CN117488248B - 修正板的设计方法、修正板、镀膜装置以及镀膜方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种修正板的设计方法、修正板、镀膜装置以及镀膜方法，该设计方法首先采用初始修正板确定伞架上每一圈基片中目标基片的运动轨迹对应的投影弧线、以及该投影弧线的初始角度；而后根据各目标基片对应的投影弧线的初始角度、在其未使用修正板进行镀膜时的第一膜厚、其在使用修正板进行镀膜时的第二膜厚，确定各目标基片对应的修正系数；最后根据指定的目标膜厚、以及各目标基片对应的第二膜厚及修正系数，对各目标基片对应的投影弧线的初始角度进行调整得到相应的目标角度，并基于各目标基片对应的投影弧线的目标角度，确定目标修正板的轮廓。本发明通过理论计算的方式设计修正板的轮廓，能够提高修正板设计的精度和效率。

Description

修正板的设计方法、修正板、镀膜装置以及镀膜方法

技术领域

本发明涉及蒸发镀膜技术领域，尤其涉及一种修正板的设计方法、修正板、镀膜装置以及镀膜方法。

背景技术

目前，行业内镀膜加工使用的镀膜装置多采用旋转基片的方式进行镀膜。如图1所示，在镀膜的真空腔室1上部设置有由电机2驱动旋转的球形或锥形伞架3，其中，伞架3中心到边缘的不同半径的位置上设有数个基片31，且其中心到边缘的一中间位置处下方设置有由蒸发物质41置于坩埚42内而形成的镀膜源4。待真空腔室1抽至高真空后，由电机2驱动伞架3以一定的速度旋转，同时使镀膜源上的蒸发物质蒸发，该蒸发物质的原子或分子将以冷凝方式沉积在基片31表面，形成薄膜。

在上述镀膜工序中，由于镀膜源正上方的蒸发物浓度较高，导致镀膜源正对的基片膜层往往厚于其它位置上的基片膜层，故伞架3径向方向的膜厚分布修正是必要的。目前，针对这一问题，常用的解决方法是在伞架3与镀膜源4之间设置一修正板5（例如安装于支撑架6上），通过修正板5来遮挡镀膜源4正上方的蒸发物，以减少镀膜源4正上方基片膜层的厚度，进而修正不同圈基片膜层厚度的差异。然而，传统技术主要是通过对基片31进行多次镀膜实验，并根据每次实验后的膜厚分布按照经验来调整修正板5的形状，以便最后得到需要的修正板形状，而依靠实验对修正板5的反复修正，容易导致对修正板5进行修正的精度和效率过低。

发明内容

针对上述现有技术的不足，本发明提供一种修正板的设计方法、修正板、镀膜装置以及镀膜方法，以提高修正板设计的精度和效率，进而提高镀膜装置镀膜的均匀性。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供一种修正板的设计方法，用于设计镀膜装置中使用的目标修正板，所述镀膜装置包括球形或锥形的伞架及镀膜源，且所述伞架的中心至边缘用于安装多圈基片，其中，所述设计方法包括：

在所述伞架与镀膜源之间设置长度沿所述伞架的径向方向延伸的初始修正板，同时从每圈基片中分别选择一个基片作为目标基片，并标记所述伞架转动时各所述目标基片在所述初始修正板的中轴线、以及长度方向两侧的边缘处的投影点，所述投影点为相应所述目标基片与所述镀膜源之间的直连线相交于所述初始修正板相应位置的交点；

针对每个所述目标基片，以该目标基片对应的三个所述投影点为基准，确定该目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及该投影弧线的初始角度；

根据各所述目标基片对应的所述投影弧线的初始角度、第一膜厚以及第二膜厚，确定各所述目标基片对应的修正系数，其中，所述第一膜厚为相应所述目标基片在未使用修正板进行镀膜时的膜厚，所述第二膜厚为相应所述目标基片在使用所述初始修正板进行镀膜时的膜厚；

根据指定的目标膜厚、以及各所述目标基片对应的所述第二膜厚及修正系数，对各所述目标基片对应的所述投影弧线的角度进行调整得到相应的目标角度；

基于各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板的轮廓。

优选地，所述根据各所述目标基片对应的投影弧线的初始角度、第一膜厚以及第二膜厚，确定各所述目标基片对应的修正系数，包括按照以下公式确定所述目标基片对应的修正系数p：

p=(Wl.M0-Wl.M1)/(Mask.a0-Mask.a1)

其中，Wl.M0表示相应所述目标基片对应的第一膜厚，Wl.M1表示相应所述目标基片对应的第二膜厚，Mask.a0取0，Mask.a1表示相应所述目标基片对应的所述投影弧线的初始角度。

优选地，所述根据指定的目标膜厚、以及各所述目标基片对应的所述第二膜厚及修正系数，对各所述目标基片对应的所述投影弧线的角度进行调整得到相应的目标角度，包括按照以下公式确定各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度Mask.a2：

Mask.a2=(Wl.M2-Wl.M1)/p+Mask.a1

其中，Wl.M2表示所述目标膜厚，Wl.M1表示相应所述目标基片对应的第二膜厚，Mask.a1表示相应所述目标基片对应的所述投影弧线的初始角度，p表示所述目标基片对应的修正系数。

优选地，所述基于各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板的轮廓，包括：

基于各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板的多个边缘点；

对所述目标修正板的各所述边缘点进行拟合，得到所述目标修正板的轮廓。

优选地，在确定所述目标修正板的轮廓之后，所述方法还包括以下步骤：

按照所述目标修正板的轮廓制得所述目标修正板，并获取相应所述目标基片在使用所述目标修正板进行镀膜时的实际膜厚Wl.M3；

按照以下公式对各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度进行调整：

Mask.a3=(Wl.M2-Wl.M3)/p+Mask.a2

其中，Wl.M2表示所述目标膜厚，Mask.a2表示相应所述目标基片对应的投影弧线的所述目标角度，Mask.a3表示相应所述目标角度的调整结果，p表示相应所述目标基片对应的修正系数。

优选地，在确定各所述目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及各投影弧线的初始角度之后，所述方法还包括：

在所述初始修正板对应的模型图中，展示各所述目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及各所述投影弧线的初始角度。

优选地，在得到各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度之后，所述方法还包括：

在所述目标修正板对应的模型图中，展示各所述目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及各所述投影弧线的目标角度。

第二方面，本发明提供一种修正板，该修正板为采用前述设计方法获得的所述目标修正板。

第三方面，本发明提供一种镀膜装置，所述镀膜装置包括球形或锥形的伞架、镀膜源以及设置于所述伞架与镀膜源之间的修正板，其中，所述修正板采用前述设计方法获得。

第四方面，本发明提供一种镀膜方法，所述镀膜方法包括：

将待镀膜的多个基片安装于如前所述的镀膜装置中的伞架上；

旋转所述伞架，并利用所述镀膜源对所述基片进行蒸发镀膜。

通过采用上述技术方案，本发明具有以下有益效果：

本申请的设计方法首先采用初始修正板确定伞架上每一圈基片中目标基片的运动轨迹对应的投影弧线、以及该投影弧线的初始角度；而后根据各目标基片对应的投影弧线的初始角度、在其未使用修正板进行镀膜时的第一膜厚、其在使用所述修正板进行镀膜时的第二膜厚，确定各所述目标基片对应的修正系数；最后，根据指定的目标膜厚、以及各所述目标基片对应的所述第二膜厚及修正系数，对各所述目标基片对应的所述投影弧线的初始角度进行调整得到相应的目标角度，并基于各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板的轮廓。可见，本发明通过理论计算的方式设计修正板的轮廓，能够提高修正板设计的精度和效率。同时，本发明在设计过程中结合了基片的实际运动轨迹，能够进一步提高修正板的精度。

附图说明

图1为典型的镀膜装置的结构示意图；

图2为本发明的修正板的设计方法的流程图；

图3为本发明的修正板的设计方法的原理图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。在本公开和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

如图1所示，镀膜装置通常主要包括球形或锥形的伞架3及镀膜源4，其中，伞架3的中心至伞架3的边缘用于安装多圈待镀膜的基片31，镀膜源4设置于伞架3一侧的中心到边缘的中间位置（如中点）处的下方。应该理解，同一圈基片31位于伞架3的相同半径处，即与伞架3的中心之间的距离相同，故运动轨迹也相同。本发明中的基片31可以为光学元件、金属基片等需要进行镀膜的器件，基片31的类型不作限定，可以根据实际镀膜需求进行调整。

在镀膜过程中，根据蒸发镀膜原理，由于镀膜源4正上方的蒸发物浓度较高，导致镀膜源4正对的基片膜层往往厚于其它位置上的基片膜层。针对这一问题，目前常用的解决方法如图1所示，在伞架3与镀膜源4之间设置一修正板5，通过修正板5来遮挡镀膜源4正上方的蒸发物，以减少镀膜源4正上方基片膜层的厚度，修正不同圈基片膜层厚度的差异。其中，修正板5的外形轮廓决定了对各基片31遮挡的面积，对膜厚的均匀性至关重要。

对此，本实施例提供一种修正板的设计方法、修正板、镀膜装置以及镀膜方法，以提高修正板设计的精度和效率，进而提高镀膜均匀性。

实施例1

本实施例提供一种修正板的设计方法，用于设计上述镀膜装置中使用的修正板5的外形轮廓。如图2-3所示，该方法具体包括以下步骤：

S1，在伞架3与镀膜源4之间、沿伞架3的径向方向设置大致呈长方形的初始修正板5′（其轮廓如图3中的虚线轮廓所示），同时从每圈基片31中分别选择一个基片31作为目标基片31（目标基片31的运动轨迹即代理该圈所有基片31的运动轨迹），并标记伞架3转动时各目标基片31在初始修正板5′的中轴线、以及长度方向两侧的边缘处的投影点。其中，投影点定义为相应目标基片31（例如以基片31的中心点表示）与镀膜源4（例如以镀膜源4蒸发表面的中心点表示）之间的直连线相交于初始修正板5′相应位置（即中轴线以及两侧边缘）的交点。

其中，目标基片31可以选择同一半径方向上的基片31，也可以选择不同半径方向上的基片31，本实施例对此不作任何限定，可以根据实际需要进行调整。

在一可实施的方式中，本步骤的具体实现过程如下：

S11，在伞架3与镀膜源4之间设置支撑轴7以用于安装修正板5，其中，该支撑轴7沿伞架3的径向方向延伸、且其两端至伞架3之间的距离相等。

S12，转动伞架3，使相应目标基片31与镀膜源4及支撑轴7上的某点处于同一直线上（具体可以通过拉线的方式判断三者是否处于同一直线上），而后将该某点作为相应目标基片31在初始修正板5′的中轴线上的投影点。

S13，将初始修正板5′安装于支撑轴7上，并且使初始修正板5′的中轴线与支撑轴7对齐。

S14，转动伞架3，使相应目标基片31与初始修正板5′一侧边缘（长度方向）的某点以及镀膜源4处于同一直线上，并将该某点作为相应目标基片31在初始修正板5′的该一侧边缘上的投影点。

S15，转动伞架3，使相应目标基片31与初始修正板5′另一侧边缘（长度方向）的某点以及镀膜源4处于同一直线上，并将该某点作为相应目标基片31在初始修正板5′的该另一侧边缘上的投影点。

通过上述步骤S11-S15，即可得到每个目标基片31在初始修正板5′的中轴线、以及长度方向两侧的边缘处的三个投影点。其中，由于同一目标基片31在初始修正板5′的两侧边缘上的投影点应相对于其中轴线对称，故步骤S15也可以依据对称关系确定相应目标基片31在初始修正板5′的另一侧边缘上的投影点。

S2，针对每个目标基片31，以该目标基片31对应的三个投影点为基准，确定该目标基片31的运动轨迹对应的投影弧线以及该投影弧线的初始角度。

具体地，如图3所示，假设一目标基片31在初始修正板5′的中轴线上的投影点为O，在初始修正板5′的一侧边缘上的投影点为A，在初始修正板5′的另一侧边缘上的投影点为B（点A与点B应相对于中轴线对称），则基于A、O、B三点可以确定一以P点为中点的弧段，该弧段能够反映伞架3转动时目标基片31的运动轨迹，即，该弧段/>即为相应目标基片31的运动轨迹投影于初始修正板5′上的投影弧线。得到相应的投影弧线后，可以通过量测方法得到该投影弧线的角度，记为初始角度∠APB。

S3，根据各目标基片31对应的投影弧线（目标基片31对应的投影弧线即为目标基片31的运动轨迹对应的投影弧线）的初始角度、第一膜厚以及第二膜厚，确定各所述目标基片31对应的修正系数，其中，所述第一膜厚为相应所述目标基片31在未使用任何修正板5进行镀膜时的膜厚，所述第二膜厚为相应所述目标基片31在使用所述初始修正板5′进行镀膜时的膜厚。在本实施例中，膜厚可以通过分光光度计进行测量。

在一可实施的方式中，本步骤按照以下公式确定所述目标基片31对应的修正系数p：

p=(Wl.M0-Wl.M1)/(Mask.a0-Mask.a1)

其中，Wl.M0表示相应所述目标基片31对应的第一膜厚，Wl.M1表示相应所述目标基片31对应的第二膜厚，Mask.a0取0，Mask.a1表示相应所述目标基片31对应的所述投影弧线的初始角度。

S4，根据指定的目标膜厚、以及各所述目标基片31对应的所述第二膜厚及修正系数，对各所述目标基片31对应的所述投影弧线的角度进行调整得到相应的目标角度。

在一可实施的方式中，本步骤按照以下公式确定各所述目标基片31对应的所述投影弧线的目标角度Mask.a2：

Mask.a2=(Wl.M2-Wl.M1)/p+Mask.a1

其中，Wl.M2表示所述目标膜厚，Wl.M1表示相应所述目标基片31对应的第二膜厚，Mask.a1表示相应所述目标基片31对应的所述投影弧线的初始角度，p表示相应目标基片31对应的修正系数。

例如，如图3所示，当一目标基片31对应的投影弧线的初始角度为∠APB，经过上述步骤计算后，其目标角度应增大为∠CPD，则说明该投影弧线应该延长；反之，如果目标角度相对于相应的初始角度减小，则说明该投影弧线应该缩短。应该理解，投影弧线越长，修正板5的相应位置应越宽。

S5，基于各所述目标基片31对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板5的轮廓。

在一可实施的方式中，本步骤首先基于各目标基片31对应的投影弧线的目标角度，确定目标修正板5的各边缘点。具体地，将相应目标基片31对应的投影弧线调整为目标角度后，以调整后的投影弧形线的两个端点为目标修正板5的边缘点。

例如，如图3所示，假设一目标基片31对应的投影弧线的初始角度为∠APB、目标角度为∠CPD，则应将投影弧线延长为/>，并确定C、D点作为目标修正板5的两个侧边缘上的边缘点。应该理解，在对投影弧线进行调整时，同一目标基片31对应的投影弧线的中点和半径应保持不变，仅对其角度进行调整引起其端点变化。

而后，对目标修正板5的各边缘点进行拟合，即可得到目标修正板5的轮廓，如图3中所示的大致呈橄榄形的轮廓。

本实例的设计方法通过理论计算的方式确定修正板5的轮廓，能够提高修正板5设计的精度和效率。同时，本发明在设计过程中结合了基片31的实际运动轨迹，能够进一步提高修正板5的精度。

优选地，在确定目标修正板5的轮廓之后，本发明的方法还包括以下校准步骤：

首先，按照目标修正板5的轮廓制得目标修正板5，并获取相应目标基片31在使用目标修正板5进行镀膜时的实际膜厚Wl.M3，其中，使用目标修正板5进行镀膜时目标修正板5安装于前述安装轴上；

而后，按照以下公式对各目标基片31对应的投影弧线的目标角度进行调整：

Mask.a3=(Wl.M2-Wl.M3)/p+Mask.a2

其中，Wl.M2表示目标膜厚，Mask.a2表示步骤S4中得到的相应目标基片31对应的投影弧线的目标角度，Mask.a3表示相应目标角度的调整结果，p表示相应目标基片31对应的修正系数。

通过上述校准步骤，能够基于实际测试结果对目标修正板5进行校准，从而进一步提高修正板5设计的精确度。应该理解，可以将相应目标角度的调整结果作为新的目标角度，并重复执行上述校准步骤。

优选地，在步骤S2确定各目标基片31的运动轨迹对应的投影弧线以及各投影弧线的初始角度之后，本实施例的方法还包括：在初始修正板5′对应的模型图（如 CAD图）中，展示各目标基片31的运动轨迹对应的投影弧线以及各投影弧线的初始角度。在步骤S4得到各目标基片31对应的投影弧线的目标角度之后，本实施例的方法还包括：在目标修正板5对应的模型图中，展示各目标基片31的运动轨迹对应的投影弧线以及各投影弧线的目标角度。从而，通过可视化图纸确保修正板5设计的高精确度。

实施例2

本实施例提供一种修正板，该修正板为采用实施例1提供的设计方法获得的目标修正板5。

由于本实施例的修正板5采用实施例1提供的设计方法获得，因而该修正板5的轮廓更加精确。

实施例3

本实施例提供一种镀膜装置，如图1所示，该镀膜装置包括球形或锥形的伞架3、镀膜源4以及通过前述支撑轴7安装于所述伞架3与镀膜源4之间的修正板5，且所述修正板5为采用实施例1提供的设计方法获得的所述目标修正板5。

其中，伞架3的中心至伞架3的边缘用于安装多圈待镀膜的基片31，镀膜源4设置于伞架3一侧的中心到边缘的中间位置（如中点）处下方。在镀膜过程中，通过修正板5来遮挡镀膜源4正上方的蒸发物，以减少镀膜源4正上方基片膜层的厚度，进而修正不同圈基片膜层厚度的差异。

由于本实施例的修正板5采用实施例1提供的设计方法获得，因而通过本实例的镀膜装置，能够精准修正不同圈基片膜层厚度的差异，从而提高镀膜均匀性。

在本实施例中，镀膜装置中可以设置一个修正板5，也可以设置两个以上沿周向均匀分布的修正板5，其中，相邻修正板5之间间隔相同的角度。例如，在镀膜装置中设置三个修正板5，每两个修正板5之间间隔120°。修正板5的具体数量和设置方式可以根据实际的需求进行选择。

实施例4

本实施例提供一种镀膜方法，该镀膜方法具体包括以下步骤：将待镀膜的多个基片31安装于实施例3提供的镀膜装置中的伞架3上；旋转所述伞架3，并利用所述镀膜源4对所述基片31进行蒸发镀膜。

具体地，伞架3上具有多圈用于安装基片31的安装位，本实施例首先将基片31置于相应的安装位上，并将真空腔室1抽至真空；而后，通过电机2带动伞架3旋转，同时通过镀膜源4将镀膜材料进行蒸发，使得蒸发的材料可以在基片31的表面上凝结成膜。其中，在镀膜装置中可以设置多个不同种材料的蒸发源，在镀膜过程中可以通过不同材料的蒸发，为基片31进行镀膜。

在镀膜过程中，由于采用了实施例1的设计方法设计的修正板5，因而可以对不同圈的基片31进行精准的遮挡，以改善镀膜基片31的膜厚分布，提高膜厚均匀性。

虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这仅是举例说明，本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种修正板的设计方法，用于设计镀膜装置中使用的目标修正板，所述镀膜装置包括球形或锥形的伞架及镀膜源，且所述伞架的中心至边缘用于安装多圈基片，其特征在于，所述设计方法包括：

在所述伞架与镀膜源之间设置长度沿所述伞架的径向方向延伸的初始修正板，同时从每圈基片中分别选择一个基片作为目标基片，并标记所述伞架转动时各所述目标基片在所述初始修正板的中轴线、以及长度方向两侧的边缘处的投影点，所述投影点为相应所述目标基片与所述镀膜源之间的直连线相交于所述初始修正板相应位置的交点；

针对每个所述目标基片，以该目标基片对应的三个所述投影点为基准，确定该目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及该投影弧线的初始角度；

根据各所述目标基片对应的所述投影弧线的初始角度、第一膜厚以及第二膜厚，确定各所述目标基片对应的修正系数，其中，所述第一膜厚为相应所述目标基片在未使用修正板进行镀膜时的膜厚，所述第二膜厚为相应所述目标基片在使用所述初始修正板进行镀膜时的膜厚；

根据指定的目标膜厚、以及各所述目标基片对应的所述第二膜厚及修正系数，对各所述目标基片对应的所述投影弧线的角度进行调整得到相应的目标角度；

基于各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板的轮廓；所述根据各所述目标基片对应的投影弧线的初始角度、第一膜厚以及第二膜厚，确定各所述目标基片对应的修正系数，包括按照以下公式确定所述目标基片对应的修正系数p：

p=(Wl.M0-Wl.M1)/(Mask.a0-Mask.a1)

其中，Wl.M0表示相应所述目标基片对应的第一膜厚，Wl.M1表示相应所述目标基片对应的第二膜厚，Mask.a0取0，Mask.a1表示相应所述目标基片对应的所述投影弧线的初始角度。

2.如权利要求1所述的设计方法，其特征在于，所述根据指定的目标膜厚、以及各所述目标基片对应的所述第二膜厚及修正系数，对各所述目标基片对应的所述投影弧线的角度进行调整得到相应的目标角度，包括按照以下公式确定各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度Mask.a2：

Mask.a2=(Wl.M2-Wl.M1)/p+Mask.a1

其中，Wl.M2表示所述目标膜厚，Wl.M1表示相应所述目标基片对应的第二膜厚，Mask.a1表示相应所述目标基片对应的所述投影弧线的初始角度，p表示所述目标基片对应的修正系数。

3.如权利要求1所述的设计方法，其特征在于，所述基于各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板的轮廓，包括：

基于各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度，确定所述目标修正板的多个边缘点；

对所述目标修正板的各所述边缘点进行拟合，得到所述目标修正板的轮廓。

4.如权利要求1所述的设计方法，其特征在于，在确定所述目标修正板的轮廓之后，所述方法还包括以下步骤：

按照所述目标修正板的轮廓制得所述目标修正板，并获取相应所述目标基片在使用所述目标修正板进行镀膜时的实际膜厚Wl.M3；

按照以下公式对各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度进行调整：

Mask.a3=(Wl.M2-Wl.M3)/p+Mask.a2

其中，Wl.M2表示所述目标膜厚，Mask.a2表示相应所述目标基片对应的投影弧线的所述目标角度，Mask.a3表示相应所述目标角度的调整结果，p表示相应所述目标基片对应的修正系数。

5.如权利要求1所述的设计方法，其特征在于，在确定各所述目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及各投影弧线的初始角度之后，所述方法还包括：

在所述初始修正板对应的模型图中，展示各所述目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及各所述投影弧线的初始角度。

6.如权利要求1所述的设计方法，其特征在于，在得到各所述目标基片对应的所述投影弧线的目标角度之后，所述方法还包括：

在所述目标修正板对应的模型图中，展示各所述目标基片的运动轨迹对应的投影弧线以及各所述投影弧线的目标角度。

7.一种修正板，其特征在于，该修正板为采用前述权利要求1-6中任一项所述的设计方法获得的所述目标修正板。

8.一种镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置包括球形或锥形的伞架、镀膜源以及设置于所述伞架与镀膜源之间的修正板，其中，所述修正板采用前述权利要求1-6中任一项所述的设计方法获得。

9.一种镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括：

将待镀膜的多个基片安装于如权利要求8所述的镀膜装置中的伞架上；

旋转所述伞架，并利用镀膜源对所述基片进行蒸发镀膜。