CN105154831B - 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示设备制造领域，公开了一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备，包括蒸镀坩埚和设置于蒸镀坩埚出口处的第一盖板和第二盖板，第一盖板上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔，第二盖板上设置有与第一过孔一一对应的第二过孔；第二盖板可相对第一盖板沿第一盖板延伸方向位置可调地叠置于第一盖板上，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，当第二盖板相对于第一盖板移动时实现对每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积的调节，可以减小蒸发源不同位置处蒸镀速率的差异，提高基板各处蒸镀材料膜厚的均匀性，提升显示屏的整体显示性能。
Description
技术领域
本发明涉及显示设备制造领域，特别涉及一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备。
背景技术
有机致电发光(OLED)显示器件的制备过程中，常采用蒸镀法进行无机层和有机层的制备。蒸镀法是一种属于物理气相沉积的真空镀膜技术，其原理为将蒸镀的材料置于真空蒸发源装置的坩埚内，通过对坩埚加热，使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子，然后凝聚到待镀膜的基板表面形成薄膜。在采用蒸镀法制备较大尺寸的OLED显示面板时，主要采用真空蒸发源装置静止、且玻璃基板在坩埚上方进行水平运动的方式进行蒸镀。坩埚不同位置处的蒸镀速率主要依靠改变蒸发温度来进行调控，此调控方式常会造成坩埚不同位置处的蒸镀速率出现较大差异，导致基板上薄膜厚度的均匀性较差，降低了显示屏内的电学及光学的均匀性，进而降低了显示屏的亮度及颜色均匀性，导致显示屏的显示效果下降。
发明内容
本发明提供了一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备，可以减小蒸发源装置不同位置处的蒸镀速率的差异，提高基板各处蒸镀材料膜厚的均匀性，提高显示屏内电学及光学均匀性，进而提升显示屏的显示性能。
为实现上述目的，本发明提供如下的技术方案：
一种真空蒸发源装置，包括蒸镀坩埚和设置于蒸镀坩埚出口处的第一盖板和第二盖板，第一盖板上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔，第二盖板上设置有与第一过孔一一对应的第二过孔；第二盖板可相对第一盖板沿第一盖板延伸方向位置可调地叠置于第一盖板上，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，当第二盖板相对于第一盖板移动时实现对每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积的调节。
上述真空蒸发源装置在蒸镀过程中，由于第一过孔与第二过孔为均匀分布，且每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，所以蒸发源装置在不同位置处的蒸镀气体在透过第一过孔和第二过孔之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并可通过调节第一盖板和第二盖板的相对位置，改变相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积，从而调整蒸镀坩埚内逸出的蒸镀气体的逸出速度，进而控制真空蒸发源装置的蒸镀速率，与现有技术中通过调整蒸发温度控制蒸镀速率的方法相比，其控制精度更高。因此该真空蒸发源装置可以减小蒸发源不同位置处蒸镀速率的差异，提高基板各处蒸镀材料膜厚的均匀性，从而提高显示屏内电学及光学均匀性，进而提升了显示屏的整体显示性能。
优选地，第一盖板上设置的第一过孔阵列分布，且第二盖板上设置的第二过孔阵列分布。
优选地，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔中，第一过孔和第二过孔的大小相同。
优选地，第一盖板中，每相邻的两个第一过孔之间的间距为10-100mm。
优选地，坩埚为线源坩埚或面源坩埚。
优选地，第一盖板设置的第一过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔，且第二盖板设置的第二过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔。
优选地，第一过孔和第二过孔的形状相同。
优选地，当第一过孔和第二过孔为圆孔时，第一过孔和第二过孔的直径为100μm-5mm。
本发明还提供了一种真空蒸镀设备，包括上述的真空蒸发源装置。
因该真空蒸镀设备中的真空蒸发源装置在蒸镀过程中，由于第一过孔与第二过孔为均匀分布，且每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，所以蒸发源装置在不同位置处的蒸镀气体在透过第一过孔和第二过孔之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并可通过调节第一盖板和第二盖板的相对位置，改变相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积，从而调整蒸镀坩埚内逸出的蒸镀气体的逸出速度，进而控制真空蒸发源装置的蒸镀速率，与现有技术中通过调整蒸发温度控制蒸镀速率的方法相比，其控制精度更高。因此该真空蒸发源装置可以有效减小蒸发源不同位置处蒸镀速率的差异，提高基板各处蒸镀材料膜厚的均匀性，从而提高显示屏内电学及光学均匀性，进而提升了显示屏的整体显示性能。
附图说明
图1为本发明具体实施方式提供的一种真空蒸发源装置的结构示意图；
图2为本发明具体实施方式提供的一种真空蒸发源装置的蒸镀速率调节原理示意图。
附图标记：
10，蒸镀坩埚；20，第一盖板；21，第一过孔；
30，第二盖板；31，第二过孔。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1和图2所示，本发明具体实施方式提供了一种真空蒸发源装置，包括蒸镀坩埚10和设置于蒸镀坩埚10出口处的第一盖板20和第二盖板30，第一盖板20上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔21，第二盖板30上设置有与第一过孔21一一对应的第二过孔31；第二盖板30可相对第一盖板20沿第一盖板20延伸方向位置可调地叠置于第一盖板20上，每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小相同，当第二盖板30相对于第一盖板20移动时实现对每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积的调节。
上述真空蒸发源装置在蒸镀过程中，由于第一过孔21与第二过孔31为均匀分布，且每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积大小相同，所以蒸发源装置在不同位置处的蒸镀气体在透过第一过孔21和第二过孔31之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并可通过调节第一盖板20和第二盖板30的相对位置，改变相互对应的第一过孔21和第二过孔31之间的重合面积，从而调整蒸镀坩埚10内逸出的蒸镀气体的逸出速度，进而控制真空蒸发源装置的蒸镀速率，与现有技术中通过调整蒸发温度控制蒸镀速率的方法相比，本实施例提供的真空蒸发源装置的蒸镀速率控制精度更高。因此该真空蒸发源装置可以减小蒸发源不同位置处蒸镀速率的差异，提高基板各处蒸镀材料膜厚的均匀性，从而提高显示屏内电学及光学均匀性，进而提升了显示屏的整体显示性能。
进一步地，为提高蒸发源装置在不同位置处的蒸镀气体在透过第一过孔21和第二过孔31之间的重合处逸出时的气体分布均匀性，如图1所示的一种优选方式中，第一盖板20上设置的第一过孔21阵列分布，且第二盖板30上设置的第二过孔31阵列分布。
进一步地，为便于调整第一过孔和第二过孔之间的重合面积，如图1所示的一种优选方式中，每一对相互对应的第一过孔21和第二过孔31中，第一过孔21和第二过孔31的大小相同。
进一步地，根据蒸发源装置的大小需求，如图1所示的一种优选方式中，第一盖板中，每相邻的两个第一过孔之间的间距h为10-100mm，具体地，可为10mm、20mm、40mm、60mm、80mm、100mm。
一种优选方式中，为适应制备较大尺寸的显示面板的生产需求，坩埚为线源坩埚或面源坩埚。
在实现上述功能的同时，根据实际生产需求，第一盖板设置的第一过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔，且第二盖板设置的第二过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔。
进一步地，为便于第一盖板和第二盖板的加工，一种优选方式中，第一过孔和第二过孔的形状相同。
进一步地，根据实际生产过程中所需蒸镀速率大小的需求，如图1所示的一种优选方式中，当第一过孔和第二过孔为圆孔时，第一过孔的直径和第二过孔的直径为100μm-5mm，具体地，可为100μm、500μm、1mm、2mm、3mm、4mm、5mm。
此外，本发明具体实施方式还提供了一种真空蒸镀设备，包括上述的真空蒸发源装置。
因该真空蒸镀设备中的真空蒸发源装置在蒸镀过程中，由于第一过孔与第二过孔为均匀分布，且每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，所以蒸发源装置在不同位置处的蒸镀气体在透过第一过孔和第二过孔之间的重合处逸出时的气体分布均匀性较好；并可通过调节第一盖板和第二盖板的相对位置，改变相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积，从而调整蒸镀坩埚内逸出的蒸镀气体的逸出速度，进而控制真空蒸发源装置的蒸镀速率，与现有技术中通过调整蒸发温度控制蒸镀速率的方法相比，其控制精度更高。因此该真空蒸发源装置可以减小蒸发源不同位置处蒸镀速率的差异，提高基板各处蒸镀材料膜厚的均匀性，从而提高显示屏内电学及光学均匀性，提升显示屏的整体显示性能。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (9)
1.一种真空蒸发源装置，其特征在于，包括蒸镀坩埚和设置于所述蒸镀坩埚出口处的第一盖板和第二盖板，所述第一盖板上设置有多个贯穿其厚度方向且均匀分布的第一过孔，所述第二盖板上设置有与所述第一过孔一一对应的第二过孔；所述第二盖板可相对第一盖板沿所述第一盖板延伸方向位置可调地叠置于所述第一盖板上，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小与另一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积大小相同，当所述第二盖板相对于第一盖板移动时实现对每一对相互对应的第一过孔和第二过孔之间的重合面积的调节。
2.根据权利要求1所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板上设置的第一过孔阵列分布，且所述第二盖板上设置的第二过孔阵列分布。
3.根据权利要求2所述的真空蒸发源装置，其特征在于，每一对相互对应的第一过孔和第二过孔中，第一过孔和第二过孔的大小相同。
4.根据权利要求2所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板中，每相邻的两个所述第一过孔之间的间距为10-100mm。
5.根据权利要求1所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述坩埚为线源坩埚或面源坩埚。
6.根据权利要求1-5任一项所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一盖板设置的第一过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔，且所述第二盖板设置的第二过孔为圆孔、椭圆孔或者多边形孔。
7.根据权利要求6所述的真空蒸发源装置，其特征在于，所述第一过孔和所述第二过孔的形状相同。
8.根据权利要求7所述的真空蒸发源装置，其特征在于，当所述第一过孔和所述第二过孔为圆孔时，所述第一过孔和第二过孔的直径为100μm-5mm。
9.一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的真空蒸发源装置。
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