JPS59208069A - 多くの物質を蒸着させるための放射加熱部を有する蒸発装置 - Google Patents
多くの物質を蒸着させるための放射加熱部を有する蒸発装置Info
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- JPS59208069A JPS59208069A JP59088541A JP8854184A JPS59208069A JP S59208069 A JPS59208069 A JP S59208069A JP 59088541 A JP59088541 A JP 59088541A JP 8854184 A JP8854184 A JP 8854184A JP S59208069 A JPS59208069 A JP S59208069A
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、それぞれ一つの蒸発物質を受は入れるための
少なくとも二つのるつぼを同心の配置で回転テーブルに
有する、多くの物質を少なくとも一つの基体た蒸着させ
るための放射加熱部を有する蒸発装置に関する。
少なくとも二つのるつぼを同心の配置で回転テーブルに
有する、多くの物質を少なくとも一つの基体た蒸着させ
るための放射加熱部を有する蒸発装置に関する。
米国特許明細書筒2μ82.329号から多くの蒸発物
質を蒸発させるために同心に互に配置されたこれらの凹
所が、回転可能な円盤に受容れられた蒸発装置が知られ
ている。円盤はそれぞれ−りの凹所を熱源に所属させる
ために逐次回転可能である。
質を蒸発させるために同心に互に配置されたこれらの凹
所が、回転可能な円盤に受容れられた蒸発装置が知られ
ている。円盤はそれぞれ−りの凹所を熱源に所属させる
ために逐次回転可能である。
英国特許明細書簡1.318.046号から、蒸発物質
を受は入れるための同心の溝を有する回転テーブルを有
する蒸発装置が知られている。
を受は入れるための同心の溝を有する回転テーブルを有
する蒸発装置が知られている。
電子放射源によシ、蒸発物質が、いわばるつぼとして理
解することができる狭く限られた範囲で蒸発温度に加熱
される。
解することができる狭く限られた範囲で蒸発温度に加熱
される。
ドイツ特許公開公報筒3010925は、多くの蒸発物
質を受は入れるために同心に配置されかつンライス加工
されたるつぼを有する回転テーブルを有し、これらのる
つぼを蒸発のために順次電子放射源に所属させる蒸発装
置に関する。
質を受は入れるために同心に配置されかつンライス加工
されたるつぼを有する回転テーブルを有し、これらのる
つぼを蒸発のために順次電子放射源に所属させる蒸発装
置に関する。
ドイツ特許公開公報筒2<550215号では一様に蒸
発させるために蒸発すべき物質を回転可能に支承するこ
とが提案される。
発させるために蒸発すべき物質を回転可能に支承するこ
とが提案される。
本発明の課題は、種々の蒸発物質を再生可能な層厚で少
なくとも−りの基体に捕えることができる上記の種類の
蒸発装置を提供することである。
なくとも−りの基体に捕えることができる上記の種類の
蒸発装置を提供することである。
この課題は、本発明によシ特許請求の範囲の特徴事項に
より解決される。
より解決される。
本発明で達成される利益は、特に次のようなことにある
。すなわち、放射加熱のみで種々の物質を少なくとも一
つの基体に真空室の中間ガス抜きをせずに捕えることが
できるので、再生可能な層厚を基体忙形成することによ
り、かつ中間ガス抜き中不純原子が真空室に侵入するの
を避けることKより、著しい時間と費用の低減ならびに
不合格率の実質的な減少が得られる。
。すなわち、放射加熱のみで種々の物質を少なくとも一
つの基体に真空室の中間ガス抜きをせずに捕えることが
できるので、再生可能な層厚を基体忙形成することによ
り、かつ中間ガス抜き中不純原子が真空室に侵入するの
を避けることKより、著しい時間と費用の低減ならびに
不合格率の実質的な減少が得られる。
以下、本発明の実質例を図面により詳細に説明する。
第1図に真空室を有する蒸発装置が横断面で示されてお
り、基板1に真空室2がシール乙により真空密に配置さ
れている。真空室2は吸込導管4を介して真空ポンプ5
と連結されている。
り、基板1に真空室2がシール乙により真空密に配置さ
れている。真空室2は吸込導管4を介して真空ポンプ5
と連結されている。
真空室2の内方にはスタンド乙にホルダ7が懸垂されて
おシ、そのホルダの下側に基体Sが保持され、その下側
が多くの材料9で相次いで蒸着されガければならない。
おシ、そのホルダの下側に基体Sが保持され、その下側
が多くの材料9で相次いで蒸着されガければならない。
さらに、基板1の上には、真空室の内方の中心に、垂直
な外側中空軸11を有する駆動ユニット10が設けられ
ており、中空軸11は、種々の蒸発物質9を受は入れる
ために同心に配置された四つのるつは13を有する回転
チルプル12を担持している。回転テーブル12の下方
には、その周囲に電子放射加熱装置14が配置されてお
シ、電子放射線15が彎曲した軌道で、磁気的な偏向装
置により、るつは13内にある蒸着すべき物質90表面
に現われる。
な外側中空軸11を有する駆動ユニット10が設けられ
ており、中空軸11は、種々の蒸発物質9を受は入れる
ために同心に配置された四つのるつは13を有する回転
チルプル12を担持している。回転テーブル12の下方
には、その周囲に電子放射加熱装置14が配置されてお
シ、電子放射線15が彎曲した軌道で、磁気的な偏向装
置により、るつは13内にある蒸着すべき物質90表面
に現われる。
四つのるつぼ13が回転テーブル12の凹所17に回転
可能に支承され、かつ外側中空軸11内を回転可能な内
側軸18により歯車19を用いて駆動され、この歯車1
9は回転テーブル12の上で回転可能なるつぼ15の高
さでそれぞれるりぼ15の外歯20と噛み合っている(
第2図)。蒸着過程中、るりぼ13が選択可能な一定の
角速度で回転するので、電子放射線15にそれぞれ付設
されたるりぼ13の蒸発物質9が均一に蒸発され、それ
により再生可能な層厚が基体8に捕えられ、かつ不合格
率を著しく低下させることができる。この一様な蒸発に
よシ蒸発物質9の大部分をるりぼ15から蒸発させるこ
ともできる。なぜなら、静止したるつぼの場合に蒸発物
質の表面にひんばんに生ずるフレークの形成を広く避け
られるからである。
可能に支承され、かつ外側中空軸11内を回転可能な内
側軸18により歯車19を用いて駆動され、この歯車1
9は回転テーブル12の上で回転可能なるつぼ15の高
さでそれぞれるりぼ15の外歯20と噛み合っている(
第2図)。蒸着過程中、るりぼ13が選択可能な一定の
角速度で回転するので、電子放射線15にそれぞれ付設
されたるりぼ13の蒸発物質9が均一に蒸発され、それ
により再生可能な層厚が基体8に捕えられ、かつ不合格
率を著しく低下させることができる。この一様な蒸発に
よシ蒸発物質9の大部分をるりぼ15から蒸発させるこ
ともできる。なぜなら、静止したるつぼの場合に蒸発物
質の表面にひんばんに生ずるフレークの形成を広く避け
られるからである。
他のるりは13にある別の蒸発物質を蒸発させるために
関連するるつぼ13を、回転テーブル12を回転させる
ことにより引続きその都度電子放射線15に所属させる
ので、真空室を相りいで中間通気せずに種々の材料9を
基体8に捕えることが可能となる。決められたるりは1
6を電子放射線15に所属させるための駆動ユニット1
0の制御を電気導線21.22によシ行い、かりるりは
13を個々に回転させるための電流供給を電気導線25
.24により行う。電気導線21〜24は基板1を通っ
て真空密に導き出される。図示していない仕方で、電子
放射線に所属するるりほのみが回転可能であることもで
きる。
関連するるつぼ13を、回転テーブル12を回転させる
ことにより引続きその都度電子放射線15に所属させる
ので、真空室を相りいで中間通気せずに種々の材料9を
基体8に捕えることが可能となる。決められたるりは1
6を電子放射線15に所属させるための駆動ユニット1
0の制御を電気導線21.22によシ行い、かりるりは
13を個々に回転させるための電流供給を電気導線25
.24により行う。電気導線21〜24は基板1を通っ
て真空密に導き出される。図示していない仕方で、電子
放射線に所属するるりほのみが回転可能であることもで
きる。
第1図は真空室を有する蒸発装置の断面図、第2図は回
転テーブルの平面図である。 8・・・基体 12・・・回転テーブル 13・・・るつぼ 15・・・加熱放射線 代理人江崎光好 代理人 江 崎 光 史
転テーブルの平面図である。 8・・・基体 12・・・回転テーブル 13・・・るつぼ 15・・・加熱放射線 代理人江崎光好 代理人 江 崎 光 史
Claims (1)
- (1)それぞれ−りの蒸発物質を受は入れるための少な
くとも二つのるつぼを同心の配置で回転テーブルに有す
る、多くの物質を少なくとも一つの基体に蒸着させるだ
めの放射加熱部を有する蒸発装置において、少なくとも
加熱放射線(15)にその都度所属するるつぼ(13)
が、回転テーブル(12)に回転可能に配置されている
ことを特徴とする蒸発装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3316554A DE3316554C1 (de) | 1983-05-06 | 1983-05-06 | Verdampfervorrichtung mit Strahlheizung zum Aufdampfen mehrerer Materialien |
DE33165548 | 1983-05-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59208069A true JPS59208069A (ja) | 1984-11-26 |
Family
ID=6198303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59088541A Pending JPS59208069A (ja) | 1983-05-06 | 1984-05-04 | 多くの物質を蒸着させるための放射加熱部を有する蒸発装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4632059A (ja) |
EP (1) | EP0124829A1 (ja) |
JP (1) | JPS59208069A (ja) |
DE (1) | DE3316554C1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62110263U (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-14 | ||
JP2008025022A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Semes Co Ltd | 薄膜蒸着用の回転蒸着源及びこれを用いる薄膜蒸着装置 |
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1983
- 1983-05-06 DE DE3316554A patent/DE3316554C1/de not_active Expired
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1984
- 1984-04-26 EP EP84104685A patent/EP0124829A1/de not_active Ceased
- 1984-05-04 JP JP59088541A patent/JPS59208069A/ja active Pending
-
1985
- 1985-09-05 US US06/773,517 patent/US4632059A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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US4632059A (en) | 1986-12-30 |
EP0124829A1 (de) | 1984-11-14 |
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