DE10215369A1

DE10215369A1 - Kathodenzerstäubungsgerät zur Ausbildung eines Metallfilms unter Verwendung eines Magnetfeldes

Info

Publication number: DE10215369A1
Application number: DE10215369A
Authority: DE
Inventors: Young-Kyou Park; Hyeon-Iii Um; Jai-Kwang Shin; Seong-Gu Kim
Original assignee: Samsung Electronics Co Ltd
Current assignee: Samsung Electronics Co Ltd
Priority date: 2001-09-12
Filing date: 2002-04-08
Publication date: 2003-03-27
Anticipated expiration: 2022-04-09
Also published as: US6723215B2; KR20030023205A; GB2379670B; JP2003082460A; CN1244713C; GB0217645D0; JP4160331B2; KR100439474B1; DE10215369B4; US20030052001A1; GB2379670A; CN1407130A; TW583329B

Abstract

Ein Kathodenzerstäubungsgerät enthält eine Zerstäubungskammer, wobei ein Target in der Zerstäubungskammer angeordnet wird, und enthält einen Magnetfeldgenerator zum Erzeugen eines rotierenden Magnetfeldes an der Front des Targets. Der Magnetfeldgenerator enthält einen Hauptmagnetfelderzeugungsteil, der der Rückseite des Targets gegenüberliegt und der horizontal (seitlich) von einer vertikalen Linie versetzt ist, die durch das Zentrum des Targets hindurch verläuft. Ein magnetisches Ringteil des Hauptmagnetfelderzeugungsteiles bildet eine magnetische Umschließung mit Öffnungen, die durch diese hindurch verlaufen, und zwar an Stellen, die in Richtungen der zentralen und peripheren Abschnitte des Targets weisen. Der Magnetfelderzeugungsteil erzeugt dadurch ein Magnetfeld mit einer nicht einheitlichen Verteilung an der Front des Targets. Ein Substrat wird innerhalb der Zerstäubungskammer positioniert, und zwar gegenüber der Front des Targets. Es wird eine Metallschicht durch Zerstäuben von Atomen von der Front des Targets auf dem Substrat erzeugt. Das Verhalten der zerstäubten Atome kann effektiv durch das Magnetfeld gesteuert werden.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

1. Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Kathodenzerstäubungsgerät. Spezieller betrifft die vorliegende Erfindung ein Kathodenzerstäubungsgerät, welches ein Magnetfeld vor einem Zielobjekt (Target) erzeugt, während eine Metallschicht auf einem Substrat ausgebildet wird.

2. Beschreibung des Standes der Technik

Kürzlich hat die Konstruktion von Halbleitervorrichtungen einen schnellen Aufschwung erfahren, da die Verwendung von Einrichtungen, wie beispielsweise von Computern, für die Informationsverarbeitung sich weiter verbreitet. Insbesondere hat dieser Fortschritt Halbleitervorrichtungen erforderlich gemacht, die mit höheren Betriebsgeschwindigkeiten arbeiten und die größere Speicherkapazitäten besitzen. Um derartigen Anforderungen gerecht zu werden, befinden sich Halbleitervorrichtungen mit einer erhöhten Dichte, Zuverlässigkeit und Ansprechzeit in der Entwicklung. Demzufolge werden die Konstruktionsanforderungen an eine Metallschicht, die dazu verwendet wird, um ein Verdrahtungsmuster in einer Halbleitervorrichtung auszubilden, höher.

Die Metallschicht wird allgemein durch Zerstäuben oder Verdampfen eines Metalls gebildet, wie beispielsweise von Titan, Titannitrid, Aluminium und ähnlichem, und zwar von einem Target auf ein Substrat. Die Forschung und Entwicklung von Kathodenzerstäubungsverfahren zur Ausbildung derartiger Metallschichten hat sich auf die Verbesserung der Stufenbedeckung des Metalls konzentriert, wenn dieses über eine feine Struktur niedergeschlagen wird und auf die Verbesserung der Einheitlichkeit der Dicke der Metallschicht, wenn diese über einer relativ großen Fläche auf dem Substrat ausgebildet wird.

Um eine Zerstäubung höchst effizient durchzuführen, wird allgemein ein Magnetfeld verwendet. Die Verwendung eines Magnetfeldes ermöglicht die sehr wünschenswerten Prozeßbedingungen gemäß einem niedrigen Druck und einem hochdichten Plasma, die erreicht werden können. Unter diesen Bedingungen können Teilchen, die von dem Target verdampft worden sind, mit einem hohen Grad einer Linearität wandern. Als ein Ergebnis ist die Stufenabdeckung gut. Zusätzlich wird ein Element, welches das Magnetfeld erzeugt, in Drehung versetzt, um effektiv das Verhalten der zerstäubten Teilchen zu steuern. Somit kann eine Einheitlichkeit in der Dicke der Metallschicht zusätzlich zu der guten Stufenbedeckung erzielt werden. Daher hat die Technik unter Verwendung eines rotierenden Magnetfeldes, um eine Metallschicht durch Zerstäuben auszubilden, kürzlich Aufmerksamkeit gewonnen.

Beispielsweise sind Kathodenzerstäubungsverfahren unter Verwendung eines Magnetfeldes in den US-Patenten Nm. 6,228, 236 (ausgegeben an Rosenstein et al.), 6,183,614 (ausgegeben an Fu) und 4,995,958 (ausgegeben an Anderson et al.), in den offengelegten japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. Hei 8-74051 und Hei 9-310174 und in der offengelegten koreanischen Patentveröffentlichung Nr. 98-65920 offenbart.

Jedoch können trotz der Verwendung eines Magnetfeldes die oben angesprochenen Zerstäubungsverfahren in den aufgeführten Veröffentlichungen Defekte erzeugen. Insbesondere verursachen diese Verfahren häufig einen Defekt während der Ausbildung einer Metallschicht, wenn eine kritische Abmessung der Halbleitervorrichtung nicht mehr als 0,15 µ beträgt oder wenn die Metallschicht auf einer als Muster ausgebildeten Schicht ausgebildet wird, deren Öffnung(en) ein Seitenverhältnis von 5 : 1 oder mehr besitzt bzw. besitzen. Dieser Defekt, der durch eine örtliche Korrosion des Targets hervorgerufen wird, kann die Form von beispielsweise eines Überhangs um die Öffnung herum haben.

Fig. 1 zeigt einen Graphen eines Korrosionsprofils eines Targets, wenn ein Kathodenzerstäubungsgerät verwendet wird, welches ein ein Magnetfeld erzeugendes Teil eines Typs aufweist, wie dieser in dem US-Patent Nr. 4,995,958 offenbart ist. Die Target-Korrosionstiefe in Fig. 1 ist in Millimetern angegeben.

Wenn gemäß Fig. 1 eine Titanschicht unter einem Druck von 5 m Torr ausgebildet wird, ist die Korrosion an dem zentralen Abschnitt des Targets schwerwiegender als an der Peripherie des Targets. Es ist daher schwierig, eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke unter Verwendung dieses Verfahrens zu erzielen.

Fig. 2 zeigt einen Graphen eines Korrosionsprofils eines Targets, wenn ein Kathodenzerstäubungsgerät verwendet wird, welches ein ein Magnetfeld erzeugendes Teil eines Typs aufweist, welcher in den US-Patenten Nrn. 6,228,236 und 6,183,613 offenbart ist. Auch hier ist die Target-Korrosionstiefe in Millimetern angegeben. Zusätzlich repräsentiert die Kurve unter Verwendung des Symbols ▵ das Korrosionsprofil eines Targets, wenn ein ein Magnetfeld erzeugendes Teil des Typs verwendet wird, der in dem US-Patent Nr. 6,228,236 offenbart ist. Andererseits repräsentiert die Kurve, bei der das Symbol ▪ das Korrosionsprofil eines Targets, wenn ein ein Magnetfeld erzeugendes Teil verwendet wird, und zwar von dem Typ, der in dem US-Patent Nr. 6,183,614 offenbart ist.

Wenn gemäß Fig. 2 eine Titanschicht unter einem Druck von 5 m Torr ausgebildet wird, und zwar entweder unter Verwendung der Geräte gemäß den US-Patentschriften Nrn. 6228,236 und 6,183, 613, ist die Korrosion an dem zentralen Abschnitt des Targets schwerwiegender als an der Peripherie des Targets. Es ist daher schwierig, eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke zu erzielen.

Nichtsdestoweniger wurden verschiedene Wege aufgezeigt, um die Stufenbedeckung oder die Einheitlichkeit in der Dicke einer Metallschicht zu verbessern, die durch Kathodenzerstäuben ausgebildet wird. Beispielsweise offenbart das US-Patent Nr. 6,274,887 (ausgegeben an Yamazaki et al.) ein Beispiel eines Kathodenzerstäubungsgerätes, welches einen Kollimator enthält. Andererseits offenbart das US-Patent Nr. 6,121,134 (ausgegeben an Burton et al.) ein Beispiel einer Zerstäubungstechnik, bei der ein LTS-Verfahren (Weitschleuderzerstäubung), bei dem der Abstand zwischen dem Target und dem Substrat auf wenigstens 170 mm gehalten wird.

Obwohl die Verwendung eines Kollimators in einer verbesserten Stufenbedeckung einer Titanschicht führt, die unter einem Druck von 5 m Torr hergestellt wird, nimmt die Zerstäubungsrate des Titans signifikant ab. Die Zerstäubungsraten gemäß der Art des Kollimators, der verwendet wird, sind in der unten angegebenen Tabelle veranschaulicht. In der Tabelle 1 ist die Art des Kollimators durch die Einheitsgröße eines Gitters (lattice) klassifiziert. Tabelle 1

Die Tabelle 1 zeigt, daß die Zerstäubungsrate geringer ist, wenn ein Kollimator verwendet wird. Auch wird mit kleiner werdendem Gitter (lattice) die Zerstäubungsrate langsamer. Somit führt die Verwendung eines Kollimators zur Absenkung der Produktivität des Zerstäubungsverfahrens. Darüber hinaus erfordern Kollimatoren auch eine Wartung und daher erhöht deren Verwendung die Herstellungskosten.

In ähnlicher Weise kann auch das LTS-Verfahren so charakterisiert werden, daß es zu einer niedrigen Zerstäubungsrate führt. Dies ist deshalb der Fall, da die zerstäubten Teilchen eine relativ große Strecke durchwandern müssen. In der Tat, wenn der Abstand zwischen dem Target und dem Substrat zunimmt, und zwar von 50 mm auf 250 mm, wird die Zerstäubungsrate der Metallschicht um 70% abgesenkt. Demzufolge ist das LTS-Verfahren auch dadurch gekennzeichnet, daß es zu einer niedrigen Produktivität führt.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, die zuvor erläuterten Probleme und Einschränkungen des Standes der Technik zu überwinden. Es ist demzufolge Aufgabe der Erfindung, ein Kathodenzerstäubungsgerät zu schaffen, bei dem ein niedriger Druck und ein hochdichtes Plasma aufrecht erhalten werden können, mit denen eine Zerstäubung mit einem hohen Grad einer Produktivität vorgenommen werden kann und bei dem eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke hergestellt werden kann.

Ein anderes Ziel der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Kathodenzerstäubungsgerät mit einem Magnetfeldgenerator zu schaffen, der ein Korrosionsprofil des Targets in optimaler Form erzeugen kann, um eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke herzustellen.

Das Kathodenzerstäubungsgerät der vorliegenden Erfindung enthält eine Zerstäubungskammer, ein Target, welches in der Zerstäubungskammer angeordnet ist, und einen Magnetfeldgenerator mit einem ein Magnetfeld erzeugenden Teil, welches eine magnetische Umschließung ausbildet, durch die eine Öffnung hindurch verläuft. Das das Magnetfeld erzeugende Teil ist an der Rückseite des Targets an einer Position gelegen, die von einer vertikalen Achse versetzt ist, welche durch das Zentrum des Targets verläuft, wobei die Öffnung in der magnetischen Umschließung in der Richtung des Versatzes gelegen ist, das heißt entlang einer Linie, die sich diametral von der genannten vertikalen Achse aus erstreckt.

Es wird demzufolge ein Magnetfeld mit einer nicht einheitlichen Verteilung an der Frontfläche des Targets erzeugt, und zwar an einer Stelle, die zwischen dem zentralen und dem peripheren Abschnitt des Targets festgelegt ist, um das Korrosionsprofil des Targets zu optimieren. Daher kann eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke durch Zerstäuben ausgebildet werden, und zwar Zerstäuben unter einem niedrigen Druck unter Verwendung eines hochdichten Plasmas. Ferner kann die Metallschicht mit einem hohen Wirkungsgrad ausgebildet werden.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Die oben erläuterten Ziele und andere Ziele, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung ergeben sich klarer aus der folgenden detaillierten Beschreibung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen, in denen zeigen:

Fig. 1 und 2 Graphen von Korrosionsprofilen von Targets bei Verwendung von herkömmlichen Kathodenzerstäubungsgeräten;

Fig. 3 ein schematisches Diagramm eines Kathodenzerstäubungsgerätes gemäß der vorliegenden Erfindung;

Fig. 4 eine perspektivische Ansicht eines wesentlichen Abschnitts eines Magnetfeldgenerators des Kathodenzerstäubungsgerätes, welches in Fig. 3 gezeigt ist;

Fig. 5 eine perspektivische Ansicht eines Hauptmagnetfelderzeugungsteiles des Magnetfeldgenerators;

Fig. 6 eine perspektivische Ansicht eines Hilfsmagnetfelderzeugungsteiles des Magnetfeldgenerators;

Fig. 7 eine Draufsicht auf einen wesentlichen Abschnitt einer anderen Ausführungsform eines Magnetfeldgenerators gemäß der vorliegenden Erfindung;

Fig. 8 eine Seitenansicht des Teiles des Kathodenzerstäubungsgerätes von Fig. 3, wobei die relativen Abstände von der Rückseite eines Targets zu den Haupt- und Hilfsmagnetfelderzeugungsteilen dargestellt sind;

Fig. 9A bis 9C jeweils ein Diagramm eines Niederschlagsprofils einer Metallschicht in Bezug auf jeweilige Korrosionsprofile eines Targets;

Fig. 10 ein Diagramm eines Korrosionsprofils eines Targets, welches unter Verwendung des Hauptmagnetfelderzeugungsabschnitts erhalten wird, der in Fig. 5 gezeigt ist;

Fig. 11 ein Diagramm eines Korrosionsprofils eines Targets, welches unter Verwendung des Hilfsmagnetfelderzeugungsabschnitts erhalten wird, der in Fig. 6 gezeigt ist;

Fig. 12 ein Diagramm eines Korrosionsprofils eines Targets, welches unter Verwendung des Magnetfeldgenerators gemäß der vorliegenden Erfindung erhalten wird;

Fig. 13 eine perspektivische Ansicht der Verteilung eines Magnetfeldes, welches durch den Magnetfeldgenerator gemäß der vorliegenden Erfindung erzeugt wird; und

Fig. 14 einen Graphen, der Korrosionsprofile von Targets darstellt, die unter Verwendung der vorliegenden Erfindung und eines herkömmlichen Kathodenzerstäubungsgerätes jeweils unter den gleichen Zerstäubungsbedingungen erhalten werden.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN

Die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun in Einzelheiten unter Hinweis auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.

Um zunächst auf Fig. 3 einzugehen, so enthält ein Kathodenzerstäubungsgerät 3 gemäß der vorliegenden Erfindung eine Zerstäubungskammer 30. Ein Substrat 34 ist innerhalb der Zerstäubungskammer 30 an einem vorbestimmten Bereich vor einem Target 32 positioniert. Das Zerstäubungsgerät 3 enthält auch eine Vakuumpumpe, um ein Vakuum innerhalb der Zerstäubungskammer 30 herzustellen, und zwar durch Auspumpen des Gases aus der Kammer. Die Zerstäubungskammer 30 ist auch mit einer Plasmaenergiequelle 36 verbunden, um Energie zu liefern, die ein Plasma erzeugt. Insbesondere ist die Plasmaenergiequelle mit dem Target 32 verbunden. Das Substrat 34 ist mit einer Vorspannstromversorgungsquelle 38 verbunden, um eine Vorspannung daran anzulegen. Es wird ein Gas, wie beispielsweise Argon, welches in die Zerstäubungskammer 30 eingeleitet wird, in ein Plasma geändert. Das auf diese Weise erzeugte Plasma schlägt auf das Target 32 auf, um Atome aus dem Target 32 zu zerstäuben. Die von der Front des Targets 32 herausgeschlagenen bzw. zerstäubten Atome werden auf dem Substrat 34 niedergeschlagen, um eine Metallschicht zu bilden.

Das Kathodenzerstäubungsgerät 3 enthält auch einen Magnetfeldgenerator 40, um ein Magnetfeld an der Front des Targets 32 zu erzeugen. Der Magnetfeldgenerator 40 bildet eine magnetische Umschließung, die effektiv das Verhalten der Atome steuern kann, die aus dem Target 32 herausgeschlagen bzw. zerstäubt werden. Fig. 4 zeigt eine perspektivische Ansicht des Abschnitts des Magnetfeldgenerators 40, der solch eine Umschließung aufweist.

Gemäß Fig. 4 enthält der Magnetfeldgenerator 40 einen Support 403 in Form einer Platte. Der Magnetfeldgenerator 40 ist derart orientiert, daß eine vertikale Linie, die durch den geometrischen Mittelpunkt der Halterungsplatte 403 hindurch verläuft, mit einer vertikalen Achse koinzidiert, die durch das Zentrum des Targets 32 hindurch verläuft. Das heißt, die Halterungsplatte 403 und das Target 32 sind relativ zueinander zentriert. Der Magnetfeldgenerator 40 enthält auch einen Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405, der an der Oberfläche der Halterungsplatte 403 angeordnet ist, und zwar versetzt von der vertikalen Achse, die durch das Zentrum des Targets 32 verläuft. Somit erzeugt der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 ein Magnetfeld, welches seitlich vom Zentrum des Targets versetzt ist.

Ferner enthält der Magnetfeldgenerator 40 eine Drehantriebseinheit, wie beispielsweise einen Motor 401, um die Halterungsplatte 403 in Drehung zu versetzen. Die Antriebseinheit 401 ist mit der Oberfläche der Halterungsplatte 403 verbunden, und zwar gegenüber derjenigen, auf der der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 40 angeordnet ist. Wenn die Halterungsplatte 403 durch die Antriebseinheit 401 in Drehung versetzt wird, wird ein Magnetfeld durch das Hauptmagnetfelderzeugungsteil 401 von der Rückseite des Targets zur Frontseite desselben hin erzeugt. Das Verhalten der Atome, die aus dem Target herausgeschlagen werden, kann effektiv durch das Magnetfeld an der Front des Targets gesteuert werden.

Die Struktur des Hauptmagnetfelderzeugungsteils 405 wird nun in Einzelheiten unter Hinweis auf Fig. 5 beschrieben. Der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 enthält ein magnetisches Ringteil 405c (magnetic annule), der eine magnetische, ein Feld bildende Umschließung herstellt, die eine Öffnung besitzt, die sich diametral dort hindurch erstreckt. Das magnetische Ringteil ist durch einen allgemein ringförmigen ersten Magneten 405c gebildet, der eine bestimmte Krümmung besitzt, und durch eine erste Öffnung 405a und eine zweite Öffnung 405b gebildet. Spezifischer ausgedrückt, umfaßt der erste Magnet 405c zwei bogenförmig gestaltete Magnetsegmente, deren Ende voneinander beabstandet sind, um die erste und die zweite Öffnung 405a bzw. 405b zu bilden. Der Bereich der ersten Öffnung 405a ist größer als derjenige der zweiten Öffnung 405b. Insbesondere ist der Bereich oder die Fläche der ersten Öffnung 405a etwa 1,1- bis 2- mal größer als derjenige bzw. diejenige der zweiten Öffnung 405b. Zusätzlich ist die erste Öffnung 405a dichter am Zentrum der Halterungsplatte 403 gelegen als die zweite Öffnung 405b. Ferner ist der erste Magnet 405c derart positioniert, daß die erste und die zweite Öffnung 405a und 405b entlang der gleichen horizontalen diametralen Linie der Halterungsplatte 403 gelegen sind. Der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 enthält auch einen zweiten Magneten 405d, der radial innerhalb von dem ersten Magneten 405c angeordnet ist. Der zweite Magnet 405d ist näher an der zweiten Öffnung 405b gelegen als an der ersten Öffnung 405a.

Der erste und der zweite Magnet 405c und 405d sind derart orientiert, daß die Magnetfeldlinien derselben in vertikaler Richtung verlaufen. Das heißt die Magnete 405c und 405d besitzen einen N-Pol, der zur Rückseite des Targets hinzeigt, und einen S-Pol in Berührung mit der Halterungsplatte 403. Als ein Ergebnis wirkt eine magnetische Kraft in der vertikalen Richtung an der Hinterseite des Targets. Die Intensität des Magnetfeldes kann eingestellt werden, das heißt kann erhöht werden, und zwar durch richtiges Anordnen des ersten und des zweiten Magnets 405c und 405d in der vertikalen Richtung.

Es wird demzufolge ein Magnetfeld mit einer vorbestimmten, nicht einheitlichen Verteilung (mit einem Profil eines asymmetrischen Kraters) an der Rückseite des Targets 32 erzeugt, und zwar durch den Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405, und hauptsächlich an einer Stelle zwischen den zentralen und den peripheren Abschnitten des Targets. Das Verhalten der Atome, die aus dem Target herausgeschlagen wurden, kann effektiv gesteuert werden und es kann das Korrosionsprofil des Targets auf diese Weise optimiert werden, wie dies noch mehr in Einzelheiten später beschrieben werden soll.

Der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 enthält auch einen ersten Rahmen 405e, einen zweiten Rahmen 40Sf und einen dritten Rahmen 405g. Der erste Rahmen 405e hat die Form einer Platte und eine Größe entsprechend der ringförmigen Umschließung, die durch den ersten Magneten 405c gebildet wird. Der zweite Rahmen 405f ist ringförmig gestaltet und hat einen Durchmesser entsprechend demjenigen des ersten Magneten 405c. Der erste Rahmen 405e ist an der Halterungsplatte 403 angebracht, und der erste Magnet 405c ist zwischen dem ersten und dem zweiten Rahmen 405e und 405f zwischengefügt. Der dritte Rahmen 405g hat die Form einer Platte und ist so große bemessen, um den zweiten Magneten 405d zu bedecken. Der zweite Magnet 405d ist daher zwischen dem ersten und dem dritten Rahmen 405e und 405g positioniert. Der erste, der zweite und der dritte Rahmen 405e, 405f und 405g fixieren den ersten und den zweiten Magneten 405c und 405d fest an Ort und Stelle. Zusätzlich umfassen der ersten, der zweite und der dritte Rahmen 405e, 405f und 405g eine magnetische Substanz. Daher kann die Intensität des Magnetfeldes, welches durch die Magnete 405c und 405d erzeugt wird, durch den ersten, den zweiten und den dritten Rahmen 405e, 405f und 405g erhöht werden.

Um erneut auf Fig. 4 einzugehen, so enthält der Magnetfeldgenerator 40 einen Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407. Der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 ist auf der Halterungsplatte 403 auf einer Seite des Zentrums der Halterungsplatte 403 gegenüber der Seite angeordnet, auf der der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 angeordnet ist. Demzufolge erzeugen die Haupt- und Hilfsmagnetfelderzeugungsteile 405 und 407 unabhängig Magnetfelder, welche das Target umschließen oder umhüllen. Die Magnetfelder, die in dieser Weise erzeugt werden, wirken als ein Magnetfeld, und zwar speziell deshalb, weil der Magnetfeldgenerator 40 in Drehung versetzt wird.

Es wird im folgenden die Konstruktion des Hilfsmagnetfelderzeugungsteiles 407 in Einzelheiten unter Hinweis auf Fig. 6 beschrieben. Das Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 enthält einen Magnetringabschnitt (magnetic annule) mit einem dritten Ringmagneten 407c, der eine vorbestimmte Krümmung besitzt. Der dritte Magnet 407c bildet eine (zweite) ein Magnetfeld bildende Umschließung mit einer dritten Öffnung 407a und mit einer vierten Öffnung 407b, die sich radial hindurch erstrecken. Um dies spezifischer auszudrücken, so umfaßt der dritte Magnet 407 zwei bogenförmig gestaltete Magnetsegmente, deren Enden voneinander beabstandet sind, um die dritte und die vierte Öffnung 407a und 407b zu bilden. Die dritte Öffnung 407a ist größer als die vierte Öffnung 407b. Insbesondere ist der Bereich oder die Fläche der dritten Öffnung 407a etwa 1,1- bis 2-mal größer als der Bereich bzw. Fläche der vierten Öffnung 407b. Darüber hinaus ist die dritte Öffnung 407a dichter am Zentrum der Halterungsplatte 403 gelegen als die vierte Öffnung 407b. Ferner ist der dritte Magnet 407c derart orientiert, daß der dritte und der vierte Öffnungsbereich bzw. -fläche 407a und 407b entlang der gleichen horizontalen Linie gelegen sind, die sich vom geometrischen Mittelpunkt der Halterungsplatte 403 aus erstreckt (das heißt entlang einer diametralen Linie der Halterungsplatte 403). In der Tat liegen die erste und die zweite Öffnung 405a und 405b des Hauptmagnetfelderzeugungsteiles 405 und die dritte und die vierte Öffnung 407a und 407b des Hilfsmagnetfelderzeugungsteiles 407 alle entlang der gleichen horizontalen Linie, die durch den geometrischen Mittelpunkt der Halterungsplatte 403 hindurch verläuft (in diesem Fall die gleiche diametrale Linie der Halterungsplatte 403).

Der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 enthält einen vierten Magneten 407d, der radial innerhalb des ringförmigen dritten Magneten 407c angeordnet ist. Der vierte Magnet 407d ist dichter an der vierten Öffnung 407b gelegen als an der dritten Öffnung 407a. Der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 erzeugt somit ebenfalls ein Magnetfeld mit einer nicht einheitlichen Verteilung an der Rückseite des Targets.

Ferner sind der dritte und der vierte Magnet 407c und 407d so orientiert, daß die Magnetfeldlinien derselben sich vertikal erstrecken (senkrecht zu der Halterungsplatte 403). Das heißt, der dritte und der vierte Magnet 407c und 407d besitzen einen N-Pol, der zur Rückseite des Targets hinweist, und besitzen einen S-Pol in Kontakt mit der Halterungsplatte 403. Als ein Ergebnis wird eine magnetische Kraft entlang einer vertikalen Richtung an der Rückseite des Targets erzeugt. Die Intensität des Magnetfeldes kann somit eingestellt werden, das heißt, sie nimmt zu, und zwar durch geeignete Anordnung der dritten und vierten Magnete 407c und 407d in vertikaler Richtung an der Rückseite des Targets. Daher kann das Verhalten der Atome (oder der Teilchen), die aus dem Target herausgeschlagen wurden, effektiv gesteuert werden und es kann das Korrosionsprofil des Targets optimiert werden, um eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und mit einer einheitlichen Dicke herzustellen.

Der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 enthält auch einen vierten Rahmen 407e, einen fünften Rahmen 407f und einen sechsten Rahmen 407g. Der vierte, der fünfte und der sechste Rahmen 407e, 407f und 407g fixieren den dritten und den vierten Magneten 407c und 407d an Ort und Stelle. Der vierte Rahmen 407e hat die Form einer Plattengestalt und besitzt eine Größe entsprechend derjenigen der Umschließung, die durch den dritten Magneten 407c gebildet wird. Der fünfte Rahmen 407f ist ringförmig gestaltet und besitzt einen Durchmesser entsprechend demjenigen des dritten Magneten 407c. Der vierte Rahmen 407e ist an der Halterungsplatte 403 angebracht und der fünfte Magnet 407c ist zwischen dem vierten und dem fünften Rahmen 407e und 407f zwischengefügt. Der sechste Rahmen 407g hat die Form einer Plattengestalt und ist so bemessen, um den vierten Magneten 407d zu bedecken. Der vierte Magnet 407d ist zwischen dem vierten und dem sechsten Rahmen 407e und 407g positioniert. Auch der vierte, der fünfte und der sechste Rahmen 407e, 407f und 407g umfassen oder enthalten eine magnetische Substanz. Daher erhöhen der vierte, der fünfte und der sechste Rahmen 407e, 407f und 407g die Intensität des Magnetfeldes, welches durch die Magnete 407c und 407d des Hilfsmagnetfelderzeugungsteils 407 erzeugt wird.

Obwohl die Konstruktion des Hilfsmagnetfelderzeugungsteiles 407 ähnlich derjenigen des Hauptmagnetfelderzeugungsteiles 405 ist, ist der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 größer als der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407. Spezieller gesagt, ist der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 etwa 1,5- bis 2-mal größer als der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407.

Zusätzlich kann der Magnetfeldgenerator 40 eine Vielzahl von Hilfsmagnetfelderzeugungsteilen aufweisen, wie dies bei der Ausführungsform von Fig. 7 gezeigt ist. Gemäß Fig. 7 sind drei Hilfsmagnetfelderzeugungsteile 407, 417 und 419 gezeigt. Die Hilfsmagnetfelderzeugungsteile 407, 417 und 419 sind auf der Halterungsplatte 403 angeordnet, und zwar versetzt vom Zentrum der Halterungsplatte 403 und beabstandet zu dem Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405. Die Zahl der Hilfsmagnetfelderzeugungsteile wird lediglich durch die Größe der Halterungsplatte 403 und durch die Magnetfelderzeugungsteile selbst eingeschränkt.

Die Höhe des Hauptmagnetfelderzeugungsteiles 405 unterscheidet sich von derjenigen des bzw. der Hilfsmagnetfelderzeugungsteile(s) 407. Spezifischer ausgedrückt, ist die Höhe (Dicke) der ersten und der zweiten Magnete 405c und 405c gleich, und die Höhe (Dicke) des dritten und des vierten Magneten 407c und 407d sind ebenfalls gleich. Jedoch sind der dritte und der vierte Magnet 407c und 407d größer (dicker) als der erste und der dritte Magnet 405c und 405d, wie dies am besten in Fig. 8 dargestellt ist.

Um nun auf Fig. 8 einzugehen, so liegenden die magnetischen Ringteile der Haupt- und Hilfsmagnetfelderzeugungsteile 405 und 407 in Ebenen, die parallel zu der Ebene des Targets 32 liegen. Der Abstand (l₁) zwischen dem Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 und der Rückseite des Targets ist kleiner als der Abstand (l₂) zwischen dem Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 und der Rückseite des Targets. Insbesondere liegt das Verhältnis aus den Abständen (l₂) zu (l₁) innerhalb des Bereiches von etwa 0,80-0,95. Demzufolge kann ein stabilisiertes Plasma für den Kathodenzerstäubungsprozeß erhalten werden.

Zusätzlich erzeugt der Magnetfeldgenerator 40 in bevorzugter Weise ein Magnetfeld von etwa 1400-1800 Gauß, und zwar gemessen an der Front des Targets 32. Wenn das Magnetfeld schwächer ist als 1400 Gauß, können die zerstäubten Atome nicht effizient gesteuert werden, und, wenn das Magnetfeld 1800 Gauß überschreitet, wird das Verhalten der Atome eingeschränkt.

Als nächstes werden Experimente, die zur Optimierung der Konstruktion des Magnetfeldgenerators der vorliegenden Erfindung durchgeführt wurden, im folgenden beschrieben.

Beziehung zwischen dem Korrosionsprofil eines Targets und dem Niederschlagsprofil einer Metallschicht

Wenn gemäß Fig. 9A die gesamte Oberfläche 90a des Targets einheitlich korrodiert wird, wird eine Metallschicht mit einem Niederschlagsprofil 92a ausgebildet, bei dem der zentrale Abschnitt dicker ist als der periphere Abschnitt.

Wenn gemäß Fig. 9B die peripheren Abschnitte der Oberfläche 90b des Targets mehr korrodiert werden als die anderen Abschnitte desselben, wird eine Metallschicht mit einem Niederschlagsprofil 92b ausgebildet, bei dem die Peripherie dicker ist als der zentrale Abschnitt.

Wenn gemäß Fig. 9C Abschnitte der Oberfläche 90c des Targets zwischen der Peripherie und dem zentralen Abschnitt des Targets mehr korrodiert werden als die anderen Abschnitte desselben, wird eine Metallschicht mit einem Niederschlagsprofil 92c mit einer relativ einheitlichen Dicke ausgebildet.

Während dieser experimentellen Beobachtungen wurde festgestellt, daß eine Metallschicht mit einem guten Niederschlagsprofil dann erhalten wird, wenn zwischenliegende Abschnitte des Targets, und zwar zwischen der Peripherie und dem zentralen Abschnitt des Targets, korrodiert werden.

Optimierung der Konstruktion eines Magnetfeldgenerators basierend auf dem Korrosionsprofil des Targets

Fig. 10 zeigt das Korrosionsprofil eines Targets, wenn der Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405, der in Fig. 5 gezeigt ist, in dem Gerät von Fig. 3 verwendet wird, und Fig. 11 zeigt das Korrosionsprofil eines Targets, wenn der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407, der in Fig. 6 gezeigt ist, in dem Gerät von Fig. 3 verwendet wird. Andererseits zeigt Fig. 12 das Korrosionsprofil eines Targets, wenn sowohl das Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 als auch das Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 verwendet werden. Wie klar aus Fig. 12 hervorgeht, ist das Korrosionsprofil des Targets ähnlich dem Profil, welches in Fig. 9C veranschaulicht ist.

Wie selbstredend aus den Fig. 10 bis 12 hervorgeht, wirken die Haupt- und Hilfsmagnetfelderzeugungsteile 405 und 407 zusammen, um ein Magnetfeld zu erzeugen, welches optimal in bezug auf die Unterstützung der Herstellung einer Magnetschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke ist.

Optimierung der Konstruktion der Öffnungen und der Krümmung der äußeren Magnete der Magnetfelderzeugungsteile

Fig. 13 zeigt die Verteilung des Magnetfeldes, welches durch das Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 erzeugt wird. Gemäß Fig. 13 ist die Verteilung des Magnetfeldes, welches durch das Hauptmagnetfelderzeugungsteil 405 erzeugt wird, nicht einheitlich, da die erste und die zweite Öffnung 405a und 405b in dem gekrümmten ersten Magneten 405c vorhanden sind. Es sei darauf hingewiesen, daß der Hilfsmagnetfelderzeugungsteil 407 ein Magnetfeld mit einer nicht einheitlichen Verteilung erzeugt, ähnlich derjenigen des Magnetfeldes, welches mit Hilfe des Hauptmagnetfelderzeugungsteiles 405 erzeugt wird.

Zusätzlich vereinfacht eine hohe Dichte des Magnetfeldes das Erstellen der gewünschten Bedingungen gemäß einem niedrigen Druck und einer hohen Dichte des Plasmaprozesses. Zu diesem Zweck umfassen die Magnete in bevorzugter Weise eine Nd-Fe-B-basierte Substanz, während die Rahmen in bevorzugter Weise eine stahlbasierte Substanz enthalten.

Wie oben beschrieben wurde, können Prozeßbedingungen gemäß einem niedrigen Druck und einer hohen Dichte unter Verwendung eines Magnetfelderzeugungsteiles gemäß der vorliegenden Erfindung erstellt werden. Zusätzlich kann eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke hergestellt werden, und zwar unter Aufrechterhaltung einer hohen Produktivität.

Vergleich der Korrosionsprofile der Targets

Fig. 14 veranschaulicht die Korrosionsprofile von Targets bei Verwendung des Kathodenzerstäubungsgerätes nach der vorliegenden Erfindung und eines herkömmlichen Kathodenzerstäubungsgerätes. Insbesondere zeigt die Kurve A das Korrosionsprofil eines Targets, wenn ein Magnetfeldgenerator des Typs verwendet wird, wie er in dem US-Patent Nr. 6,183,614 offenbart ist, während die Kurve B das Korrosionsprofil eines Targets wiedergibt, wenn ein Magnetfeldgenerator gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet wird. Diese Kathodenzerstäubungsprozesse wurden unter den gleichen Bedingungen für beide Fälle durchgeführt. Wie aus der Figur klar hervorgeht, war das Korrosionsprofil des Targets, welches erhalten wurde, wenn der Magnetfeldgenerator gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet wurde, besser.

Zusammenfassend kann festgestellt werden, daß die vorliegende Erfindung angewendet werden kann, um in vorteilhafter Weise das Korrosionsprofil des Targets während der Zerstäubung einer Metallschicht zu steuern, und zwar in einer solchen Weise, daß Defektstellen in der Metallschicht minimiert werden. Da auch ferner das Korrosionsprofil des Targets durch ein Magnetfeld gesteuert wird, welches eine nicht einheitliche Verteilung gemäß der vorliegenden Erfindung besitzt, kann eine Metallschicht mit einer guten Stufenbedeckung und einer einheitlichen Dicke realisiert werden. Darüber hinaus vereinfacht die vorliegende Erfindung das Erstellen eines wünschenswerten niedrigen Druckes und Bedingungen gemäß einer hohen Dichte, und zwar während des Kathodenzerstäubungsprozesses, ohne nachteilig die Produktivität des Kathodenzerstäubungsprozesses zu beeinflussen, wenn nicht gemäß dem Stand der Technik ein Kollimator verwendet wird und das herkömmliche LTS-Verfahren realisiert wird.

Obwohl schließlich die vorliegende Erfindung oben in Verbindung mit bevorzugten Ausführungsformen beschrieben wurde, sind zahlreiche und vielfältige Änderungen bei der Erfindung möglich, ebenso Abwandlungen derselben, wie sie für einen Fachmann offensichtlich sind. Alle solche Änderungen und Abwandlungen liegen jedoch im Rahmen der vorliegenden Erfindung, wie dieser durch die anhängenden Ansprüche festgelegt ist.

Claims

1. Kathodenzerstäubungsgerät, mit:
einer Zerstäubungskammer mit einem Bereich in derselben, der für die Aufnahme eines Substrats bestimmt ist, und zwar während eine Schicht auf dem Substrat durch Kathodenzerstäubung ausgebildet wird;
einem Target, welches innerhalb der Zerstäubungskammer angeordnet ist, wobei die Front des Targets zu dem Bereich hinweist, der durch das Substrat während der Kathodenzerstäubung besetzt ist; und
einem Magnetfeldgenerator mit einem Hauptmagnetfelderzeugungsteil, welches der Rückseite des Targets gegenüber liegt, wobei der Hauptmagnetfelderzeugungsteil einen magnetischen Ringteil (magnetic annule) aufweist, der horizontal von einer vertikalen Achse versetzt ist, die durch das Zentrum des Targets hindurch verläuft, wobei der magnetische Ringteil eine Öffnung aufweist, die sich diametral dort hindurch erstreckt, und wobei die Öffnung entlang einer diametralen Linie gelegen ist, die sich in der Richtung erstreckt, in welcher der magnetische Ringteil von der vertikalen Achse versetzt ist.

2. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 1, bei dem der Magnetfeldgenerator ferner folgendes aufweist: eine Halterungsplatte mit einem geometrischen Mittelpunkt, durch den die vertikale Achse hindurch verläuft, wobei der Hauptmagnetfelderzeugungsteil auf der Halterungsplatte angeordnet und an dieser befestigt ist; und eine Drehantriebseinheit, die mit der Halterungsplatte verbunden ist, um die Halterungsplatte um die vertikale Achse zu drehen.

3. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 2, bei dem das Hauptmagnetfelderzeugungsteil folgendes aufweist: einen ersten Magneten, der das magnetische Ringteil (magnetic annule) darstellt, wobei der erste Magnet einen positiven und negativen Pol besitzt, die vertikal einer über dem anderen angeordnet sind und der erste Magnet eine Gesamtringgestalt hat und eine erste Öffnung und eine zweite Öffnung sich radial durch diese hindurch erstrecken, wobei die erste Öffnung dichter an der vertikalen Achse gelegen ist als die zweite Öffnung; und einen zweiten Magneten mit einem positiven und negativen Pol, die vertikal einer über dem anderen angeordnet sind, wobei der zweite Magnet radial innerhalb von dem ersten Magnet angeordnet ist und dichter an der zweiten Öffnung als an der ersten Öffnung gelegen ist.

4. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 3, bei dem das Hauptmagnetfelderzeugungsteil folgendes aufweist: einen ersten Rahmen in Form einer Platte, die eine Außengestalt besitzt, die derjenigen des ersten Magneten entspricht, wobei der erste Rahmen an der Halterungsplatte befestigt ist und der erste Rahmen eine magnetische Substanz enthält; einen zweiten Rahmen, der die gleiche magnetische Substanz wie der erste Rahmen enthält, wobei der zweite Rahmen ringförmig gestaltet ist und einen Durchmesser hat, der demjenigen des ersten Magneten entspricht; und einen dritten Rahmen, der die gleiche magnetische Substanz wie der erste Rahmen enthält, wobei der dritte Rahmen die Form einer Platte hat und den zweiten Magneten abdeckt und wobei der erste Magnet zwischen dem ersten Rahmen und dem zweiten Rahmen zwischengefügt ist und der zweite Magnet zwischen dem ersten Rahmen und dem dritten Rahmen zwischengefügt ist.

5. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 2, bei dem der Magnetfeldgenerator wenigstens ein Hilfsmagnetfelderzeugungsteil aufweist, welches ein Magnetfeld erzeugt, wobei jedes Hilfsmagnetfelderzeugungsteil ein zweites magnetisches Ringteil (magnetic annule) enthält, welches horizontal von der vertikalen Drehachse versetzt ist, wobei das zweite magnetische Ringteil eine Öffnung hat, die sich diametral durch dieses hindurch erstreckt, wobei die Öffnung durch das zweite magnetische Ringteil entlang der Richtung gelegen ist, in die das zweite magnetische Ringteil von der vertikalen Achse versetzt ist.

6. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 5, bei dem wenigstens ein Hilfsmagnetfelderzeugungsteil eine Vielzahl von Hilfsmagnetfelderzeugungsteilen umfaßt, die voneinander auf der Halterungsplatte beabstandet sind.

7. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 5, bei dem jedes der wenigstens einmal vorhandenen Hilfsmagnetfelderzeugungsteile folgendes aufweist: einen dritten Magneten, der das zweite Ringteil (annule) bildet und einen positiven und negativen Pol hat, die vertikal einer über dem anderen auf der Halterungsplatte angeordnet sind, wobei der dritte Magnet eine insgesamt ringförmige Gestalt hat und eine dritte Öffnung und eine vierte Öffnung vorhanden ist, die sich radial durch diesen hindurch erstrecken, wobei die dritte Öffnung dichter an der vertikalen Achse gelegen ist als die vierte Öffnung, und wobei der dritte Magnet im Durchmesser kleiner ist als der erste Magnet des Hauptmagnetfelderzeugungsteiles und eine Höhe besitzt, die größer ist als diejenige des ersten Magneten; und einen vierten Magneten mit positiven und negativen Polen, die vertikal einer über dem anderen auf der Halterungsplatte angeordnet sind, wobei der zweite Magnet radial innerhalb von dem dritten Magneten angeordnet ist und dichter an der vierten Öffnung liegt als an der dritten Öffnung.

8. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 7, bei dem jedes Hilfsmagnetfelderzeugungsteil folgendes aufweist: einen vierten Rahmen in Form einer Platte mit einer Außengestalt, die derjenigen des dritten Magneten entspricht, wobei der vierte Rahmen an der Halterungsplatte angebracht ist und der vierte Rahmen eine magnetische Substanz enthält; einen fünften Rahmen mit der gleichen magnetischen Substanz wie der vierte Rahmen, wobei der fünfte Rahmen ringförmig gestaltet ist und einen Durchmesser entsprechend demjenigen des dritten Magneten aufweist; und einen sechsten Rahmen mit der gleichen magnetischen Substanz wie der vierte Rahmen, wobei der sechste Rahmen die Form einer Platte hat und den vierten Magneten bedeckt, und bei dem der dritte Magnet zwischen dem vierten Rahmen und dem fünften Rahmen eingefügt ist und der vierte Magnet zwischen dem vierten Rahmen und dem sechsten Rahmen eingefügt ist.

9. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 5, bei dem die magnetischen Ringteile des Hauptmagnetfelderzeugungsteiles und eines der Hilfsmagnetfelderzeugungsteile jeweilige zentrale longitudinale Achsen haben, die entlang einer diametralen Linie der Halterungsplatte gelegen sind.

10. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 5. bei dem der Hauptmagnetfelderzeugungsteil etwa die 1,1- bis 2-fache Größe des Hilfsmagnetfelderzeugungsteiles hat.

11. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 5, bei dem ein Verhältnis zwischen dem Abstand von dem Hauptmagnetfelderzeugungsteil zur Rückseite des Targets und dem Abstand von dem Hilfsmagnetfelderzeugungsteil zur Rückseite des Targets etwa bei 1 : 0,80-0,95 liegt.

12. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 7, bei dem die erste Öffnung, die zweite Öffnung, die dritte Öffnung und die vierte Öffnung alle entlang der gleichen diametralen Linie der Halterungsplatte gelegen sind.

13. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 7, bei dem der Bereich oder Fläche der ersten Öffnung etwa 1,1 bis 2-mal größer ist als derjenige bzw. diejenige des zweiten Öffnungsbereiches bzw. -fläche und bei dem der Bereich oder Fläche der dritten Öffnung etwa 1,1 bis 2-mal größer ist als derjenige bzw. diejenige der vierten Öffnung.

14. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 7, bei dem ein S-Pol des ersten Magneten, des zweiten Magneten und des dritten Magneten und auch des vierten Magneten der Halterungsplatte gegenüber liegt, und bei dem ein N-Pol des ersten Magneten, des zweiten Magneten, des dritten Magneten und des vierten Magneten der Rückseite des Targets gegenüber liegt.

15. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 1, bei dem das magnetische Ringteil (magnetic annule) des Magnetfeldgenerators und das Target in jeweiligen Ebenen liegen, die zueinander parallel verlaufen.

16. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 1, bei dem das magnetische Ringteil eine gekrümmte Gestalt besitzt.

17. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 1, bei dem das Hauptmagnetfelderzeugungsteil derart orientiert ist, daß eine magnetische Kraft, die durch dieses erzeugt wird, in einer vertikalen Richtung wirkt.

18. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 1, bei dem der Magnetfeldgenerator ein Magnetfeld von etwa 1400 bis 1800 Gauß an der Frontfläche des Targets erzeugt.