネルギー分布を同様プログラムすることができる。
第14図はこのような方法を示し、この場合第1偏向系
7の磁石コイル19および第2偏向系10の第1コイル
27は同期的に制御される。それによって電子ビームの
衝突点の位置は2次元的に決定される。すべての可能な
位置の形がこの方法で達成され、第14図による初めの
歪んだビーム位置を点ごとに歪み除去することは容易に
可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は蒸発ルツボを有する電子ビーム発生装置の縦断
面図、第2図は第1および第2偏向築ty有寸ス雷半ビ
ー八冷葎誌晋の笛11ffixす而の斜視図、第6図は
第1偏向系の一部の水平断面図、第4図は第6図偏向系
の2つの平行極板の垂直断面図、第5図は第2偏向系の
半分の垂直断面図、第6図は第5図偏向系の平面図、第
7図〜第14図は電子ビームの種々の偏向パターンの図
である。 1・・・電子ビーム発生装置、2・・・ビーム案内管、
3・・・ビーム出口孔、5・・・ポールシュー、6・・
・蒸発ルツボ、7・・・第1磁界偏向系、8・・・極板
、10・・・第2磁界偏向系、17,18・・ヨーク、
19・・磁石コイル、27・・・線形コイル、28・・
・円錐コイル 図面の浄よ(内壱番ご変更なし) 1・・電↓ビーへ亦生茗1 6・萬養ル、窪・・ 2V fs形ココイ ル2 円4亀フィ、し 手続補正書(方式) 昭和60年3月ノ2日 特許庁長官殿 1・事件の表示 昭和59年特許願第226034号2
、発明の名称 電子ビーム蒸発装置 3 補正をする者 事件との関係 特許用j頭人 名 称 ライ]τルト−へレーウス・ゲゼル/ヤフト・
ミツト・べ/ニレ/クテル・ハフノ/グ4、代理人 6、補正の対象

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 電子ビーム発生装置、第1座標軸に沿うビームの
    直線偏向のための長く拡がる平行極板を有する第1磁界
    偏向系および第1座標軸に対し垂直の第2座標軸に沿う
    ビーム偏向のための第2磁界偏向系ならびに蒸発すべき
    材料を収容するための長く拡がる蒸発ルツボを有する電
    子ビーム蒸発装置において、 a)第2磁界偏向系(10)が平行する2つの非金属コ
    イルコア(11)を有し、このコアが第1偏向系(7)
    の極板(8)と平行に走り、かつ第1偏向系の下に配置
    され、b) 各コイルコア(11)にコイルコアの単位
    長さ当υ同じ巻回数の第1コイルおよびC)コイルコア
    の単位長さ当シコイルコア(11)の両端に向って巻回
    数が増大する第2ことを特徴とする電子ビーム蒸発装置
    。 2、第2コイ/I/(28)が円錐コイルとして形成さ
    れている特許請求の範囲第1項記載の装置。 6 第2偏向系(10)のコイル(27,28)が2重
    壁の閉鎖したケーシング(12)内に配置され、このケ
    ーシングがビーム通路の両側を走っている特許請求の範
    囲第1項記載の装置。 4、 ケーシング(12)が円筒形に形成され、その軸
    (A−A)が第1偏向系(7)の極板(8)と平行に走
    る特許請求の範囲第6項記載の装置。 5、 コイルコア(11)がケーシング(12)内に偏
    心して固定されている特許請求の範囲第6項記載の装置
JP59226034A 1983-10-28 1984-10-29 電子ビ−ム蒸発装置 Granted JPS60175355A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833339131 DE3339131A1 (de) 1983-10-28 1983-10-28 Elektronenstrahlverdampfer mit mindestens zwei magnetischen ablenksystemen
DE3339131.9 1983-10-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60175355A true JPS60175355A (ja) 1985-09-09
JPH0524616B2 JPH0524616B2 (ja) 1993-04-08

Family

ID=6212954

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59226034A Granted JPS60175355A (ja) 1983-10-28 1984-10-29 電子ビ−ム蒸発装置

Country Status (6)

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US (1) US4611330A (ja)
JP (1) JPS60175355A (ja)
CH (1) CH661288A5 (ja)
DE (1) DE3339131A1 (ja)
FR (1) FR2554969B1 (ja)
GB (1) GB2149201B (ja)

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