CN116770234B - 一种防止串料的坩埚装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提出一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板和坩埚本体，坩埚盖板设于坩埚本体上方，坩埚本体上均匀设有多个穴位孔，所述坩埚盖板上方设有活动盖板，所述活动盖板一端设有凹槽，凹槽上连接有入料口，所述活动盖板的两侧边对称设有调节装置，调节装置靠近坩埚本体的一端设有滚轮，所述坩埚本体上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽，当滚轮位于滑槽内时，调节装置带动活动盖板下移，活动盖板带动入料口下移，此时其中一个穴位孔位于入料口正下方，且坩埚本体上表面与入料口下表面完全贴合，当滚轮滑出滑槽时，调节装置带动活动盖板上移，活动盖板带动入料口上移，此时坩埚本体上表面与入料口下表面分离。
Description
技术领域
本发明属于真空蒸镀机技术领域，较为具体的，涉及到一种防止串料的坩埚装置。
背景技术
真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。
在真空蒸镀的加工工艺中，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。
现有技术参考专利公告号为CN216585179U、公开了一种真空蒸镀机的坩埚系统，适用于各种类型的坩埚，该专利中的坩埚与坩埚盖板之间留有间隙，导致料液从入料口进入穴位孔时会有部分滞留堆积在坩埚上，且坩埚旋转时堆积的料液会在坩埚与坩埚盖板之间挤压，或者会进入坩埚的其他穴位孔，造成料液的混合。
有鉴于此，本发明提出一种防止串料的坩埚装置，使料液不再堆积在坩埚上或者进入其他穴位孔。
发明内容
有鉴于此，为了解决料液从入料口进入穴位孔时会有部分滞留堆积在坩埚上，且坩埚旋转时堆积的料液会在坩埚与坩埚盖板之间挤压，或者会进入坩埚的其他穴位孔造成料液的混合的问题，本发明提出一种防止串料的坩埚装置，坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板1和坩埚本体2，坩埚盖板1设于坩埚本体2上方，坩埚本体2上均匀设有多个穴位孔3，其特征在于：所述坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
进一步的，所述活动盖板4开口向下，用于对坩埚盖板1进行一个限位。
进一步的，所述活动盖板4的两侧边远离入料口6一端对称设有第一旋转轴10，所述第一旋转轴10一端与活动盖板4铰接，另一端与坩埚盖板1连接，活动盖板4可围绕第一旋转轴10进行旋转，当滚轮8位于滑槽9内时，活动盖板4与坩埚盖板1平行，当滚轮8滑出滑槽9时，活动盖板4远离第一旋转轴10一端翘起，活动盖板4呈倾斜状。
在一些实施例中，所述活动盖板4的两侧边对称设有腰型槽15，所述两个调节装置7分别与对应的腰型槽15连接，所述调节装置7可在腰型槽15内滑动，调节由于穴位孔3的位置加工时产生的误差，使得调整后入料口6与穴位孔3完全贴合。
进一步的，所述调节装置7远离滚轮8一端设有连轴11，连轴11的一端穿过腰型槽15并与腰型槽15可拆卸连接，另一端与滚轮8相连。
进一步的，所述滑槽9位于相邻两个穴位孔3的中垂线上，且滑槽9个数与穴位孔3个数对应，使得滚轮8位于滑槽9内时穴位孔3位于入料口6正下方。
进一步的，所述滑槽9为V字型或者U字型。
进一步的，所述滑槽9的深度等于滚轮8位于滑槽9内时坩埚盖板1下表面到坩埚本体2上表面的距离。
进一步的，所述滑槽9的两侧分别设有滑出面12，滑出面12为向上延伸的曲面，使得滚轮8滚出滑槽9时减少阻力，顺利滑出。
进一步的，所述坩埚盖板1两侧边还设有避位槽13，使得第一旋转轴10与滚轮8可以在避位槽13内。
进一步的，所述坩埚本体2正下方设有第二旋转轴14，使得坩埚本体2可以旋转，从而使得每个穴位孔3可以旋转到入料口6下方。
在一些实施例中，所述坩埚盖板1四角下方还设有支撑柱，所述支撑柱下方设有底板，支撑柱与底板固定。
在一些实施例中，所述入料口6为倒漏斗的形状，入料口6底部口径大于穴位孔3口径，便于加料；所述穴位孔3为碗状凹陷的形状。
本发明的有益效果：本发明提出一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板1和坩埚本体2，坩埚盖板1设于坩埚本体2上方，坩埚本体2上均匀设有多个穴位孔3，其特征在于：所述坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
附图说明
图1为本发明的防止串料的坩埚装置的整体结构示意图。
图2为本发明的防止串料的坩埚装置的上部透视结构示意图。
图3为本发明的防止串料的坩埚装置的去活动盖板结构示意图。
图4为本发明的防止串料的坩埚装置的局部结构示意图。
图5为本发明的防止串料的坩埚装置的坩埚局部结构示意图。
图6为本发明的防止串料的坩埚装置的坩埚局部平面示意图。
主要元件符号说明
| 坩埚盖板 | 1 |
| 坩埚本体 | 2 |
| 穴位孔 | 3 |
| 活动盖板 | 4 |
| 凹槽 | 5 |
| 入料口 | 6 |
| 调节装置 | 7 |
| 滚轮 | 8 |
| 滑槽 | 9 |
| 第一旋转轴 | 10 |
| 连轴 | 11 |
| 滑出面 | 12 |
| 避位槽 | 13 |
| 第二旋转轴 | 14 |
| 腰型槽 | 15 |
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
描述以下实施例以辅助对本申请的理解，实施例不是也不应当以任何方式解释为限制本申请的保护范围。
在以下描述中，本领域的技术人员将认识到，在本论述的全文中，组件可描述为单独的功能单元(可包括子单元)，但是本领域的技术人员将认识到，各种组件或其部分可划分成单独组件，或者可整合在一起(包括整合在单个的系统或组件内)。同时，组件或系统之间的连接并不旨在限于直接连接。相反，在这些组件之间的数据可由中间组件修改、重格式化、或以其它方式改变。另外，可使用另外或更少的连接。还应注意，术语“联接”、“连接”、或“输入”“固定”应理解为包括直接连接、通过一个或多个中间媒介来进行的间接的连接或固定。
在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“侧面”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时或惯常认知的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
具体实施例1：
如图1所示，为本发明的坩埚装置的整体结构示意图。如图2所示，为本发明的防止串料的坩埚装置的上部透视结构示意图。如图3所示，为本发明的防止串料的坩埚装置的去活动盖板结构示意图。如图4所示，为本发明的防止串料的坩埚装置的局部结构示意图。如图5所示，为本发明的防止串料的坩埚装置的坩埚局部结构示意图。如图6所示，为本发明的防止串料的坩埚装置的坩埚局部平面示意图。
一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板1和坩埚本体2，坩埚盖板1设于坩埚本体2上方，坩埚本体2上均匀设有多个穴位孔3，所述坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
所述活动盖板4开口向下，用于对坩埚盖板1进行一个限位。
所述活动盖板4的两侧边远离入料口6一端对称设有第一旋转轴10，所述第一旋转轴10一端与活动盖板4铰接，另一端与坩埚盖板1连接，活动盖板4可围绕第一旋转轴10进行旋转，当滚轮8位于滑槽9内时，活动盖板4与坩埚盖板1平行，当滚轮8滑出滑槽9时，活动盖板4远离第一旋转轴10一端翘起，活动盖板4呈倾斜状。
所述活动盖板4的两侧边对称设有腰型槽15，所述两个调节装置7分别与对应的腰型槽15连接，所述调节装置7可在腰型槽15内滑动，调节由于穴位孔3的位置加工时产生的误差，使得调整后入料口6与穴位孔3完全贴合。
所述调节装置7远离滚轮8一端设有连轴11，连轴11的一端穿过腰型槽15并与腰型槽15可拆卸连接，另一端与滚轮8相连。
所述滑槽9位于相邻两个穴位孔3的中垂线上，且滑槽9个数与穴位孔3个数对应，使得滚轮8位于滑槽9内时穴位孔3位于入料口6正下方。
所述滑槽9为V字型。
所述滑槽9的深度等于滚轮8位于滑槽9内时坩埚盖板1下表面到坩埚本体2上表面的距离。
所述滑槽9的两侧分别设有滑出面12，滑出面12为向上延伸的曲面，使得滚轮8滚出滑槽9时减少阻力，顺利滑出。
所述坩埚盖板1两侧边还设有避位槽13，使得第一旋转轴10与滚轮8可以在避位槽13内。
所述坩埚本体2正下方设有第二旋转轴14，使得坩埚本体2可以旋转，从而使得每个穴位孔3可以旋转到入料口6下方。
所述坩埚盖板1四角下方还设有支撑柱，所述支撑柱下方设有底板，支撑柱与底板固定。
所述入料口6为倒漏斗的形状，入料口6底部口径大于穴位孔3口径，便于加料；所述穴位孔3为碗状凹陷的形状。
具体实施例2：
一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板1和坩埚本体2，坩埚盖板1设于坩埚本体2上方，坩埚本体2上均匀设有多个穴位孔3，所述坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
所述活动盖板4开口向下，用于对坩埚盖板1进行一个限位。
所述活动盖板4的两侧边远离入料口6一端对称设有第一旋转轴10，所述第一旋转轴10一端与活动盖板4铰接，另一端与坩埚盖板1连接，活动盖板4可围绕第一旋转轴10进行旋转，当滚轮8位于滑槽9内时，活动盖板4与坩埚盖板1平行，当滚轮8滑出滑槽9时，活动盖板4远离第一旋转轴10一端翘起，活动盖板4呈倾斜状。
所述活动盖板4的两侧边对称设有腰型槽15，所述两个调节装置7分别与对应的腰型槽15连接，所述调节装置7可在腰型槽15内滑动，调节由于穴位孔3的位置加工时产生的误差，使得调整后入料口6与穴位孔3完全贴合。
所述调节装置7远离滚轮8一端设有连轴11，连轴11的一端穿过腰型槽15并与腰型槽15可拆卸连接，另一端与滚轮8相连。
所述滑槽9位于相邻两个穴位孔3的中垂线上，且滑槽9个数与穴位孔3个数对应，使得滚轮8位于滑槽9内时穴位孔3位于入料口6正下方。
所述滑槽9为U字型。
所述滑槽9的深度等于滚轮8位于滑槽9内时坩埚盖板1下表面到坩埚本体2上表面的距离。
所述滑槽9的两侧分别设有滑出面12，滑出面12为向上延伸的曲面，使得滚轮8滚出滑槽9时减少阻力，顺利滑出。
所述坩埚盖板1两侧边还设有避位槽13，使得第一旋转轴10与滚轮8可以在避位槽13内。
所述坩埚本体2正下方设有第二旋转轴14，使得坩埚本体2可以旋转，从而使得每个穴位孔3可以旋转到入料口6下方。
所述坩埚盖板1四角下方还设有支撑柱，所述支撑柱下方设有底板，支撑柱与底板固定。
所述入料口6为倒漏斗的形状，入料口6底部口径大于穴位孔3口径，便于加料；所述穴位孔3为碗状凹陷的形状。
本发明的有益效果：本发明提出一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板1和坩埚本体2，坩埚盖板1设于坩埚本体2上方，坩埚本体2上均匀设有多个穴位孔3，其特征在于：所述坩埚盖板1上方设有活动盖板4，所述活动盖板4一端设有凹槽5，凹槽5上连接有入料口6，所述活动盖板4的两侧边对称设有调节装置7，调节装置7靠近坩埚本体2的一端设有滚轮8，所述坩埚本体2上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽9，当滚轮8位于滑槽9内时，调节装置7带动活动盖板4下移，活动盖板4带动入料口6下移，此时其中一个穴位孔3位于入料口6正下方，且坩埚本体2上表面与入料口6下表面完全贴合，当滚轮8滑出滑槽9时，调节装置7带动活动盖板4上移，活动盖板4带动入料口6上移，此时坩埚本体2上表面与入料口6下表面分离。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种防止串料的坩埚装置，其包括：坩埚盖板(1)和坩埚本体(2)，坩埚盖板(1)设于坩埚本体(2)上方，坩埚本体(2)上均匀设有多个穴位孔(3)，其特征在于：所述坩埚盖板(1)上方设有活动盖板(4)，所述活动盖板(4)一端设有凹槽(5)，凹槽(5)上连接有入料口(6)，所述活动盖板(4)的两侧边对称设有调节装置(7)，调节装置(7)靠近坩埚本体(2)的一端设有滚轮(8)，所述坩埚本体(2)上表面边缘均匀间隔设置有多个滑槽(9)，当滚轮(8)位于滑槽(9)内时，调节装置(7)带动活动盖板(4)下移，活动盖板(4)带动入料口(6)下移，此时其中一个穴位孔(3)位于入料口(6)正下方，且坩埚本体(2)上表面与入料口(6)下表面完全贴合，当滚轮(8)滑出滑槽(9)时，调节装置(7)带动活动盖板(4)上移，活动盖板(4)带动入料口(6)上移，此时坩埚本体(2)上表面与入料口(6)下表面分离。
2.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述活动盖板(4)开口向下，用于对坩埚盖板(1)进行一个限位。
3.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述活动盖板(4)的两侧边远离入料口(6)一端对称设有第一旋转轴(10)，所述第一旋转轴(10)一端与活动盖板(4)铰接，另一端与坩埚盖板(1)连接，活动盖板(4)可围绕第一旋转轴(10)进行旋转，当滚轮(8)位于滑槽(9)内时，活动盖板(4)与坩埚盖板(1)平行，当滚轮(8)滑出滑槽(9)时，活动盖板(4)远离第一旋转轴(10)一端翘起，活动盖板(4)呈倾斜状。
4.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述调节装置(7)远离滚轮(8)一端设有连轴(11)，连轴(11)的一端穿过腰型槽(15)并与腰型槽(15)可拆卸连接，另一端与滚轮(8)相连。
5.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述滑槽(9)位于相邻两个穴位孔(3)的中垂线上，且滑槽(9)个数与穴位孔(3)个数对应，使得滚轮(8)位于滑槽(9)内时穴位孔(3)位于入料口(6)正下方。
6.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述滑槽(9)为V字型或者U字型。
7.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述滑槽(9)的深度等于滚轮(8)位于滑槽(9)内时坩埚盖板(1)下表面到坩埚本体(2)上表面的距离。
8.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述滑槽(9)的两侧分别设有滑出面(12)，滑出面(12)为向上延伸的曲面，使得滚轮(8)滚出滑槽(9)时减少阻力，顺利滑出。
9.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述坩埚盖板(1)两侧边还设有避位槽(13)，使得第一旋转轴(10)与滚轮(8)可以在避位槽(13)内。
10.如权利要求1所述的防止串料的坩埚装置，其特征在于：所述坩埚本体(2)正下方设有第二旋转轴(14)，使得坩埚本体(2)可以旋转，从而使得每个穴位孔(3)可以旋转到入料口(6)下方。
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Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4328763A (en) * | 1979-05-03 | 1982-05-11 | Leybold-Heraeus | Vaporizer for vacuum deposition installations |
| US6342103B1 (en) * | 2000-06-01 | 2002-01-29 | The Boc Group, Inc. | Multiple pocket electron beam source |
| KR101197271B1 (ko) * | 2012-01-04 | 2012-11-05 | 지제이엠 주식회사 | 유기박막 증착용 도가니 |
| JP2012229462A (ja) * | 2011-04-25 | 2012-11-22 | Jeol Ltd | 多点蒸発源装置 |
| CN106191784A (zh) * | 2016-07-22 | 2016-12-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀用坩埚 |
| DE102016121256A1 (de) * | 2016-11-07 | 2018-05-09 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Vakuumverdampfungseinrichtung und Vakuumbeschichtungsverfahren |
| CN209522904U (zh) * | 2018-11-24 | 2019-10-22 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种蒸发铝材料用的坩埚易清理的保护罩 |
| WO2019227770A1 (zh) * | 2018-05-28 | 2019-12-05 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
| CN214496457U (zh) * | 2021-03-12 | 2021-10-26 | 苏州星蓝纳米技术有限公司 | 一种自动靶材清洗盖板 |
| CN215163066U (zh) * | 2021-06-30 | 2021-12-14 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种真空蒸镀机的大容量坩埚结构 |
| CN215163065U (zh) * | 2021-06-30 | 2021-12-14 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种真空蒸镀机的易拆卸多穴坩埚 |
| CN216585179U (zh) * | 2021-12-13 | 2022-05-24 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种真空蒸镀机的坩埚系统 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104988462B (zh) * | 2015-07-23 | 2017-05-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种坩埚装置 |
-
2023
- 2023-06-25 CN CN202310746890.XA patent/CN116770234B/zh active Active
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4328763A (en) * | 1979-05-03 | 1982-05-11 | Leybold-Heraeus | Vaporizer for vacuum deposition installations |
| US6342103B1 (en) * | 2000-06-01 | 2002-01-29 | The Boc Group, Inc. | Multiple pocket electron beam source |
| JP2012229462A (ja) * | 2011-04-25 | 2012-11-22 | Jeol Ltd | 多点蒸発源装置 |
| KR101197271B1 (ko) * | 2012-01-04 | 2012-11-05 | 지제이엠 주식회사 | 유기박막 증착용 도가니 |
| CN106191784A (zh) * | 2016-07-22 | 2016-12-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀用坩埚 |
| DE102016121256A1 (de) * | 2016-11-07 | 2018-05-09 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Vakuumverdampfungseinrichtung und Vakuumbeschichtungsverfahren |
| WO2019227770A1 (zh) * | 2018-05-28 | 2019-12-05 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
| CN209522904U (zh) * | 2018-11-24 | 2019-10-22 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种蒸发铝材料用的坩埚易清理的保护罩 |
| CN214496457U (zh) * | 2021-03-12 | 2021-10-26 | 苏州星蓝纳米技术有限公司 | 一种自动靶材清洗盖板 |
| CN215163066U (zh) * | 2021-06-30 | 2021-12-14 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种真空蒸镀机的大容量坩埚结构 |
| CN215163065U (zh) * | 2021-06-30 | 2021-12-14 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种真空蒸镀机的易拆卸多穴坩埚 |
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