DE2917841A1 - Verdampfer fuer vakuumaufdampfanlagen - Google Patents
Verdampfer fuer vakuumaufdampfanlagenInfo
- Publication number
- DE2917841A1 DE2917841A1 DE19792917841 DE2917841A DE2917841A1 DE 2917841 A1 DE2917841 A1 DE 2917841A1 DE 19792917841 DE19792917841 DE 19792917841 DE 2917841 A DE2917841 A DE 2917841A DE 2917841 A1 DE2917841 A1 DE 2917841A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- crucible
- steam
- recesses
- guide device
- evaporator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 title claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 15
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 15
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 241000219793 Trifolium Species 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000010006 flight Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
3. Apri11979 79503
-X-
LEYBOLD-HERAEUS GmbH
Bonner Straße 504
Bonner Straße 504
5000 Köln - 51
Verdampfer für Vakuumaufdampfanlagen
Die Erfindung bezieht sich auf einen Verdampfer für V
aufdampfanlagen, insbesondere Elektronenstrahl verdampfer, mit einem Tiegel und mehreren in eine Verdampfungsposition bewegbaren
Tiegelausnehmungen sowie mit einer Dampfleiteinrichtung
und einer Blende für die Unterbrechung des Dampfstromes.
0300A6/0226 _ 5 _
3. April 1979 78503
Die von Verdampfern ausgehenden sogenannten Dampfstrahlen sind verhältnismäßig diffus und breiten sich in Form einer
Dampfkeule aus, wobei es unvermeidbar ist, daß auch andere Flächen als die zu bedampfenden Substratflächen einen
Dampfniederschlag erhalten. Es ist bekannt, Dampfstrahlen durch Dampfleiteinrichtungen, Reflektoren etc. zu konzentrieren bzw. umzulenken, die dem betreffenden Verdampfer
fest zugeordnet sind. Hierbei ist es recht unproblematisch, daß der Dampf auf der Leiteinrichtung kondensiert. Auch kann
durch ein entsprechendes Temperaturniveau der Dampfleiteinrichtung dafür Sorge getragen werden, daß sich kein
Dampfkondensat bildet.
Schwierigkeiten treten jedoch dann auf, wenn sogenannte Mehrnapftiegel zum Einsatz kommen, aus denen unterschiedliche
kontaminieren dürfen. Eine derartige Notwendigkeit ist beispielsweise beim Aufdampfen von sogenannten Interferenzschichtsystemen aus Einzelschichten mit unterschiedlichen
Brechungsindices bei optischen Erzeugnissen, oder beim Auf
dampfen von abwechselnd leitfähigen und isolierenden Schichten
bei elektronischen Erzeugnissen gegeben.
Zur Unterdrückung der gegenseitigen Kontamination der
einzelnen Aufdampfsubstanzen ist es bei einem Verdampfer mit einem Mehrnapftiegel, jedoch ohne Leiteinrichtung, bekannt,
oberhalb des Tiegels eine Abschirmplatte anzuordnen, die an der Stelle mit einer öffnung versehen ist, an der sich eine
dejr Tiegelausnehmungen in der Verdampfungsposition befindet,
030046/0226
.._ — 6 — -
3. April 1979 79503
während die Projektion der Abschirmplatte die übrigen Tiegelausnehmungen abdeckt. Abgesehen von dem Verzicht auf
die Dampfleiteinrichtungen läßt sich hierbei eine wechselseitige Verunreinigung der Verdampfungssubstanzen nicht
verhindern, da wegen der Beweglichkeit des Mehrnapftiegels
zwischen diesem und der Abschirmplatte ein, wenn auch
enger, Spalt vorhanden ist, durch den Material zur benachbarten Substanz hinüber dampfen kann. Außerdem kondensiert
auf der Abschirmplatte ein Teil des Dampfes, der in die
benachbarte Substanz gelangen kann.
Eine weitere Gefahr wechselseitiger Verunreinigung entsteht durch die in den Dampfstrom einschwenkbare Blende,
auf der unvermeidbar ein Teil des Dampfes kondensiert. Nach Erreichen einer mehr oder weniger großen Schichtstärke
beginnt der Belag auf der Blende, sich abzuschälen, wobei nicht auszuschliessen ist, daß Partikel einer oder mehrerer
Substanzen in den iiegelnapf mit einer anderen Substanz fallen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Verdampfer
der eingangs beschriebenen Art anzugeben, mit dem mehrere
unterschiedliche Substanzen ohne wechselseitige Kontamination
quantitativ nacheinander verdampft werden können.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs beschriebenen Verdampfer erfindungsgemäß dadurch, daß oberhalb des Tiegels eine Dampfleiteinrichtung mit mehreren
Dampfschirmen vorgesehen ist, die einzeln auf den Rändern
Q30046/0226
3. April 1979 79503
der Tiegelausnehmungen durch Relativbewegung zwischen Dampfleiteinrichtung und Tiegel absetzbar sind, daß die Blende
mehrere Blendenflügel aufweist, die einzeln über den jeweils in der Verdampfungsposition befindlichen Dampfschirm bewegbar sind, und daß der Dampfleiteinrichtung und der
Blende Antriebe zugeordnet sind, durch welche einer bestimmten Tiegelausnehmung jeweils der gleiche Dampfschirm
bzw. der gleiche Blendenflüge! zuzuordnen ist.
Mit der erfindungsgemäßen Lösung ist der Vorteil verbunden, daß einander jeweils nur die gleichen Teile (Tiegelausnehmungen,
Dampfschirme und BlendenflUgel) zugeordnet werden können, auf
denen gegebenenfalls Kondensate der gleichen Verdampfungssubstanz zu finden sind. Infolge der Auflage der Dampfleiteinrichtung auf dem Rand der Tiegelausnehmung wird jeglicher
seitliche Spalt zuverläßig geschlossen, durch den Dampfpartikel diffundieren könnten. Es sind weder ein Hinüberdampfen
noch eine Rückdiffusion von aufgedampften Schichten auf andere Materialien möglich. Verdampfertiegel, Dampfschirm und Blendenflügel bilden hierbei einen weitgehend geschlossenen Raum. Dadurch ist es möglich, zwei oder mehr unterschiedliche Substanzen
ohne gegenseitige Beeinträchtigung der Schichtqualitäten
auf den Substratflächen niederzuschlagen.
Beim Weiterschalten von Tiegel, Dampfleiteinrichtung und Blende wird im allgemeinen eine kurze Zeitspanne gewartet,
bis der Inhalt der betreffenden Tiegelausnehmung soweit abgekühlt ist, daß kein Dampfstrom mehr gebildet wird. Der Erfindungsgegenstand läßt sich jedoch dadurch vorteilhaft
weiter ausgestalten, daß oberhalb des Tiegels eine Abschirm-
0300A6/022 6
3. April 1979 79503
platte angeordnet ist, die an der Stelle mit einer Öffnung
versehen ist, an der sich eine der Tiegel ausnehmungen in der Verdampfungsposition befindet, während die Projektion
der Abschirmplatte die übrigen Tiegelausnehmungen abdeckt,
und daß die Dampfschirme einzeln durch die Öffnung der Abschirmplatte hindurch auf den Rändern der Tiegelausnehmungen
absetzbar sind. Durch diese Maßnahme läßt sich eine raschere Fortschaltung von Tiegel, Dampfleiteinrichtung und Blende
erreichen, da ein Abkühlen der gerade erst verdampften Substanz nicht mehr abgewartet zu werden braucht.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgegenstandes
sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes und seine
Einzelheiten werden nachfolgend anhand der Figuren 1 bis näher beschrieben.
Es zeigen:
Figur 1 eine perspektivische Darstellung einer vollständigen
Vakuumaufdampfanlage mit einem erfindungsgemäßen Verdampfer,
Figur 2 einen Querschnitt durch den Verdampfertiegel
und die oberhalb angeordnete Abschirmplatte und
Figur 3 eine perspektivische Explosionsdarstellung der
wesentlichen Antriebsteile für die Dampfleiteinrichtung
und für die Blende.
030046/0226
3. April 1979 79503
In Figur 1 ist eine Vakuumkammer 10 dargestellt, die aus einer anhebbaren Glocke 11 und aus einer Grundplatte 12
besteht und über eine Saugöffnung 13 mittels eines nicht dargestellten Pumpsatzes evakuierbar ist. Unterhalb der
Grundplatte 12 befindet sich ein Druckmittelantrieb 14 mit einer nicht dargestellten Kolbenstange, die innerhalb
eines Faltenbalges 15 verläuft und mit einer waagrechten Plattform 16 verbunden ist, so daß diese bei
Betätigung des Druckmittelantriebs 14 in senkrechter Richtung bewegbar ist.
Auf der Plattform 16 ist ein Elektronenstrahl verdampfer angeordnet, der in seinen wesentlichen Teilen Stand der
Technik ist und daher nicht näher beschrieben zu werden braucht. Einzelheiten eines solchen Verdampfers sind der
DE-PS 22 06 995 zu entnehmen. Beim Betrieb eines derartigen Elektronenstrahl Verdampfers wird ein Elektronenstrahl 18
erzeugt, der in Richtung auf einen drehbaren Tiegel 20 abgelenkt wird, der unterhalb einer Abschirmplatte 19 angeordnet
und im vorliegenden Fall mit drei auf einem Kreis angeordneten Tiegelausnehmungen 21, 22 und 23 versehen ist.
Die Abschirmplatte 19 ist an einer Stelle mit einer öffnung 24 versehen, an der sich die Tiegelausnehmung 21 in der
Verdampfungsposition befindet. Der Querschnitt der öffnung 24 ist dabei geringfügig größer als der obere Querschnitt
der Tiegelausnehmungen. Die Anordnung ist dabei so getroffen, daß jede der Tiegelausnehmungen zum Fluchten mit
der öffnung 24 gebracht werden kann. Durch die Abschirmplatte 19 werden die übrigen Tiegelausnehmungen 22 und 23
abgedeckt, während sich die Tiegelausnehmung 21 in ihrer Ver-
030046/0226
- ίο -
3. April 1979 79503 /fO
dampfungsposition befindet. Wie speziell aus Figur 2 hervorgeht, ist der Tiegel 20 mit einem Zahnrad 25 versehen,
in welches ein Ritzel 26 eingreift, welches mit einer nicht dargestellten Antriebswelle verbunden ist. Die
Steuerung bzw. der Antrieb des Ritzels 26 erfolgen gleichfalls durch den Faltenbalg 15 hindurch.
Seitlich neben der Plattform 16 ist eine senkrechte Welle 27 angeordnet, an deren oberem Ende eine Dampfleiteinrichtung 28 angeordnet ist. Diese besteht aus einer waagrechten
schirmen 31, 32 und 33, wobei der Mittelpunkt des Kreises
durch die Welle 27 bestimmt wird. Die Dampfschirme sind als hohle Umdrehungskörper, speziell als Hohlkegel ausge-.
bildet, deren kleinere Öffnung nach unten gerichtet ist.
die Tiegelausnehmungen 21, 22 und 23 sowie auf die öffnung
abgestimmt, daß die Dampfschirme einzeln durch die Öffnung hindurch auf den Rändern der Tiegelausnehmungen absetzbar
sind. Dies geschieht im vorliegenden Falle dadurch, daß
bei definierter Winkelstellung der Dampfleiteinrichtung 28
die Plattform 16 und damit der Elektronenstrahlverdampfer
mittels des Druckmittelantriebs 14 angehoben und von unten
gegen den betreffenden Dampfschirm 31 gepreßt werden. In den Dampfschirmen ist je ein Fenster 30 angeordnet, durch
welches der Elektronenstrahl 18 in die jeweilige Tiegelausnehmung einschießbar ist. In der Tiegelausnehmung befindet
sich die jeweils zu verdampfende Substanz. Der sich beim Beschüß dieser Substanz mit dem Elektronenstrahl 18 ausbildende Dampfstrahl 34 ist durch gestrichelte, divergierende
030046/0226
3. April 19 79 79503
Linien dargestellt. Der Dampfstrahl trifft auf nicht dargestellte Substrate auf, die an einem gleichfalls nicht dargestellten
Substrathalter befestigt sind, der sich oberhalb des Elektronenstrahl Verdampfers 17 befindet.
Auf der der Welle 27 gegenüberliegenden Seite der Plattform 16 ist eine weitere senkrechte Welle 35 angeordnet,
an deren oberem Ende sich eine Blende 40 befindet. Diese besteht aus einer waagrechten Platte mit drei Blendenflügeln
41, 42 und 43, die nach Art eines Kleeblattes in der Weise geformt sind, daß sie in der dargestellten Stellung die
obere Öffnung des in Verdampfungsposition befindlichen
Dampfschirms 31 freilassen, diese Öffnung jedoch nach Drehung der Welle 35 um einen Winkel von 60 Grad praktisch
vollständig ve rs chiiessen können.
Die Platte 29 und die Blendenflügel 41, 42 und 43 liegen
in zwei parallelen Ebenen, wobei die Blendenflügel so dicht oberhalb der Dampfschirme 31, 32 und 33 angeordnet
sind, daß gerade eben eine ungehinderte Bewegung der Teile zueinander möglich ist.
Sowohl der Welle 27 als auch der Welle 35 sind Antriebe und 37 zugeordnet, die in Figur 3 im Detail dargestellt sind.
In Figur 1 ist nur der Antrieb 37 der Welle 35 in gekapseltem Zustand dargestellt. Mittels dieser Antriebe sind die Wellen
bzw. 35 in der Weise in Drehung versetzbar, daß die Dampfleiteinrichtung
28 schrittweise um Winkel von 120 Grad drehbar ist, wohingegen die Welle 35 in Schritten von 60 Grad drehbar
030046/0226
- 12 -
3. April 1979 79503
ist, je nachdem, ob der Dampfstrahl 34 frei gegeben oder
gesperrt werden soll. In jedem Fall wird durch die Synchronisation der Antriebe 36 und 37 sowie ihrer nicht
dargestellten Steuerelemente dafür Sorge getragen, daß
jeweils nur die gleichen Kombinationen von Tiegelausnehmung, Dampfschirm und Blendenflügel zusammenwirken,
nämlich 21/31/41 bzw. 22/32/42 bzw. 23/33/43. Hierdurch treffen jeweils nur Teile zusammen, deren Oberflächen mit
der gleichen, aufzudampfenden Substanz beschichtet sind, so daß auch ein etwaiges Abplatzen von Oberflächenschichten
und deren Hineinfallen in die betreffende Tiegel ausnehmung nicht zu einer Kontamination der Verdampfungssubstanz
führen können. Auf die angegebene Weise ist weder eine Beheizung der Dampfschirme noch der Blendenflügel
zur Verhinderung einer Kondensation erforderlich. Dieser Verzicht auf eine Beheizung ist deswegen von besonderer
Bedeutung, weil für eine Kondensations verhinderung der meisten Stoffe erhebliche Oberflächentemperaturen erforderlich
wären, die in den meisten Fällen eine unzulässige Wärmebeanspruchung der Substrate und der gesamten Anlage
mit sich bringen würde.
Gemäß Figur 3 ist an der rechten Welle 27, die hier nur als gestrichelte Linie dargestellt ist, ein Antrieb 36 befestigt,
der als Klinkengetriebe mit einer Klinke 44 und mit einem
Klinkenrad 45 ausgeführt ist. Das Klinkenrad 45 besitzt eine gerade Zahl von Zähnen 46, die ein ganzzahliges Vielfaches
der Zahl der Tiegelausnehmungen ausmachen. Bei drei Tiegel ausnehmungen werden zweckmäßig sechs Zähne auf dem
0300A6/0226
- 13 -
3. April 1979 79503
-MT-
-Au-ffang des Klinkenrades gleichförmig verteilt vorgesehen,
so daß das Klinkenrad 46 für die Dampfleiteinrichtung 28 beispielsweise
in zwei Schritten um 120 Grad gedreht werden kann.
Zu diesem Zweck befindet sich die Klinke 44 in einem Klinkenhalter
47, der am Ende einer Kolbenstange 48 eines Druckmittelzylinders
49 angeordnet ist. Der Druckmittelzylinder 49
ist am jenseitigen Ende mittels eines senkrechten Zapfens 50 an einer Lagerplatte 51 befestigt, die ihrerseits über
eine Stütze 52 an der Grundplatte 12 (Figur 1) befestigt ist. Auf diese Weise ist der Druckmittelzylinder 59 um den
Zapfen 50 in einer Ebene schwenkbar, die parallel zur Ebene des Klinkenrades 45 verläuft. Die Schwenkbewegung geschieht
entgegen der Wirkung einer Feder 53, durch welche die Klinke 44 radial gegen das Klinkenrad 45 verspannt
wird. Durch einfache Hin- und Herbewegung der Kolbenstange 48 wird das Klinkenrad 45, und mit ihm die Welle 27 schrittweise
in Richtung des Pfeils 54 gedreht. Die Schrittlänge, als Drehwinkel ausgedrückt, von 60 Grad gestattet eine
optimale Auslegung des Antriebs.
Um das Klinkenrad 45 am Ende eines jeden Einzelschritts
definiert anhalten zu können, und um zu verhindern, daß das Klinkenrad von der Klinke 44 in Rückwärtsrichtung mitgenommen
wird, ist das Klinkenrad 45 fest mit einem Indexrad verbunden, welches mit Ausnehmungen 56 versehen ist, deren
Zahl der Zahl der Zähne 46 entspricht. In die Ausnehmungen 56 ist eine Indexrolle 57 einrastbar, die auf einem Zapfen 58 gelagert
030046/0226
- 14 -
3. April 1979 79503
ist, der in eine Bohrung 59 eines Gleitkörpers 60 eingesetzt ist. Der Gleitkörper 60 ist seinerseits längsverschiebbar in ein Gehäuse 61 eingesetzt, welches ortsfest
an der Grundplatte 12 befestigt ist. Der Gleitkörper 60 wird mittels einer Feder 62 in radialer Richtung gegen
das Indexrad 55 geschoben, wodurch eine zuverlässige Verrastung ermöglicht wird. Die Feder 62 ist mittels einer
Verschlußschraube 63 zugänglich und einstellbar. Für den Antrieb 37 der links daneben angeordneten Welle 35 werden
grundsätzlich die gleichen Elemente verwendet, lediglich in spiegelsymmetrischer Anordnung. Aus diesem Grund werden
die gleichen Bezugszeichen lediglich mit dem Zusatz "a" verwendet, d.h. die Bezugszeichen 44a bis 63a. Es ist zu
erkennen, daß das Gehäuse 61a mit einem Gehäuse 64 ver
schraubt ist, welches seinerseits über einen Rohrstutzen
65 mit der Grundplatte 12 verschraubt ist.
Die Erfindung ist nicht auf Elektronenstrahlverdampfer beschränkt, sondern für sämtliche Verdampferarten unabhängig
von deren Beheizung einsetzbar, wie beispielsweise für Wider-
Standsverdampfer, Lichtbogenverdampfer, Induktionsverdampfer
und Laserstrahlverdampfer. Die Tiegelausnehmungen müssen nicht
notwendigerweise in einem gemeinsamen Tiegel angeordnet sein, sie können auch auf zwei oder mehrere Tiegel verteilt sein.
So ist eine Anordnung mehrerer Tiegel in einer Revolverein
spannung möglich, oder eine Reihenanordnung mehrerer Einzel
tiegel mit einer oder mehreren Tiegelausnehmungen, die nacheinander in ihre Verdampfungsposition gebracht werden können.
Unter dem Ausdruck "Tiegelausnehmungen" sind sämtliche Vertiefungen in den betreffenden Verdampfern zu verstehen, die
zur Aufnahme des Verdampfungsmaterials in fester oder flüssiger
030046/0226
- 15 -
3, April 1979 79503
Form vorgesehen sind. Als Tiegel werden infolgedessen auch solche Widerstandsverdampfer Bezeichnet, die aus einem entsprechend
geformten Blechstreifen bestehen und zwischen stromführenden Kontakten eingespannt sind, ohne daß eine
Wasserkühlung vorgesehen wäre.
030046/0226
Claims (1)
- 3. April 1979 79503ANSPRÜCHE:1. Verdampfer für Vakuumaufdampfen!agen, insbesondere Elek-mindestens tronenstranlverdampfer, mit einem Tiegel und mehreren in eine Verdampfungsposition bewegbaren Tiegel ausnehmungen sowie mit einer Dampfleiteinrichtung und einer Blende für die Unterbrechung des Dampfstromes, dadurch gekenn zei chnet, daß oberhalb des Tiegels (20) eine Dampfleiteinrichtung (28) mit mehreren Dampfschirmen (31, 32, 33) vorgesehen ist, die einzeln auf den Rändern der Tiegelausnehmungen (21, 22, 23) durch Relativbewegung zwischen Dampfleiteinrichtung und Tiegel absetzbar sind, daß die Blende (40) mehrere Blendenf 1 iigel (41, 42, 43) aufweist, die einzeln über den jeweils in der Verdampfungsposition befindlichen Dampfschirm bewegbar sind, und daß der Dampfleiteinrichtung (28) und der Blende (40) Antriebe (36, 37) zugeordnet sind, durch welche einer bestimmten Tiegelausnehmung jeweils stets der gleiche Dampfschirm bzw. der gleiche Blendenflügel zuzuordnen ist.2. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daßdie Dampfschirme (H, 32, 33) und Blendenflügel (41, 42, 43) nach Art von Revolvern rotationssymmetrisch an Wellen (27, 35) befestigt sind.3. Verdampfer nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet,030046/0226™" C. "™3. April 1979 79503daß die Dampfschirme (31, 32, 33) als hohle Umdrehungskörper ausgeführt sind.4. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Tiegel (20) von unten gegen die Dampfleiteinrichtung(28) bewegbar ist.5. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Antriebe (36 bzw. 37) für die Dampfleiteinrichtung (28) bzw. die Blende (40) als Klinkengetriebe mit Klinke (44, 44a) und Klinkenrad (45, 45a) ausgeführt sind.6. Verdampfer nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Klinkenrad (45, 45a) mit einer Zahl von Zähnen (46, 46a) ausgestattet ist, die ein ganzzahliges Vielfaches der Zahl der Tiegelausnehmungen (21, 22, 23) beträgt.7. Verdampfer nach den Ansprüchen 5 und 6, dadurch gekennzei chnet, daß die Klinke (44, 44a) an einer Kolbenstange (48, 48a) eines Druckmittelzylinders (49, 49a) angeordnet ist, der in einer Ebene parallel zur Ebene des Klinkenrades (45, 45a) schwenkbar ist.8. Verdampfer nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Klinkenrad (45, 45a) mit einem Indexrad (55, 55a) verbunden ist, welches mit Ausnehmungen (56, 56a) versehen ist, deren Zahl der Zahl der Zähne (46, 46a) entspricht, und in die eine Indexrolle (57, 57a) einrastbar ist.9. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß030046/02263. April 1979 79503oberhalb des Tiegels (20) eine Abschirmplatte (19) angeordnet ist, die an der Stelle mit einer Öffnung (24) versehen ist, an der sich eine der Tiegelausnehmungen (21) in der Verdampfungsposition befindet, während die Projektion der Abschirmplatte die übrigen Tiegelausnehmungen (22, 23) abdeckt, und daß die Dampfschirme (31, 32, 33) einzeln durch die Öffnung (24) der Abschirmplatte hindurch auf den Rändern der Tiegelausnehmungen (21, 22, 23) absetzbar sind.030046/0226
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19792917841 DE2917841A1 (de) | 1979-05-03 | 1979-05-03 | Verdampfer fuer vakuumaufdampfanlagen |
| NL8001224A NL8001224A (nl) | 1979-05-03 | 1980-02-28 | Verdamper voor vacuum opdampinrichting. |
| GB8012448A GB2049738B (en) | 1979-05-03 | 1980-04-15 | Vapourizer for vacuum deposition apparatus |
| FR8009410A FR2455635A1 (fr) | 1979-05-03 | 1980-04-25 | Evaporateur pour installations d'evaporation sous vide |
| US06/145,632 US4328763A (en) | 1979-05-03 | 1980-05-01 | Vaporizer for vacuum deposition installations |
| JP5803280A JPS55152178A (en) | 1979-05-03 | 1980-05-02 | Evaporator for vacuum vapor depositing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19792917841 DE2917841A1 (de) | 1979-05-03 | 1979-05-03 | Verdampfer fuer vakuumaufdampfanlagen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2917841A1 true DE2917841A1 (de) | 1980-11-13 |
Family
ID=6069838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19792917841 Withdrawn DE2917841A1 (de) | 1979-05-03 | 1979-05-03 | Verdampfer fuer vakuumaufdampfanlagen |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4328763A (de) |
| JP (1) | JPS55152178A (de) |
| DE (1) | DE2917841A1 (de) |
| FR (1) | FR2455635A1 (de) |
| GB (1) | GB2049738B (de) |
| NL (1) | NL8001224A (de) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH651592A5 (de) * | 1982-10-26 | 1985-09-30 | Balzers Hochvakuum | Dampfquelle fuer vakuumbedampfungsanlagen. |
| DE3421538A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-12 | ATOMIKA Technische Physik GmbH, 8000 München | Vakuumaufdampfeinrichtung |
| US4791273A (en) * | 1987-05-15 | 1988-12-13 | Varian Associates, Inc. | Vaporizer system for ion source |
| GB2228948A (en) * | 1989-02-28 | 1990-09-12 | British Aerospace | Fabrication of thin films from a composite target |
| US5906857A (en) * | 1997-05-13 | 1999-05-25 | Ultratherm, Inc. | Apparatus, system and method for controlling emission parameters attending vaporized in a HV environment |
| US6342103B1 (en) | 2000-06-01 | 2002-01-29 | The Boc Group, Inc. | Multiple pocket electron beam source |
| US6641674B2 (en) * | 2000-11-10 | 2003-11-04 | Helix Technology Inc. | Movable evaporation device |
| KR100461283B1 (ko) * | 2000-12-30 | 2004-12-14 | 현대엘씨디주식회사 | 유기전기발광소자 제조장치용 유기물증발보트구조 |
| GB0307745D0 (en) * | 2003-04-03 | 2003-05-07 | Microemissive Displays Ltd | Method and apparatus for depositing material on a substrate |
| CN100516284C (zh) * | 2006-01-21 | 2009-07-22 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 蒸镀装置 |
| US8297223B2 (en) * | 2007-10-02 | 2012-10-30 | Msp Corporation | Method and apparatus for particle filtration and enhancing tool performance in film deposition |
| CN101619446A (zh) * | 2008-06-30 | 2010-01-06 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置 |
| EP2182087B1 (de) * | 2008-10-30 | 2012-07-25 | Essilor International (Compagnie Générale D'Optique) | Vakuumdampf-Beschichtungsvorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
| JP5582809B2 (ja) * | 2009-02-13 | 2014-09-03 | ワイエス電子工業株式会社 | プラズマ発生装置 |
| CN104789930B (zh) * | 2015-04-24 | 2016-05-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀设备及采用该蒸镀设备的操作方法 |
| CN113227438B (zh) * | 2018-11-30 | 2023-07-11 | 磁性流体技术(美国)公司 | 用于电子束源涂覆的坩埚盖 |
| CN116770234B (zh) * | 2023-06-25 | 2023-12-15 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种防止串料的坩埚装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL291466A (de) * | 1962-04-13 | |||
| BE713308A (de) * | 1968-04-05 | 1968-10-07 | ||
| GB1371522A (en) * | 1971-10-01 | 1974-10-23 | Int Computers Ltd | Process for forming a manganese bismuthide film |
| GB1361771A (en) | 1972-02-15 | 1974-07-30 | Leybold Heraeus Verwaltung | Apparatus for heating material by means of a electron beam in a vacuum |
| US3853091A (en) * | 1973-12-03 | 1974-12-10 | Ibm | Thin film coating apparatus |
| CH580990A5 (de) * | 1974-03-04 | 1976-10-29 | Ebauches Sa | |
| CH626407A5 (de) * | 1977-07-08 | 1981-11-13 | Balzers Hochvakuum |
-
1979
- 1979-05-03 DE DE19792917841 patent/DE2917841A1/de not_active Withdrawn
-
1980
- 1980-02-28 NL NL8001224A patent/NL8001224A/nl not_active Application Discontinuation
- 1980-04-15 GB GB8012448A patent/GB2049738B/en not_active Expired
- 1980-04-25 FR FR8009410A patent/FR2455635A1/fr active Granted
- 1980-05-01 US US06/145,632 patent/US4328763A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-05-02 JP JP5803280A patent/JPS55152178A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2455635B3 (de) | 1982-03-12 |
| GB2049738B (en) | 1983-02-16 |
| NL8001224A (nl) | 1980-11-05 |
| US4328763A (en) | 1982-05-11 |
| FR2455635A1 (fr) | 1980-11-28 |
| GB2049738A (en) | 1980-12-31 |
| JPS55152178A (en) | 1980-11-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2917841A1 (de) | Verdampfer fuer vakuumaufdampfanlagen | |
| DE3401815C2 (de) | Vorrichtung zum drehbaren Halten von durch physikalische Dampfabscheidung in einer evakuierten Kammer zu beschichtenden Substraten | |
| DE69023633T2 (de) | Kathodenzerstäubungsgerät und kathodenzerstäubungsanlage. | |
| DE2448023A1 (de) | Vorrichtung zum beschichten von werkstuecken mit duennen filmen | |
| DE2635008C3 (de) | Substratträger für Vakuumbeschichtungsanlagen | |
| DE102015104039B4 (de) | Bandsubstratbeschichtungsanlage mit einer Magnetronanordnung | |
| DE1615287A1 (de) | Vorrichtung zur Aufbringung duenner Schichten auf Glas oder andere Materialien unter Vakuum | |
| DE2507953B2 (de) | Vorrichtung zum Aufdampfen von Schichten auf Substrate im Vakuum | |
| DE2544725B2 (de) | Elektronenstrahlverdampfer | |
| DE3829260C2 (de) | ||
| DE3413001A1 (de) | Katodenzerstaeubungsanlage mit nebeneinander angeordneten stationen | |
| DE102004006849B4 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
| EP2561113B1 (de) | Vorrichtung zum beschichten von substraten nach dem eb/pvd-verfahren | |
| EP1555334B1 (de) | Verdampfungseinrichtung für sublimierende Materialien | |
| DE4133564C2 (de) | Vorrichtung zur lösbaren Befestigung eines Targets oder Targetgrundkörpers auf der Kathodenhalterung | |
| DE1221744B (de) | Elektonenbeugungsgeraet | |
| WO2000016373A1 (de) | Targetanordnung für eine arc-verdampfungs-kammer | |
| EP2561114B1 (de) | Vorrichtung zum beschichten von substraten nach dem eb/pvd-verfahren | |
| DE19743799C1 (de) | Vorrichtung zur Einführung von stangenförmigem Targetmaterial in Elektronenstrahlbedampfungsanlagen | |
| DE102021006249A1 (de) | Beschichtungsquelle, Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung von Substraten | |
| DE102019102587B4 (de) | Drehbare Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung und Vorrichtung hiermit zur Beschichtung von Halbleiter- oder sonstigen Oberflächen | |
| DE3590269C2 (de) | Verdampfer zum Aufbringen von D}nnschichten durch Vakuumaufdampfen | |
| DE102018010288B4 (de) | Target für eine Strahlungsquelle, Strahlungsquelle zum Erzeugen invasiver elektromagnetischer Strahlung und Verfahren zum Herstellen eines Targets für eine Strahlungsquelle | |
| DD282364A7 (de) | Verdampfergut-schalttiegel | |
| DE1797091C (de) | Blende mit einem durch Warme regel baren Steuerglied fur optische, lnsbesonde re ionenoptische Gerate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OAM | Search report available | ||
| OC | Search report available | ||
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |