JPH0570931A - 真空蒸着装置および防着板 - Google Patents
真空蒸着装置および防着板Info
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- JPH0570931A JPH0570931A JP23191091A JP23191091A JPH0570931A JP H0570931 A JPH0570931 A JP H0570931A JP 23191091 A JP23191091 A JP 23191091A JP 23191091 A JP23191091 A JP 23191091A JP H0570931 A JPH0570931 A JP H0570931A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】比較的低温で真空蒸着を行なう場合に、真空容
器内に吸着されたガスの再放出による成膜される薄膜の
品質低下を防ぎ、真空容器内の汚れを防ぎ、被着基板上
へのゴミの付着を防ぐことができるようにする。 【構成】蒸発源３の上方に近接して、開口部５を有する
取外し可能な防着板４を設ける。この防着板４は、蒸発
源３を含む側と被着基板８を保持するドーム状の保持具
２を含む側とに真空容器１内を分割する。開口部５の形
状は、蒸発源３から保持具２を見通したときに保持具２
と重畳するようなものとし、蒸発源３からの蒸発粒子の
うちこの開口部５を通過したものは必ず保持具２もしく
は被着基板８に到達するようにする。
器内に吸着されたガスの再放出による成膜される薄膜の
品質低下を防ぎ、真空容器内の汚れを防ぎ、被着基板上
へのゴミの付着を防ぐことができるようにする。 【構成】蒸発源３の上方に近接して、開口部５を有する
取外し可能な防着板４を設ける。この防着板４は、蒸発
源３を含む側と被着基板８を保持するドーム状の保持具
２を含む側とに真空容器１内を分割する。開口部５の形
状は、蒸発源３から保持具２を見通したときに保持具２
と重畳するようなものとし、蒸発源３からの蒸発粒子の
うちこの開口部５を通過したものは必ず保持具２もしく
は被着基板８に到達するようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、比較的低い温度で真空
蒸着を行なう真空蒸着装置と、この真空蒸着装置で用い
られる防着板に関する。
蒸着を行なう真空蒸着装置と、この真空蒸着装置で用い
られる防着板に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズなどの被着基板の表面に薄膜を形
成するための真空蒸着装置は、一般に、真空容器と真空
容器内に設けられた蒸発源とを有している。そして被着
基板は、真空容器内において蒸発源の上方に取外し可能
に設けられたドーム状の保持具に保持されて、真空蒸着
されるようになっている。蒸発源からの蒸発粒子（蒸発
原子や蒸発分子など）のうちの被着基板や保持具に到達
しなかったものが真空容器の内壁などに直接付着するの
を防ぐため、従来は、これら蒸発粒子を捕捉するための
防着板が真空容器の内壁に沿って設けられるようになっ
ている。
成するための真空蒸着装置は、一般に、真空容器と真空
容器内に設けられた蒸発源とを有している。そして被着
基板は、真空容器内において蒸発源の上方に取外し可能
に設けられたドーム状の保持具に保持されて、真空蒸着
されるようになっている。蒸発源からの蒸発粒子（蒸発
原子や蒸発分子など）のうちの被着基板や保持具に到達
しなかったものが真空容器の内壁などに直接付着するの
を防ぐため、従来は、これら蒸発粒子を捕捉するための
防着板が真空容器の内壁に沿って設けられるようになっ
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし上述した従来の
真空蒸着装置では、被着基板やドーム状の保持具に到達
しなかった蒸発粒子は、結果として真空容器の内壁に沿
った広い範囲に膜として付着することになり、真空容器
内に空気をリークしたときにこの膜にガス（主としてＨ
2Ｏ）が吸着されてしまう。この膜に吸着されたガス
は、次の成膜時に蒸発源からの輻射熱などによって真空
容器中に放出され、真空容器内の真空度が安定しなかっ
たり、真空容器内の残留気体の組成が変動してしまい、
成膜される薄膜の特性が変化してしまうという問題点が
ある。このような吸着ガスの問題は、プラスチックレン
ズなどの表面に薄膜を形成するために蒸発源を無加熱あ
るいは低温にして真空蒸着を行なう場合に顕著である。
成膜、リークを何度も繰り返すにつれ、真空容器の内壁
に沿って堆積する膜も厚くなり、吸着ガスの量も増加し
ていくため、真空容器のホーニング直後と何度も成膜を
行なった後とでは、被着基板に成膜される薄膜の屈折率
が変化し、成膜のバッチ間にばらつきが生じ、品質が一
定しなくなるという問題点がある。さらに、真空容器の
内壁に沿って付着・堆積した膜が剥離してゴミとなり、
真空容器内に飛散して被着基板表面に付着し、不良発生
の原因となるという問題点もあった。
真空蒸着装置では、被着基板やドーム状の保持具に到達
しなかった蒸発粒子は、結果として真空容器の内壁に沿
った広い範囲に膜として付着することになり、真空容器
内に空気をリークしたときにこの膜にガス（主としてＨ
2Ｏ）が吸着されてしまう。この膜に吸着されたガス
は、次の成膜時に蒸発源からの輻射熱などによって真空
容器中に放出され、真空容器内の真空度が安定しなかっ
たり、真空容器内の残留気体の組成が変動してしまい、
成膜される薄膜の特性が変化してしまうという問題点が
ある。このような吸着ガスの問題は、プラスチックレン
ズなどの表面に薄膜を形成するために蒸発源を無加熱あ
るいは低温にして真空蒸着を行なう場合に顕著である。
成膜、リークを何度も繰り返すにつれ、真空容器の内壁
に沿って堆積する膜も厚くなり、吸着ガスの量も増加し
ていくため、真空容器のホーニング直後と何度も成膜を
行なった後とでは、被着基板に成膜される薄膜の屈折率
が変化し、成膜のバッチ間にばらつきが生じ、品質が一
定しなくなるという問題点がある。さらに、真空容器の
内壁に沿って付着・堆積した膜が剥離してゴミとなり、
真空容器内に飛散して被着基板表面に付着し、不良発生
の原因となるという問題点もあった。
【０００４】このような問題点を解決するためには、真
空容器のホーニングの間隔を短くし、また真空容器の内
壁部をベーキングするなどの方法があるが、このような
方法を実施するためには成膜を中断してかなりの時間を
割かざるを得ず、結果として生産性が低下してしまうと
いう問題点がある。
空容器のホーニングの間隔を短くし、また真空容器の内
壁部をベーキングするなどの方法があるが、このような
方法を実施するためには成膜を中断してかなりの時間を
割かざるを得ず、結果として生産性が低下してしまうと
いう問題点がある。
【０００５】本発明の目的は、真空容器内に吸着された
ガスの再放出による成膜される薄膜の品質低下を防ぎ、
真空容器内の汚れを防ぎ、被着基板上へのゴミの付着に
よる不良発生を防ぐことのできる真空蒸着装置と、この
真空蒸着装置で使用される防着板とを提供することにあ
る。
ガスの再放出による成膜される薄膜の品質低下を防ぎ、
真空容器内の汚れを防ぎ、被着基板上へのゴミの付着に
よる不良発生を防ぐことのできる真空蒸着装置と、この
真空蒸着装置で使用される防着板とを提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の真空蒸着装置
は、真空容器と、前記真空容器内に設けられた蒸発源
と、前記真空容器内において前記蒸発源の上方に設けら
れ被着基板を保持するドーム状の保持具とを有する真空
蒸着装置において、前記蒸発源を含む側と前記保持具を
含む側とに前記真空容器内を分割し、前記蒸発源の上方
にあたる位置に開口部を有し、前記開口部は前記蒸発源
から前記保持具を見通したときに前記保持具と重畳する
形状である、取外し可能な防着板が設けられ、前記蒸発
源からの蒸発粒子のうち前記開口部を通過したものが前
記保持具および前記被着基板に到達するようにしたこと
を特徴とする。
は、真空容器と、前記真空容器内に設けられた蒸発源
と、前記真空容器内において前記蒸発源の上方に設けら
れ被着基板を保持するドーム状の保持具とを有する真空
蒸着装置において、前記蒸発源を含む側と前記保持具を
含む側とに前記真空容器内を分割し、前記蒸発源の上方
にあたる位置に開口部を有し、前記開口部は前記蒸発源
から前記保持具を見通したときに前記保持具と重畳する
形状である、取外し可能な防着板が設けられ、前記蒸発
源からの蒸発粒子のうち前記開口部を通過したものが前
記保持具および前記被着基板に到達するようにしたこと
を特徴とする。
【０００７】本発明の防着板は、真空容器と、前記真空
容器内に設けられた蒸発源と、前記真空容器内において
前記蒸発源の上方に設けられ被着基板を保持するドーム
状の保持具とを有する真空蒸着装置に取外し可能に取り
付けられる防着板でにおいて、前記真空蒸着装置に取り
付けた状態において、前記真空容器内を前記蒸発源を含
む側と前記保持具を含む側とに分割し、前記蒸発源の上
方に位置する開口部を有し、前記開口部の形状は前記蒸
発源から前記保持具を見通したときに前記保持具と重畳
するものであり、前記蒸発源からの蒸発粒子のうち前記
開口部を通過したものが前記保持具および前記被着基板
に到達するようにしたことを特徴とする。
容器内に設けられた蒸発源と、前記真空容器内において
前記蒸発源の上方に設けられ被着基板を保持するドーム
状の保持具とを有する真空蒸着装置に取外し可能に取り
付けられる防着板でにおいて、前記真空蒸着装置に取り
付けた状態において、前記真空容器内を前記蒸発源を含
む側と前記保持具を含む側とに分割し、前記蒸発源の上
方に位置する開口部を有し、前記開口部の形状は前記蒸
発源から前記保持具を見通したときに前記保持具と重畳
するものであり、前記蒸発源からの蒸発粒子のうち前記
開口部を通過したものが前記保持具および前記被着基板
に到達するようにしたことを特徴とする。
【０００８】
【作用】蒸発源を含む側と保持具を含む側とに真空容器
内を分割し、蒸発源の上方にあたる位置に開口部を有
し、この開口部は蒸発源から保持具を見通したときに保
持具と重畳する形状である、取外し可能な防着板が設け
られているので、蒸発源からの蒸発分子のうち防着板の
開口部を通過したものは必ず保持具あるいは被着基板上
に到達する。一方、この防着板に遮られた蒸発粒子は、
防着板がなかったとすれば保持具や被着基板以外の部分
すなわち真空容器内壁に付着したはずのものであって、
このため防着板を設けたことにより、少なくとも防着板
より上側の真空容器の内壁への膜の堆積が防がれ、低温
で真空蒸着を行なう場合であっても真空容器の内壁部か
らの吸着ガスの放出が抑えられ、安定した真空度、ガス
組成の下で真空蒸着を行なえるようになる。また、真空
容器の内壁部に付着する膜が減少してほとんどなくなる
ので、この内壁部からの膜の剥離・飛散が防がれ、剥離
した膜の被着基板への付着が防止される。
内を分割し、蒸発源の上方にあたる位置に開口部を有
し、この開口部は蒸発源から保持具を見通したときに保
持具と重畳する形状である、取外し可能な防着板が設け
られているので、蒸発源からの蒸発分子のうち防着板の
開口部を通過したものは必ず保持具あるいは被着基板上
に到達する。一方、この防着板に遮られた蒸発粒子は、
防着板がなかったとすれば保持具や被着基板以外の部分
すなわち真空容器内壁に付着したはずのものであって、
このため防着板を設けたことにより、少なくとも防着板
より上側の真空容器の内壁への膜の堆積が防がれ、低温
で真空蒸着を行なう場合であっても真空容器の内壁部か
らの吸着ガスの放出が抑えられ、安定した真空度、ガス
組成の下で真空蒸着を行なえるようになる。また、真空
容器の内壁部に付着する膜が減少してほとんどなくなる
ので、この内壁部からの膜の剥離・飛散が防がれ、剥離
した膜の被着基板への付着が防止される。
【０００９】一般に蒸発源からの蒸発粒子は、上方を向
いたある一定の立体角内に放出され側方および下方には
ほとんど放出されないから、蒸発源に近接して防着板を
設ければ、保持具および被着基板に到達しない蒸発粒子
のほとんどがこの防着板に付着することになる。したが
って、真空蒸着の１回のバッチごとに防着板を交換し、
防着板を常に清浄な状態としておくことにより、バッチ
間のばらつきのない安定した品質の薄膜の成膜ができる
ようになる。なお、プラスチックレンズへの被膜形成な
ど比較的低い温度で蒸着を行なう場合には、このように
蒸発源に近接させて防着板を設けたとしても、防着板の
温度上昇はほとんど問題とはならない。防着板の形状
は、防着板の開口部以外を通過して蒸発粒子が真空容器
内の保持具を含む側に到達し得ない形状であればどのよ
うなものでもよいが、蒸発源の側方にも延びて設けら
れ、この側方の位置において防着板は蒸発源からの蒸発
粒子の流れの方向に対して概ね平行になっているように
してもよい。このように蒸発源の側方にも防着板が延び
ている場合には、保持具および被着基板に到達しなかっ
た蒸発粒子のほぼ全部を防着板に付着させることがで
き、バッチごとに防着板を交換することによって、真空
容器内の清浄な環境をより一層達成することができる。
いたある一定の立体角内に放出され側方および下方には
ほとんど放出されないから、蒸発源に近接して防着板を
設ければ、保持具および被着基板に到達しない蒸発粒子
のほとんどがこの防着板に付着することになる。したが
って、真空蒸着の１回のバッチごとに防着板を交換し、
防着板を常に清浄な状態としておくことにより、バッチ
間のばらつきのない安定した品質の薄膜の成膜ができる
ようになる。なお、プラスチックレンズへの被膜形成な
ど比較的低い温度で蒸着を行なう場合には、このように
蒸発源に近接させて防着板を設けたとしても、防着板の
温度上昇はほとんど問題とはならない。防着板の形状
は、防着板の開口部以外を通過して蒸発粒子が真空容器
内の保持具を含む側に到達し得ない形状であればどのよ
うなものでもよいが、蒸発源の側方にも延びて設けら
れ、この側方の位置において防着板は蒸発源からの蒸発
粒子の流れの方向に対して概ね平行になっているように
してもよい。このように蒸発源の側方にも防着板が延び
ている場合には、保持具および被着基板に到達しなかっ
た蒸発粒子のほぼ全部を防着板に付着させることがで
き、バッチごとに防着板を交換することによって、真空
容器内の清浄な環境をより一層達成することができる。
【００１０】また、真空容器内に複数の蒸発源を設ける
場合には、各蒸発源ごとに上述の側壁を有する防着板を
設けるようにするとよい。このように蒸発源ごとに防着
板を設けることによって、各蒸発源の加熱方法、蒸発材
料あるいは形状などによって蒸発分布が異なる場合に、
蒸発源と防着板との間隔をそれぞれの蒸発源について最
適な値とすることができる。また、複数の蒸発源に共通
に防着板を設ける場合に比べ、ある蒸発源からの蒸発粒
子が対応しない開口部からもれ出して真空容器の内壁部
に付着するということを防ぐことができる。
場合には、各蒸発源ごとに上述の側壁を有する防着板を
設けるようにするとよい。このように蒸発源ごとに防着
板を設けることによって、各蒸発源の加熱方法、蒸発材
料あるいは形状などによって蒸発分布が異なる場合に、
蒸発源と防着板との間隔をそれぞれの蒸発源について最
適な値とすることができる。また、複数の蒸発源に共通
に防着板を設ける場合に比べ、ある蒸発源からの蒸発粒
子が対応しない開口部からもれ出して真空容器の内壁部
に付着するということを防ぐことができる。
【００１１】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。 ［実施例１］図１は、本発明の第１の実施例の真空蒸着
装置の構成を示す模式縦断面図、図２は防着板および蒸
発源の間隔と開口部の直径との関係を説明する模式縦断
面図、図３はこの真空蒸着装置の構成を示す模式横断面
図である。
説明する。 ［実施例１］図１は、本発明の第１の実施例の真空蒸着
装置の構成を示す模式縦断面図、図２は防着板および蒸
発源の間隔と開口部の直径との関係を説明する模式縦断
面図、図３はこの真空蒸着装置の構成を示す模式横断面
図である。
【００１２】この真空蒸着装置は、図示しない排気手段
が接続された概四角形の筒状の真空容器１、この真空容
器１の底部中央に設けられた蒸発源３、蒸発源３に対向
するように真空容器１内の中央より上方に取外し可能に
設けられたドーム状の保持具２とからなっている。保持
具２は、例えばプラスチックレンズなどの被着基板８を
蒸発源３に対向するように保持させるためのものであ
り、ドーム状となっているのは、蒸発粒子が保持具２を
通過して真空容器１の天井部に付着するのを防ぎ、また
蒸発源３からの距離が保持具２上の位置によらずほぼ一
定となるようにするためである。被着基板８は、保持具
２の内面に保持され、蒸発源３から見通したとき、保持
具２の形成する円の内側にあるようになっている。一
方、蒸発源３はその上面が蒸発物質９を保持するるつぼ
部となっており、電子ビームあるいは抵抗加熱などの公
知の方法によって、図において矢印で示すように、蒸発
物質９の蒸発粒子流を一定の立体角内に発生させるもの
である。
が接続された概四角形の筒状の真空容器１、この真空容
器１の底部中央に設けられた蒸発源３、蒸発源３に対向
するように真空容器１内の中央より上方に取外し可能に
設けられたドーム状の保持具２とからなっている。保持
具２は、例えばプラスチックレンズなどの被着基板８を
蒸発源３に対向するように保持させるためのものであ
り、ドーム状となっているのは、蒸発粒子が保持具２を
通過して真空容器１の天井部に付着するのを防ぎ、また
蒸発源３からの距離が保持具２上の位置によらずほぼ一
定となるようにするためである。被着基板８は、保持具
２の内面に保持され、蒸発源３から見通したとき、保持
具２の形成する円の内側にあるようになっている。一
方、蒸発源３はその上面が蒸発物質９を保持するるつぼ
部となっており、電子ビームあるいは抵抗加熱などの公
知の方法によって、図において矢印で示すように、蒸発
物質９の蒸発粒子流を一定の立体角内に発生させるもの
である。
【００１３】また、蒸発源３からの蒸発粒子流を制御す
るためのシヤッター板６が、真空容器１の底面を回転可
能かつ気密を保持して貫通するシヤッター軸１０の先端
に取り付けられている。このシヤッター板６は、シヤッ
ター軸１０を回転させることにより、蒸発源１に近接し
てその直上にあたる位置と、蒸発源１の直上から外れた
位置との間を交互に移動できるようになっている。
るためのシヤッター板６が、真空容器１の底面を回転可
能かつ気密を保持して貫通するシヤッター軸１０の先端
に取り付けられている。このシヤッター板６は、シヤッ
ター軸１０を回転させることにより、蒸発源１に近接し
てその直上にあたる位置と、蒸発源１の直上から外れた
位置との間を交互に移動できるようになっている。
【００１４】さらに、シヤッター板６の上方には、真空
容器１内を蒸発源３を含む側と保持具２を含む側とに分
割する防着板４が、保持つめ７によって真空容器１に対
して取外し可能に設けられている。この防着板４は平板
状の部材であって中央部に円形の開口部５が設けられ、
防着板４の周縁部は真空容器１の内壁とほぼぴったりと
接するようになっている。開口部５の形状は、蒸発源３
から保持具２を見通したときに保持具２と重畳するもの
であり、蒸発源３からみた開口部５の立体角が、蒸発源
３からみた保持具２の立体角と等しくなるようになって
いる。防着板４は、蒸発源３からの蒸発粒子が、シヤッ
ター板６やシヤッター軸１０に付着するものを除いて防
着板４に付着するか開口部５を通過するかのいずれかと
なるように、蒸発源３に近接して設けられている。
容器１内を蒸発源３を含む側と保持具２を含む側とに分
割する防着板４が、保持つめ７によって真空容器１に対
して取外し可能に設けられている。この防着板４は平板
状の部材であって中央部に円形の開口部５が設けられ、
防着板４の周縁部は真空容器１の内壁とほぼぴったりと
接するようになっている。開口部５の形状は、蒸発源３
から保持具２を見通したときに保持具２と重畳するもの
であり、蒸発源３からみた開口部５の立体角が、蒸発源
３からみた保持具２の立体角と等しくなるようになって
いる。防着板４は、蒸発源３からの蒸発粒子が、シヤッ
ター板６やシヤッター軸１０に付着するものを除いて防
着板４に付着するか開口部５を通過するかのいずれかと
なるように、蒸発源３に近接して設けられている。
【００１５】ここで、防着板４と蒸発源３との間隔と、
開口部５の直径との関係について、図２により説明す
る。
開口部５の直径との関係について、図２により説明す
る。
【００１６】蒸発源３での蒸発部分（加熱されている蒸
発物質９の蒸発表面）が実質的に点とみなせる場合、蒸
発源３からみた開口部５の立体角が蒸発源３からみた保
持具２の立体角と等しくなっているから、蒸発源３の前
記蒸発部分と防着板４との間隔をｈ、開口部５の直径を
φ、保持具２の直径をＲ、保持具２の下端部の形成する
面と蒸発部分との距離をＬとすると、 Ｌ／Ｒ ＝ ｈ／φ の関係が成立する。さらに、防着板４によって真空容器
１の内壁部への膜の堆積を防ぐためには、防着板４と蒸
発源３との間隔ｈはできるだけ小さい方がよく、シヤッ
ター板６の動きを妨げない範囲でなるべく小さくする。
例えば防着板４はシヤッター板の直上１０〜５０ｍｍ程
度の範囲のところに位置するようにする。一般に蒸発源
３からの蒸発粒子流は、蒸発源３の直上の方向におい
て、均一かつ強度が大きいから、蒸発源３の真上に保持
具２が位置し、蒸発源３と保持具２のそれぞれ中心を結
ぶ直線上に開口部５の中心が位置するようにするとよ
い。例えば、Ｌ＝６００ｍｍ、Ｒ＝５００ｍｍとし、シ
ヤッター板６が蒸発源の上方８０ｍｍのところに設けら
れているとすれば、ｈ＝１００ｍｍとすると、上式よ
り、開口部５の直径φを約８３.３ｍｍとすればよいこ
とがわかる。
発物質９の蒸発表面）が実質的に点とみなせる場合、蒸
発源３からみた開口部５の立体角が蒸発源３からみた保
持具２の立体角と等しくなっているから、蒸発源３の前
記蒸発部分と防着板４との間隔をｈ、開口部５の直径を
φ、保持具２の直径をＲ、保持具２の下端部の形成する
面と蒸発部分との距離をＬとすると、 Ｌ／Ｒ ＝ ｈ／φ の関係が成立する。さらに、防着板４によって真空容器
１の内壁部への膜の堆積を防ぐためには、防着板４と蒸
発源３との間隔ｈはできるだけ小さい方がよく、シヤッ
ター板６の動きを妨げない範囲でなるべく小さくする。
例えば防着板４はシヤッター板の直上１０〜５０ｍｍ程
度の範囲のところに位置するようにする。一般に蒸発源
３からの蒸発粒子流は、蒸発源３の直上の方向におい
て、均一かつ強度が大きいから、蒸発源３の真上に保持
具２が位置し、蒸発源３と保持具２のそれぞれ中心を結
ぶ直線上に開口部５の中心が位置するようにするとよ
い。例えば、Ｌ＝６００ｍｍ、Ｒ＝５００ｍｍとし、シ
ヤッター板６が蒸発源の上方８０ｍｍのところに設けら
れているとすれば、ｈ＝１００ｍｍとすると、上式よ
り、開口部５の直径φを約８３.３ｍｍとすればよいこ
とがわかる。
【００１７】次に、この真空蒸着装置の動作について説
明する。
明する。
【００１８】被着基板８を保持具２に装着し、保持具２
ごと真空容器１内に取り付ける。一方、蒸発源３には蒸
発物質９を装填する。シヤッター軸１０を操作してシヤ
ッター板６が蒸発源３の直上にある状態（閉じた状態）
にし、この真空容器１内を排気する。続いて蒸発源３を
加熱して蒸発物質９からの蒸発粒子流を発生させる。蒸
発粒子流の発生が安定したら、シヤッター軸１０を操作
して、シヤッター板６を蒸発源３の直上からそれた位置
（開いた状態）にし、被着基板８への成膜を開始する。
この状態でのこの真空蒸着装置の模式横断面図が図３に
示されている。図に示すように、開口部５の中央に、蒸
発源３に装填された蒸発物質９が見えている。
ごと真空容器１内に取り付ける。一方、蒸発源３には蒸
発物質９を装填する。シヤッター軸１０を操作してシヤ
ッター板６が蒸発源３の直上にある状態（閉じた状態）
にし、この真空容器１内を排気する。続いて蒸発源３を
加熱して蒸発物質９からの蒸発粒子流を発生させる。蒸
発粒子流の発生が安定したら、シヤッター軸１０を操作
して、シヤッター板６を蒸発源３の直上からそれた位置
（開いた状態）にし、被着基板８への成膜を開始する。
この状態でのこの真空蒸着装置の模式横断面図が図３に
示されている。図に示すように、開口部５の中央に、蒸
発源３に装填された蒸発物質９が見えている。
【００１９】開口部５を有する防着板４が蒸発源３の上
方に設けられているから、蒸発源３からの蒸発粒子は、
防着板４に付着するか、開口部５を通過するかのいずれ
である。前述のように、開口部５の形状は、蒸発源３か
ら保持具２を見通したときに保持具２と重畳するもので
あり、蒸発源３からみた開口部５の立体角が、蒸発源３
からみた保持具２の立体角と等しくなるようになってか
ら、開口部５を通過した蒸発粒子は、保持具２か保持具
２に装着された被着基板８のいずれかに必ず到達し、被
着基板８の表面に薄膜が形成される。そして、防着板５
より上方の真空容器１の内壁に蒸発粒子が到達すること
はない。
方に設けられているから、蒸発源３からの蒸発粒子は、
防着板４に付着するか、開口部５を通過するかのいずれ
である。前述のように、開口部５の形状は、蒸発源３か
ら保持具２を見通したときに保持具２と重畳するもので
あり、蒸発源３からみた開口部５の立体角が、蒸発源３
からみた保持具２の立体角と等しくなるようになってか
ら、開口部５を通過した蒸発粒子は、保持具２か保持具
２に装着された被着基板８のいずれかに必ず到達し、被
着基板８の表面に薄膜が形成される。そして、防着板５
より上方の真空容器１の内壁に蒸発粒子が到達すること
はない。
【００２０】所定の厚さの薄膜が被着基板８上に形成さ
れたら、シヤッター板６を閉じた状態とし、蒸発源３の
加熱を停止し、真空容器１内に大気をリークし、被着基
板８を保持具２ごと真空容器１から取り出す。また防着
板４も清浄なものと交換する。続けて次のバッチの成膜
を行なうときは、以上の動作を繰り返せばよい。
れたら、シヤッター板６を閉じた状態とし、蒸発源３の
加熱を停止し、真空容器１内に大気をリークし、被着基
板８を保持具２ごと真空容器１から取り出す。また防着
板４も清浄なものと交換する。続けて次のバッチの成膜
を行なうときは、以上の動作を繰り返せばよい。
【００２１】以上の真空蒸着において、防着板４が設け
られたことにより、少なくとも防着板４より上側の真空
容器１の内壁への膜の堆積が防がれ、低温で真空蒸着を
行なう場合であっても真空容器１の内壁部からの吸着ガ
スの放出が抑えられ、安定した真空度、ガス組成の下で
真空蒸着を行なえるようになる。したがって、バッチ間
での成膜された薄膜の特性のばらつきも抑えられる。ま
た、真空容器１の内壁部に付着する膜が減少してほとん
どなくなるので、この内壁部からの膜の剥離・飛散が防
がれ、剥離した膜の被着基板８への付着が防止される。
なお、防着板４より下側の真空容器１の内壁へは、蒸発
源３からの蒸発粒子流が上向きであることによりほとん
ど膜の堆積はなく、また膜の堆積があったとしても防着
板４が存在することにより、剥離した膜が被着基板８に
達することはほとんどない。 ［実施例２］次に、本発明の第２の実施例について説明
する。図４は本実施例の真空蒸着装置の構成を示す模式
縦断面図である。
られたことにより、少なくとも防着板４より上側の真空
容器１の内壁への膜の堆積が防がれ、低温で真空蒸着を
行なう場合であっても真空容器１の内壁部からの吸着ガ
スの放出が抑えられ、安定した真空度、ガス組成の下で
真空蒸着を行なえるようになる。したがって、バッチ間
での成膜された薄膜の特性のばらつきも抑えられる。ま
た、真空容器１の内壁部に付着する膜が減少してほとん
どなくなるので、この内壁部からの膜の剥離・飛散が防
がれ、剥離した膜の被着基板８への付着が防止される。
なお、防着板４より下側の真空容器１の内壁へは、蒸発
源３からの蒸発粒子流が上向きであることによりほとん
ど膜の堆積はなく、また膜の堆積があったとしても防着
板４が存在することにより、剥離した膜が被着基板８に
達することはほとんどない。 ［実施例２］次に、本発明の第２の実施例について説明
する。図４は本実施例の真空蒸着装置の構成を示す模式
縦断面図である。
【００２２】この実施例では、真空容器１１の底部に複
数の蒸発源１３が設けられ、これら蒸発源１３に共通の
防着板１４が設けられ、さらにこの防着板１４には下方
に延びた側壁部１４ａが設けられており、これら以外の
ことは上述の実施例１と同様である。なお、蒸発源１３
は、図示するように、それぞれ異なる形式のものであっ
てもよい。この場合、防着板１４には複数の蒸発源１３
に対応して複数の開口部１５が設けられている。この開
口部１５の形状は対応する蒸発源１３から保持具２を見
通したときにこの保持具２と重畳するものであり、当該
蒸発源１３からみた開口部１５の立体角が、当該蒸発源
１３からみた保持具２の立体角と等しくなるようになっ
ている。また防着板１４の側壁部１４ａは、この防着板
１４の水平部分より下側の真空容器１１の側面内壁の全
周に沿うようにして真空容器１１の底壁にまで達してい
る。このため防着板１４は側壁部１４ａによって自立
し、上述の実施例１における保持つめ７のような機構は
必要としない。
数の蒸発源１３が設けられ、これら蒸発源１３に共通の
防着板１４が設けられ、さらにこの防着板１４には下方
に延びた側壁部１４ａが設けられており、これら以外の
ことは上述の実施例１と同様である。なお、蒸発源１３
は、図示するように、それぞれ異なる形式のものであっ
てもよい。この場合、防着板１４には複数の蒸発源１３
に対応して複数の開口部１５が設けられている。この開
口部１５の形状は対応する蒸発源１３から保持具２を見
通したときにこの保持具２と重畳するものであり、当該
蒸発源１３からみた開口部１５の立体角が、当該蒸発源
１３からみた保持具２の立体角と等しくなるようになっ
ている。また防着板１４の側壁部１４ａは、この防着板
１４の水平部分より下側の真空容器１１の側面内壁の全
周に沿うようにして真空容器１１の底壁にまで達してい
る。このため防着板１４は側壁部１４ａによって自立
し、上述の実施例１における保持つめ７のような機構は
必要としない。
【００２３】この真空蒸着装置では、側壁部１４ａが設
けられていることにより、蒸発源１３から側方に向かっ
た蒸発粒子はこの側壁部１４ａに付着するので、防着板
１４の水平部分よりも下側の真空容器１１の内壁にも膜
が付着することが完全に抑止され、吸着ガスの減少にさ
らに効果がある。 ［実施例３］次に、本発明の第３の実施例について説明
する。図５は本実施例の真空蒸着装置の構成を示す模式
横断面図である。この実施例は、上述の実施例２が複数
の蒸発源に対し共通の防着板を用いていたのに対し、蒸
発源ごとに防着板を設けた例である。
けられていることにより、蒸発源１３から側方に向かっ
た蒸発粒子はこの側壁部１４ａに付着するので、防着板
１４の水平部分よりも下側の真空容器１１の内壁にも膜
が付着することが完全に抑止され、吸着ガスの減少にさ
らに効果がある。 ［実施例３］次に、本発明の第３の実施例について説明
する。図５は本実施例の真空蒸着装置の構成を示す模式
横断面図である。この実施例は、上述の実施例２が複数
の蒸発源に対し共通の防着板を用いていたのに対し、蒸
発源ごとに防着板を設けた例である。
【００２４】真空容器２１の底部には、４個の蒸発源２
３1〜２３4が設けられている。各蒸発源２３1〜２３4の
加熱方法（電子ビーム加熱なのか抵抗加熱なのかな
ど）、装填される蒸発材料９あるいは形状などはそれぞ
れ異なっている。各蒸発源２３1〜２３4ごとにそれぞれ
防着板２４1〜２４2が設けられている。これら防着板２
４1〜２４4は、それぞれ真空容器２１の底壁にまで至る
側壁部を有する、底面のみを欠く箱型のものであり、上
面にはそれぞれ開口部２５1〜２５4が設けられている。
各開口部２５1〜２５4の形状は、上述の各実施例と同様
に、対応する蒸発源２３1〜２３4から保持具（図５には
不図示）を見通したときに保持具と重畳するものであ
り、それぞれの蒸発源２３1〜２３4からみた開口部２５
1〜２５4の立体角が当該蒸発源２３1〜２３4からみた保
持具の立体角と等しくなるようになっている。さらに、
各蒸発源２３1〜２３4と対応する防着板２４1〜２４4の
水平部分（すなわち上面）との間隔は、その蒸発源２３
1〜２３4の加熱方法、蒸発物質９あるいは形状によって
それぞれ最適なものとされている。
３1〜２３4が設けられている。各蒸発源２３1〜２３4の
加熱方法（電子ビーム加熱なのか抵抗加熱なのかな
ど）、装填される蒸発材料９あるいは形状などはそれぞ
れ異なっている。各蒸発源２３1〜２３4ごとにそれぞれ
防着板２４1〜２４2が設けられている。これら防着板２
４1〜２４4は、それぞれ真空容器２１の底壁にまで至る
側壁部を有する、底面のみを欠く箱型のものであり、上
面にはそれぞれ開口部２５1〜２５4が設けられている。
各開口部２５1〜２５4の形状は、上述の各実施例と同様
に、対応する蒸発源２３1〜２３4から保持具（図５には
不図示）を見通したときに保持具と重畳するものであ
り、それぞれの蒸発源２３1〜２３4からみた開口部２５
1〜２５4の立体角が当該蒸発源２３1〜２３4からみた保
持具の立体角と等しくなるようになっている。さらに、
各蒸発源２３1〜２３4と対応する防着板２４1〜２４4の
水平部分（すなわち上面）との間隔は、その蒸発源２３
1〜２３4の加熱方法、蒸発物質９あるいは形状によって
それぞれ最適なものとされている。
【００２５】このようにこの真空蒸着装置では、蒸発源
２３1〜２３4ごとに側壁部を有する防着板２４1〜２４4
を設けているので、ある蒸発源からの蒸発粒子が対応し
ない開口部からもれ出して真空容器の内壁に付着するこ
とを防ぐことができ、さらに各蒸発源２３1〜２３4と対
応する防着板２４1〜２４4との間隔をそれぞれ最適のも
のとしているので、被着基板に成膜される薄膜の厚さや
特性を均一なものとすることができる。
２３1〜２３4ごとに側壁部を有する防着板２４1〜２４4
を設けているので、ある蒸発源からの蒸発粒子が対応し
ない開口部からもれ出して真空容器の内壁に付着するこ
とを防ぐことができ、さらに各蒸発源２３1〜２３4と対
応する防着板２４1〜２４4との間隔をそれぞれ最適のも
のとしているので、被着基板に成膜される薄膜の厚さや
特性を均一なものとすることができる。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、蒸発源を
含む側と保持具を含む側とに真空容器を分割し、蒸発源
の上方にあたる位置に開口部を有し、この開口部は蒸発
源から保持具を見通したときに保持具と重畳する形状で
ある、取外し可能な防着板を設けることにより、生産性
を低下させることなく、真空容器の内壁への膜の堆積
が防がれ、低温で真空蒸着を行なう場合であっても真空
容器の内壁部からの吸着ガスの放出が抑えられ、安定し
た真空度、残留気体の組成の下で真空蒸着を行なうこと
ができて成膜される薄膜の特性が安定し、バッチごと
に防着板を交換することで真空容器内の汚れの変化を低
く抑えることができて成膜される薄膜の特性のばらつき
が減少して品質が向上し、真空容器の内壁部から剥離
・飛散がするゴミが減少するのでゴミの付着による不良
品の発生が防がれる、という効果を有する。
含む側と保持具を含む側とに真空容器を分割し、蒸発源
の上方にあたる位置に開口部を有し、この開口部は蒸発
源から保持具を見通したときに保持具と重畳する形状で
ある、取外し可能な防着板を設けることにより、生産性
を低下させることなく、真空容器の内壁への膜の堆積
が防がれ、低温で真空蒸着を行なう場合であっても真空
容器の内壁部からの吸着ガスの放出が抑えられ、安定し
た真空度、残留気体の組成の下で真空蒸着を行なうこと
ができて成膜される薄膜の特性が安定し、バッチごと
に防着板を交換することで真空容器内の汚れの変化を低
く抑えることができて成膜される薄膜の特性のばらつき
が減少して品質が向上し、真空容器の内壁部から剥離
・飛散がするゴミが減少するのでゴミの付着による不良
品の発生が防がれる、という効果を有する。
【図１】本発明の第１の実施例の真空蒸着装置の構成を
示す模式縦断面図である。
示す模式縦断面図である。
【図２】防着板および蒸発源の間隔と開口部の直径との
関係を説明する模式縦断面図である。
関係を説明する模式縦断面図である。
【図３】図３は図１の真空蒸着装置の模式横断面図であ
る。
る。
【図４】本発明の第２の実施例の真空蒸着装置の構成を
示す模式縦断面図である。
示す模式縦断面図である。
【図５】本発明の第３の実施例の真空蒸着装置の構成を
示す模式縦断面図である。
示す模式縦断面図である。
１，１１，２１ 真空容器 ２ 保持具 ３，１３，２３1〜２３4 蒸発源 ４，１４，２４1〜２４4 防着板 ４，１４，２５1〜２５4 開口部 ６ シャッター板 ７ 保持つめ ８ 被着基板 ９ 蒸発物質 １０ シヤッター軸
フロントページの続き (72)発明者 鈴木 博幸 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 真空容器と、前記真空容器内に設けられ
た蒸発源と、前記真空容器内において前記蒸発源の上方
に設けられ被着基板を保持するドーム状の保持具とを有
する真空蒸着装置において、 前記蒸発源を含む側と前記保持具を含む側とに前記真空
容器内を分割し、前記蒸発源の上方にあたる位置に開口
部を有し、前記開口部は前記蒸発源から前記保持具を見
通したときに前記保持具と重畳する形状である、取外し
可能な防着板が設けられ、 前記蒸発源からの蒸発粒子のうち前記開口部を通過した
ものが前記保持具および前記被着基板に到達するように
したことを特徴とする真空蒸着装置。 - 【請求項２】 蒸発源と防着板との間隔は、前記蒸発源
からの蒸発粒子のうち開口部を通過しないものの実質的
に全てが前記防着板に付着するようなものである請求項
１に記載の真空蒸着装置。 - 【請求項３】防着板は蒸発源の側方にも延びて設けら
れ、前記側方の位置において前記防着板は前記蒸発源か
らの蒸発粒子の流れの方向に対して概ね平行になってい
る請求項１または２に記載の真空蒸着装置。 - 【請求項４】複数の蒸発源を有し、防着板は前記各蒸発
源ごとに設けられてそれぞれ当該蒸発源を含む側と保持
具を含む側とに前記真空容器内を分割するものである請
求項３に記載の真空蒸着装置。 - 【請求項５】 真空容器と、前記真空容器内に設けられ
た蒸発源と、前記真空容器内において前記蒸発源の上方
に設けられ被着基板を保持するドーム状の保持具とを有
する真空蒸着装置に取外し可能に取り付けられる防着板
において、 前記真空蒸着装置に取り付けた状態において、前記真空
容器内を前記蒸発源を含む側と前記保持具を含む側とに
分割し、前記蒸発源の上方に位置する開口部を有し、前
記開口部の形状は前記蒸発源から前記保持具を見通した
ときに前記保持具と重畳するものであり、前記蒸発源か
らの蒸発粒子のうち前記開口部を通過したものが前記保
持具および前記被着基板に到達するようにしたことを特
徴とする防着板。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23191091A JPH0570931A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 真空蒸着装置および防着板 |
| CN92110361A CN1064720C (zh) | 1991-09-11 | 1992-09-08 | 真空蒸发设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23191091A JPH0570931A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 真空蒸着装置および防着板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0570931A true JPH0570931A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=16930975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23191091A Pending JPH0570931A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 真空蒸着装置および防着板 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0570931A (ja) |
| CN (1) | CN1064720C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8268079B2 (en) | 2007-03-30 | 2012-09-18 | Fujifilm Corporation | Vacuum film deposition apparatus |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101698931B (zh) * | 2009-11-18 | 2012-11-07 | 九江学院 | 一种制备超晶格热电薄膜材料的双闪蒸法装置 |
| CN103160788B (zh) * | 2011-12-16 | 2017-06-30 | 上海大学 | 真空蒸发系统 |
| CN105154831B (zh) * | 2015-09-07 | 2016-10-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备 |
| CN105349948A (zh) * | 2015-12-04 | 2016-02-24 | 贵州大学 | 一种新型热蒸发镀膜器及其使用方法 |
| KR101901072B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2018-09-20 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 증발원 장치, 성막 장치, 성막 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법 |
| CN108642454B (zh) * | 2018-06-26 | 2020-07-03 | 云谷（固安）科技有限公司 | 一种蒸镀设备 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4395440A (en) * | 1980-10-09 | 1983-07-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of and apparatus for manufacturing ultrafine particle film |
| KR910007382B1 (ko) * | 1987-08-07 | 1991-09-25 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 초전도 재료 및 초전도 박막의 제조방법 |
-
1991
- 1991-09-11 JP JP23191091A patent/JPH0570931A/ja active Pending
-
1992
- 1992-09-08 CN CN92110361A patent/CN1064720C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8268079B2 (en) | 2007-03-30 | 2012-09-18 | Fujifilm Corporation | Vacuum film deposition apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1064720C (zh) | 2001-04-18 |
| CN1070434A (zh) | 1993-03-31 |
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