CN2573508Y - 镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种镀膜设备，包括一马达、一第一齿轮、至少二第二齿轮、至少二基板承载座、一隔板以及一镀材源，其中，第一齿轮轴设于马达的轴心，各第二齿轮分别与第一齿轮啮合，各基板承载座则分别轴设于各第二齿轮的轴心，隔板设于该等第二齿轮与该等基板承载座之间，且隔板的一侧面至少设有二遮板支架，各遮板支架的一端部固设于隔板，其另一端部朝基板承载座的设置方向延设，而镀材源与这些基板承载座相对而设。

Description

镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜设备，特别是一种光学组件的镀膜设备。

背景技术

镀膜制程在工业界的应用极广，一般常使用在金属加工业、半导体业以及光电产业等等。近几年来，又由于半导体业与光电产业的迅速发展，使得镀膜技术亦有重大的进展。

如图1所示，现有的镀膜设备1包括一马达11、一伞具式承载座12、一遮板13以及一镀材源14。其中，伞具式承载座12轴设于马达11的轴心，而且伞具式承载座12的形状类似伞状，其通常由四片承载座所组成，因此，此镀膜设备1又称为伞具式镀膜机台。遮板13设置于邻近伞具式承载座12的位置；而镀材源14与伞具式承载座12相对而设；亦即遮板13设于伞具式承载座12与镀材源14之间。

由上所述，当使用镀膜设备1来进行镀膜制程时，通常先将多个基板60固定在伞具式承载座12上，然后起动马达11以旋转伞具式承载座12，最后再利用真空蒸镀方式或溅镀方式等方式将镀材源14镀至该等基板60上；如图所示，由于镀材源14中的物质是在三维空间中行进然后才遇到该等基板60、并镀在该等基板60上，其中镀材源14的物质的行进方向可以由图1所示的箭号来表示，因此各基板60所镀上的镀膜层的厚度便会依据各基板60的位置而有所不同。

为了解决上述问题，熟知技术者便利用遮板13的设计来尽量避免各基板60的镀膜层厚度不均的情形。举例而言，遮板13的形状依据镀材源14的物质在伞具式承载座12的不同位置的浓度来决定，其形状通常为类似叶子状。

然而，利用上述的镀膜设备1在该等基板60上形成镀膜层以制造光学组件时，仍然会有部分的产品无法通过产品良率的检测，而且该等基板60上的镀膜层的均匀性无法有效地降低，举例而言，该等基板60上的镀膜层的均匀性误差百分比通常为到达1％；亦即当产品的中心波长的规格订为500nm时，经过镀膜设备1所制得的产品的总中心波长误差会到达5nm。

因此，如何改良一镀膜设备，以便改变各基板在镀膜设备中的行进位置，来降低镀材源的物质浓度不均所造成各基板的镀膜层厚度不均的情形，以及改变遮板设置的位置及方式，来进一步增加基板的镀膜层的均匀性，正是当前镀膜制程技术的重要课题之一。

发明内容

针对上述问题，本实用新型的目的在于克服现有技术的不足与缺陷，提供一种能够降低镀材源的物质浓度不均所造成各基板的镀膜层厚度不均的镀膜设备。

为达上述目的，依本实用新型的镀膜设备包括一马达、一第一齿轮、至少二第二齿轮、至少二基板承载座、一隔板以及一镀材源。在本实用新型中，第一齿轮轴设于马达的轴心，各第二齿轮分别与第一齿轮啮合，各基板承载座则分别轴设于各第二齿轮的轴心，隔板设于该等第二齿轮与该等基板承载座之间，且隔板的一侧面至少设有二遮板支架，各遮板支架的一端部固设于隔板，其另一端部朝基板承载座的设置方向延设，而镀材源与该等基板承载座相对而设。

如上所述，由于在本实用新型的镀膜设备中的基板承载座承载该等基板，并使得该等基板在同一水平面上旋转，且各基板的行进路线是在离马达轴心最远处与最近处之间移动，所以能够降低镀材源的物质浓度不均所造成各基板的镀膜层厚度不均的情形；另外，依本实用新型的镀膜设备利用该等遮板支架来架设遮板，所以能够依据制程的需要，轻易地调整遮板位置或更换不同形状的遮板，以进一步增加基板的镀膜层的均匀性。

附图说明

图1为显示现有镀膜设备的示意图；

图2为显示依本实用新型较佳实施例的镀膜设备的剖面图；

图3为显示依本实用新型较佳实施例的镀膜设备的上视图，其中仅显示马达、第一齿轮、四第二齿轮以及四基板承载座；

图4为显示依本实用新型另一较佳实施例的镀膜设备的剖面图。

图中符号说明

1     镀膜设备

11    马达

12    伞具式承载座

13    遮板

14    镀材源

2     镀膜设备

21    马达

22    第一齿轮

23    第二齿轮

24    基板承载座

25    隔板

251   遮板支架

252   遮板

26    镀材源

27    光学监控单元

28    夹具

281    测试片

60     基板

具体实施方式

以下将参照相关附图，说明依本实用新型较佳实施例的镀膜设备，其中相同的组件将以相同的参照符号加以说明。

依本实用新型较佳实施例的镀膜设备2包括一马达21、一第一齿轮22、四第二齿轮23、四基板承载座24、一隔板25以及一镀材源26。

以下参照图2所示的剖面图，说明在本实用新型较佳实施例的镀膜设备2中，各组件的相对位置。在本实施例中，马达21位于最上方，其轴心向下；第一齿轮22位于马达21下方，其圆心轴设于马达21的轴心；该等第二齿轮23与第一齿轮22位于同一平面并分布于第一齿轮22的四周，且各第二齿轮23分别与第一齿轮22啮合；各基板承载座24分别位于各第二齿轮23的下方，各基板承载座24的圆心轴设于各第二齿轮23的轴心；隔板25位于该等第二齿轮23与该等基板承载座24之间，且各第二齿轮23的轴心分别穿过隔板25；镀材源26位于最下方。

由上所述，隔板25的下平面设置有四遮板支架251。需注意的是，遮板支架的数量依据基板承载座24的数量而定。

以下说明依本实用新型较佳实施例的镀膜设备2在进行镀膜制程时的运作情形。

首先请参照图3说明马达21转动以带动各齿轮及各基板承载座的情形，需注意的是，为说明此一情形，图3仅显示马达21、第一齿轮22、四第二齿轮23以及四基板承载座24。

当马达21激活时，马达21的轴心会带动第一齿轮22转动，而第一齿轮22的转速则完全依据马达21的转速而定。此时，由于第一齿轮22与该等第二齿轮23啮合，所以该等第二齿轮23会随着第一齿轮22的转动而转动；在本实施例中，第一齿轮22与各第二齿轮23的齿轮数比最好是3：1，亦即当第一齿轮22旋转一周时，各第二齿轮23会旋转3周。接着，由于各基板承载座24的圆心轴设于各第二齿轮23的轴心上，所以当各第二齿轮23被第一齿轮22带动时，各基板承载座24会随着各第二齿轮23的转动而转动。

其次，在本实施例中，该等第二齿轮23的轴心为双轴承，其外轴承固设于隔板25上，其内轴承穿过隔板25并连接于该等基板承载座24的圆心。因此，该等第二齿轮23与该等基板承载座24不会相对于隔板25移动，而只会相对转动；当在隔板25的各遮板支架251上设置遮板252时，如图4所示，此遮板252可以有效地控制镀材源的物质镀在各基板承载座24所承载的基板上的厚度。在本实施例中，遮板252的形状依照基板上所镀的物质的特定厚度所形成，且各遮板252设置于各遮板支架251的位置为可调整，以便调整各遮板252与各基板承载座24的距离，因此能够于基板上形成一特定厚度的镀膜层。

最后，在各基板承载座24上放置多个基板，并将镀材源26镀于该等基板上。在本实施例中，镀材源26可依不同需求而更换。若利用真空蒸镀方式时，镀材源26可为一置于高温坩埚(Crucible)的蒸镀源，同时亦可为利用电子束(Electron Beam)加热的蒸镀源；当利用溅镀方式时，镀材源26可为一位于直流电浆(DC Plasma)的阴极靶材。当然，镀材源26亦可为一填装有镀材的射出器。

如上所述，利用本实施例的镀膜设备2所制得的产品为一光学组件。与现有的镀膜设备1(如图1所示)比较，当利用本实用新型的镀膜设备2在多个基板上形成镀膜层以制造光学组件时，所制得的光学组件的的镀膜层的均匀性能够有效地提高；举例而言，利用镀膜设备2在基板上形成的镀膜层的均匀性误差百分比通常可以降为0.5％；亦即当产品的中心波长的规格订为500nm时，经由镀膜设备2所制得的产品的总中心波长误差仅为2.5nm，其小于利用镀膜设备1所制得的产品的总中心波长误差5nm。

另外，如图4所示，依本实用新型较佳实施例的镀膜设备2可以更包括一光学监控单元27以及一夹具28。在本实施例中，光学监控单元27与夹具28分别邻设于基板承载座24，光学监控单元27能够监测上述镀膜层的厚度，以实时监控镀膜制程的进度，而夹具28用以夹置一测试片281，另外夹具28亦可以是夹置一石英震荡片，以便镀膜设备2的操作人员能够利用此测试片281(或石英震荡片)来判断在基板上所形成的镀膜层的厚度，以便进行镀膜制程的监控与制程条件的修正。

综上所述，由于依本实用新型较佳实施例的镀膜设备利用各基板承载座来承载多个基板，所以能够让该等基板在同一水平面上旋转，且各基板的行进路线在离马达轴心最远处与最近处之间移动，从而以降低镀材源的物质浓度不均所造成各基板上的镀膜层厚度不均的问题；另外，依本实用新型较佳实施例的镀膜设备利用多个遮板支架来架设遮板，所以能够依据制程的需要，轻易地调整遮板位置或更换不同形状的遮板，以进一步增加各基板上的镀膜层的均匀性。

Claims (10)

1.一种镀膜设备，包含：

一马达；

一第一齿轮，其轴设于该马达的轴心；

至少二第二齿轮，其分别与该第一齿轮啮合；

至少二基板承载座，其分别轴设于各第二齿轮的轴心；

一隔板，其设于该等第二齿轮与该等基板承载座之间，且该隔板的一侧面至少设有二遮板支架，各遮板支架的一端部固设于该隔板，且其另一端部朝该基板承载座的设置方向延设；以及

一镀材源，其与该等基板承载座相对而设。

2.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，该第一齿轮的齿轮数与各第二齿轮的齿轮数的比值约为3。

3.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，各基板承载座分别用以承载多个基板。

4.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，将该镀材源镀于该等基板上。

5.如权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，经过镀膜的该基板为一光学组件。

6.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，各遮板支架分别用以设置一遮板，且该遮板设置于该镀材源与该等基板承载座之间。

7.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，该遮板设置于各遮板支架的位置为可调整，以调整该遮板与该基板承载座的距离。

8.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，于该基板上形成一特定厚度的镀膜层，而该遮板依照该镀膜层的特定厚度而形成。

9.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，更包括：一光学监控单元，其邻设于该等基板承载座之一。

10.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，更包括：一测试片夹具，其邻设于该等基板承载座之一。

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