JP5028584B2 - 液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 - Google Patents
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Description
また、基板方位角可変機構が、基板が配置される平面内で基板の方位角を0〜360°の範囲から選択した任意の角度に設定する構成にした。さらに、基板方位角可変機構が、基板を搭載するためのθステージであって基板面に対して水平に回転自在なθステージ、およびθステージの駆動源により構成した。
またさらに、基板スライド機構が、可動テーブルおよび可動テーブルの駆動源により構成され、可動テーブルに基板が搭載される構成とした。
また、基板保持機構が、基板押さえであって基板保持機構との間に基板の少なくとも一部分を挟むように構成された基板押さえ、及び基板押さえの開閉機構を備える構成とした。
また、開口領域及び遮蔽領域からなりスリット開口面に平行に配置される1枚の冶具シャッター、及び冶具シャッターを移動制御する移動手段を備え、スリットが装着される場合にはスリットの開口形状、装着されない場合にはスリット開口によって画定される領域をスリット領域とした場合、開口領域はスリット領域よりも大きく、基板のスライド動作に際し、移動手段によって、スリット領域とスライドされる基板とがオーバーラップしない領域を遮蔽領域が遮蔽し、かつ、スリット領域、スライドされる基板及び開口領域がオーバーラップするように冶具シャッターが移動制御されるようにした。
他の構成として、スリット開口面に平行に配置される2枚の冶具シャッター、及び冶具シャッターを移動制御する移動手段を備え、スリットが装着される場合にはスリットの開口形状、装着されない場合にはスリット開口によって画定される領域をスリット領域とした場合、基板のスライド動作に際し、移動手段によって、スリット領域とスライドされる基板とがオーバーラップしない領域をいずれか一方の冶具シャッターが遮蔽し、かつ、スリット領域、スライドされる基板及び2枚の冶具シャッターの隙間がオーバーラップするように冶具シャッターが移動制御されるようにした。
なお、実施例においては冶具シャッター64、67及び68をスリット機構23と基板6との間に配置したが、スリット機構23の蒸着源7側の面に配置してもよい。
まず、仕込室2に格納された未処理基板6をバッファー室4のロボット5が成膜室1に搬入する。成膜室1への基板6の搬出入は真空状態を維持したまま行われるものとし、成膜室1、バッファー室4、および仕込室3は図示しない排気系統により所定の真空度に設定されている。基板6の搬出入時は公転機構10を操作し、搬出入を行う基板治具ユニット8をバッファー室4に対面させる。ロボット5をもちいて基板6を基板着脱機構22に受渡した後、ベース70と基板押さえ72により基板6を固定させればよい。ロボット5、公転機構10、および基板着脱機構22を操作し、全ての基板治具ユニット8に基板6を取付けた後、予め制御装置16に入力された成膜条件に基づいて、真空中にて基板入射角可変機構11および基板方位角可変機構21を操作する。
2 仕込室
3 取出室
4 バッファー室
5 ロボット
6 基板
7 蒸着源
8 基板治具ユニット
10 公転機構
11 基板入射角可変機構
12 電子銃
13 蒸着材料
14 電子ビーム
15 シャッター
16 制御装置
20 基板スライド機構
21 基板方位角可変機構
22 基板着脱機構
23 スリット機構
24 真空モータ
25 ボールねじ
26 可動テーブル
30 支持板
31 カムフォロア
32 真空モータ
33 ボールねじ
34 支軸
35 カムガイド板
36 カム孔
37 支持板
38 可動部
39 アーム
40 ボールねじ
41 真空モータ
50 θステージ
51 駆動源
52 回転位置
60 スリット
61 スリット開口
62 Vローラ
63 治具シャッター
64 治具シャッター
65 開口
66 遮蔽部
67 治具シャッター
68 治具シャッター
70 ベース
71 ステッピングモータ
72 基板押さえ
73 基板押さえ板
74 カム孔
75 アーム
76 カムフォロア
77 クランプ
78 駆動源
80 基板
81 樹脂膜
82 ラビング用ローラ
90 基板
91 蒸着源
92 入射角
93 基板垂線
94 基板蒸着源間距離
95 基板サイズ
100 蒸着粒子の入射方向
101 方位角
Claims (16)
- 排気手段を有する真空槽内に、蒸着源、及び蒸着される基板を保持する基板保持機構を備え、該基板面に液晶配向膜を形成する液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
各基板保持機構が、該基板に対して蒸着粒子の入射状態を調整するスリット開口を有する少なくとも1つのスリット機構、及び該スリット開口に対する該基板の相対位置を調整するために該基板保持機構を移動させる可動機構からなり、
該可動機構が、少なくとも、該基板を該基板面に対して水平に回転制御する基板方位角可変機構を備え、
該基板方位角可変機構が、該基板を搭載するためのθステージであって該基板面に対して水平に回転自在なθステージ及び該θステージの駆動源からなることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項1記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
各スリット機構について、
該スリット機構を該スリット開口に関して回転させ、該スリット開口面と該蒸着源とのなす角を調整する基板入射角可変機構を設けたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項1又は2記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該可動機構が、少なくとも、該スリットにより入射方向を規制された蒸着粒子を横切るように該基板を移動させる基板スライド機構からなることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項2記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該基板入射角可変機構が、該スリット開口と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板垂線とがなす入射角を0〜90°の範囲から選択した任意の角度に設定することを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項4記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該基板入射角可変機構が、固定軸と、直線駆動源に連結する可動軸により該基板を支持し、該直線駆動源を駆動することにより該固定軸を支点として該基板を傾斜させることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項1記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該基板方位角可変機構が、該基板が配置される平面内で該基板の方位角を0〜360°の範囲から選択した任意の角度に設定することを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項3記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該基板スライド機構が、可動テーブルおよび該可動テーブルの駆動源により構成され、該可動テーブルに該基板が搭載されることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項1記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該基板保持機構が、基板押さえであって該基板保持機構との間に該基板の少なくとも一部分を挟むように構成された基板押さえ、及び該基板押さえの開閉機構を備えたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項3記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
各スリット機構において、所望の開口形状を有するスリットが脱着可能であることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項3記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該スリット開口を開閉する治具シャッターを備えたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項3記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
開口領域及び遮蔽領域からなり該スリット開口面に平行に配置される1枚の冶具シャッター、及び該冶具シャッターを移動制御する移動手段を備え、
前記スリットが装着される場合には該スリットの開口形状、装着されない場合には前記スリット開口によって画定される領域をスリット領域とした場合、
該開口領域は該スリット領域よりも大きく、
該基板のスライド動作に際し、該スリット領域とスライドされる該基板とがオーバーラップしない領域を該遮蔽領域が遮蔽し、かつ、該スリット領域、スライドされる該基板及び該開口領域がオーバーラップするように該冶具シャッターが該移動手段によって移動制御されることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項3記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該スリット開口面に平行に配置される2枚の冶具シャッター、及び該冶具シャッターを移動制御する移動手段を備え、
前記スリットが装着される場合には該スリットの開口形状、装着されない場合には前記スリット開口によって画定される領域をスリット領域とした場合、
該基板のスライド動作に際し、該スリット領域とスライドされる該基板とがオーバーラップしない領域をいずれか一方の該冶具シャッターが遮蔽し、かつ、該スリット領域、スライドされる該基板及び該2枚の冶具シャッターの隙間がオーバーラップするように該冶具シャッターが該移動手段によって移動制御されることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項2記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該可動機構及び該基板方位角可変機構を自動制御する制御装置を設けたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項13記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該制御装置は、該蒸着源、該基板保持機構、該基板スライド機構、該基板入射角可変機構、および該基板方位角可変機構に接続されたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 請求項1乃至14のいずれか一項に記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
インライン式であることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
- 排気手段を有する真空槽内に、蒸着源及び蒸着される基板を保持する基板保持機構を備え、各基板保持機構が、各基板に対して蒸着粒子の入射状態を調整するスリット開口を有する少なくとも1つのスリット機構、及び該スリット開口に対する該基板の相対位置を調整するために該基板保持機構を移動させる可動機構を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において、該基板面に配向膜を作製する方法であって、
各スリット機構について、該スリット機構を該スリット開口に関して回転させて該スリット開口面と該蒸着源とのなす角を制御し、
前記可動機構が、前記基板を搭載したθステージを駆動源によって該基板面に対して水平に回転させて該基板と該スリット開口とのなす角を調整し、該基板を該スリット開口面の上を通過するようにスライド制御することを特徴とする方法。
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