JP3095740B2 - 有機化合物用蒸発装置 - Google Patents
有機化合物用蒸発装置Info
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- JP3095740B2 JP3095740B2 JP11137917A JP13791799A JP3095740B2 JP 3095740 B2 JP3095740 B2 JP 3095740B2 JP 11137917 A JP11137917 A JP 11137917A JP 13791799 A JP13791799 A JP 13791799A JP 3095740 B2 JP3095740 B2 JP 3095740B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機化合物の薄膜
を形成する際に用いる有機化合物用蒸発装置に関するも
のである。
を形成する際に用いる有機化合物用蒸発装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、有機化合物の薄膜形成用の蒸発装
置としては、ガラスや石英もしくはセラミックスなどで
形成されたるつぼの周囲に、線状または面状のヒーター
を配置し、るつぼを加熱して原料有機物を蒸発させて、
この蒸気を基板の表面に蒸着させて形成する方法が一般
的である。
置としては、ガラスや石英もしくはセラミックスなどで
形成されたるつぼの周囲に、線状または面状のヒーター
を配置し、るつぼを加熱して原料有機物を蒸発させて、
この蒸気を基板の表面に蒸着させて形成する方法が一般
的である。
【０００３】従来の有機化合物用蒸発装置は、るつぼか
ら蒸発した原料有機物の蒸気が基板以外の真空槽の内壁
面にも付着する。この内壁面に付着した原料有機物は、
ヒーターの放出する赤外線等による輻射熱により加熱さ
れて、再度蒸気となって基板に付着するため、原料が異
なる有機物を蒸着させる場合に、基板が汚染されてしま
う問題がある。
ら蒸発した原料有機物の蒸気が基板以外の真空槽の内壁
面にも付着する。この内壁面に付着した原料有機物は、
ヒーターの放出する赤外線等による輻射熱により加熱さ
れて、再度蒸気となって基板に付着するため、原料が異
なる有機物を蒸着させる場合に、基板が汚染されてしま
う問題がある。
【０００４】またヒーターの輻射熱は基板にも直接照射
されて基板の温度を上昇させるため、基板表面に蒸着し
た有機薄膜の変質を引き起こす問題もあった。このよう
なヒーターの輻射熱から基板を保護する方法としては、
基板と蒸発源との間に、スリットの入った熱遮蔽板を配
置する方法が知られている。しかしながら、この方法で
は基板の輻射熱による加熱は防止できるが、真空槽内壁
面への輻射を遮ることができないため、前述のごとく、
内壁面からの原料有機物の再蒸発による汚染の問題は解
決できなかった。
されて基板の温度を上昇させるため、基板表面に蒸着し
た有機薄膜の変質を引き起こす問題もあった。このよう
なヒーターの輻射熱から基板を保護する方法としては、
基板と蒸発源との間に、スリットの入った熱遮蔽板を配
置する方法が知られている。しかしながら、この方法で
は基板の輻射熱による加熱は防止できるが、真空槽内壁
面への輻射を遮ることができないため、前述のごとく、
内壁面からの原料有機物の再蒸発による汚染の問題は解
決できなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる問題点
を解消し、真空槽内壁面からの原料有機物の再蒸発によ
る有機薄膜の汚染を防止すると共に、加熱による有機薄
膜の変質を防止した有機化合物用蒸発装置を提供するも
のである。
を解消し、真空槽内壁面からの原料有機物の再蒸発によ
る有機薄膜の汚染を防止すると共に、加熱による有機薄
膜の変質を防止した有機化合物用蒸発装置を提供するも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
有機化合物用蒸発装置は、真空槽内に、るつぼの周囲に
ヒーターを取付けた蒸発源を設け、ここから原料有機物
を蒸発させて、真空槽内の上部に設けた基板表面に有機
薄膜を形成する有機化合物用蒸発装置において、前記ヒ
ーターを取付けたるつぼを、内面にセラミックをコート
した熱遮蔽箱に収納し、この熱遮蔽箱の上部に取付けた
上蓋部に、孔径がるつぼの内径より小さい蒸気噴出孔を
開孔し、且つこの蒸気噴出孔の孔径が、その底面部から
上面部に向かって順次小さく形成されていることを特徴
とするものである。
有機化合物用蒸発装置は、真空槽内に、るつぼの周囲に
ヒーターを取付けた蒸発源を設け、ここから原料有機物
を蒸発させて、真空槽内の上部に設けた基板表面に有機
薄膜を形成する有機化合物用蒸発装置において、前記ヒ
ーターを取付けたるつぼを、内面にセラミックをコート
した熱遮蔽箱に収納し、この熱遮蔽箱の上部に取付けた
上蓋部に、孔径がるつぼの内径より小さい蒸気噴出孔を
開孔し、且つこの蒸気噴出孔の孔径が、その底面部から
上面部に向かって順次小さく形成されていることを特徴
とするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の一形態を図１
ないし図３を参照して説明する。図１において１は真空
槽で、これは真空排気系２に接続されて、内部を真空に
引くようになっている。また真空槽１内の下方には、２
個のるつぼ３、３が設けられ、このるつぼ３の周囲にヒ
ーター４を螺旋状に巻回して蒸発源が形成されている。
このるつぼ３は例えばガラスや石英で形成されている。
更にこの蒸発源の上方には、これと対向して基板６が基
板ホルダー７によって下向きに保持されている。
ないし図３を参照して説明する。図１において１は真空
槽で、これは真空排気系２に接続されて、内部を真空に
引くようになっている。また真空槽１内の下方には、２
個のるつぼ３、３が設けられ、このるつぼ３の周囲にヒ
ーター４を螺旋状に巻回して蒸発源が形成されている。
このるつぼ３は例えばガラスや石英で形成されている。
更にこの蒸発源の上方には、これと対向して基板６が基
板ホルダー７によって下向きに保持されている。
【０００８】ヒーター４を巻回したるつぼ３は、図２に
示すように上部が開口した円筒状の熱遮蔽箱８内に収納
され、この上部に上蓋部９が取付けられている。熱遮蔽
箱８と上蓋部９は、ガラスや石英、金属またはセラミッ
クスなど耐熱性にある材料で構成され、この熱遮蔽箱８
の内壁８ａにはセラミックスがコーティングされてい
る。このコーティングするセラミックスとしては、例え
ば酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、ま
たはそれらの混合物があり、またコーティングの方法は
溶射法やゾル−ゲル法などで行なわれる。
示すように上部が開口した円筒状の熱遮蔽箱８内に収納
され、この上部に上蓋部９が取付けられている。熱遮蔽
箱８と上蓋部９は、ガラスや石英、金属またはセラミッ
クスなど耐熱性にある材料で構成され、この熱遮蔽箱８
の内壁８ａにはセラミックスがコーティングされてい
る。このコーティングするセラミックスとしては、例え
ば酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、ま
たはそれらの混合物があり、またコーティングの方法は
溶射法やゾル−ゲル法などで行なわれる。
【０００９】また上蓋部９はその中心に蒸気噴出孔１０
が開孔されている。この蒸気噴出孔１０は例えば図２お
よび図３に示すように、断面が円錐状をなし、その孔径
は上蓋部９の底面部から上面部に向かって順次小さく形
成されている。またこの蒸気噴出孔１０の上部の内径は
るつぼ３の内径より小さく形成されている。なお上蓋部
９の内壁９ａと蒸気噴出孔１０の内面にも前記と同様に
セラミックスがコーティングされている。また図１に示
すように、るつぼ３と基板６との間には蒸気を遮蔽する
シャッター５が水平に設けられている。
が開孔されている。この蒸気噴出孔１０は例えば図２お
よび図３に示すように、断面が円錐状をなし、その孔径
は上蓋部９の底面部から上面部に向かって順次小さく形
成されている。またこの蒸気噴出孔１０の上部の内径は
るつぼ３の内径より小さく形成されている。なお上蓋部
９の内壁９ａと蒸気噴出孔１０の内面にも前記と同様に
セラミックスがコーティングされている。また図１に示
すように、るつぼ３と基板６との間には蒸気を遮蔽する
シャッター５が水平に設けられている。
【００１０】上記構成の有機化合物用蒸発装置におい
て、先ず図１に示すように２個のるつぼ３、３に原料有
機物Ａ、Ｂを別個に投入してから熱遮蔽箱８、８に収納
した後、上蓋部９を取付ける。次いでシャッター５を閉
じて、るつぼ３と基板６とを遮断した状態で、真空排気
系２で真空槽１内を排気して所定の真空状態にする。こ
の後、ヒーター４に通電して一方のるつぼ３内の原料有
機物Ａを加熱する。原料有機物Ａの蒸発速度が安定した
らシャッター５を開けて、原料有機物Ａの蒸気を基板６
の表面に蒸着させて有機物薄膜を形成する。
て、先ず図１に示すように２個のるつぼ３、３に原料有
機物Ａ、Ｂを別個に投入してから熱遮蔽箱８、８に収納
した後、上蓋部９を取付ける。次いでシャッター５を閉
じて、るつぼ３と基板６とを遮断した状態で、真空排気
系２で真空槽１内を排気して所定の真空状態にする。こ
の後、ヒーター４に通電して一方のるつぼ３内の原料有
機物Ａを加熱する。原料有機物Ａの蒸発速度が安定した
らシャッター５を開けて、原料有機物Ａの蒸気を基板６
の表面に蒸着させて有機物薄膜を形成する。
【００１１】次にシャッター５を閉じて一方のるつぼ３
内の原料有機物Ａの温度が低下するのを待って、今度は
隣接する他方のるつぼ３のヒーター４に通電して、原料
有機物Ｂを加熱する。この蒸発速度が安定したらシャッ
ター５を開けて、原料有機物Ｂの蒸気を基板６の表面に
蒸着させて複合した有機物薄膜を形成する。
内の原料有機物Ａの温度が低下するのを待って、今度は
隣接する他方のるつぼ３のヒーター４に通電して、原料
有機物Ｂを加熱する。この蒸発速度が安定したらシャッ
ター５を開けて、原料有機物Ｂの蒸気を基板６の表面に
蒸着させて複合した有機物薄膜を形成する。
【００１２】従って、この蒸着装置ではヒーター４が熱
遮蔽箱８内に収納され、上部が上蓋部９で覆われている
ので、ヒーター４の輻射熱は遮蔽されて、真空槽１の内
壁面や基板６の輻射熱による加熱を防止することができ
る。また、蒸発源の周囲を囲む熱遮蔽箱８と上蓋部９の
内壁８ａ、９ａにセラミックスがコーティングされてい
るので、ヒーター４からの輻射熱が効果的に遮蔽され
る。この結果、真空槽１の内壁面の加熱が防止され、こ
こに付着した原料有機物の再蒸発を防止することができ
ると共に、基板６の加熱による有機薄膜の変質も防止す
ることができる。
遮蔽箱８内に収納され、上部が上蓋部９で覆われている
ので、ヒーター４の輻射熱は遮蔽されて、真空槽１の内
壁面や基板６の輻射熱による加熱を防止することができ
る。また、蒸発源の周囲を囲む熱遮蔽箱８と上蓋部９の
内壁８ａ、９ａにセラミックスがコーティングされてい
るので、ヒーター４からの輻射熱が効果的に遮蔽され
る。この結果、真空槽１の内壁面の加熱が防止され、こ
こに付着した原料有機物の再蒸発を防止することができ
ると共に、基板６の加熱による有機薄膜の変質も防止す
ることができる。
【００１３】また上蓋部９に設けた蒸気噴出孔１０は図
２に示すように断面が円錐状をなし、その孔径はるつぼ
３の内径より小さく形成されているので、熱遮蔽箱８内
に蒸気溜りが形成されて内圧が高くなる。その上、蒸気
噴出孔１０の内径が上蓋部９の底面部から上面部に向か
って順次小さく形成され、蒸発する蒸気の通過断面が絞
られているので、蒸気が上方に向かって直進し、対向し
て配置した基板６に効率よく蒸着させることができる。
２に示すように断面が円錐状をなし、その孔径はるつぼ
３の内径より小さく形成されているので、熱遮蔽箱８内
に蒸気溜りが形成されて内圧が高くなる。その上、蒸気
噴出孔１０の内径が上蓋部９の底面部から上面部に向か
って順次小さく形成され、蒸発する蒸気の通過断面が絞
られているので、蒸気が上方に向かって直進し、対向し
て配置した基板６に効率よく蒸着させることができる。
【００１４】また本発明の蒸気噴出孔１０の形状として
は、この他に図４および図５に示すように、断面が中空
円球の一部を形成するように円弧状に順次内径が上方に
向かって小さく形成したものでも良い。また熱遮蔽箱８
は図６に示すように角筒状のものでも良く、この場合は
上蓋部９も四角形状に形成される。また上記説明では真
空槽１内に２個のるつぼ３を同時に配置した場合につい
て示したが、原料有機物ごとに１個ずつ配置して蒸着さ
せる方法でも良い。
は、この他に図４および図５に示すように、断面が中空
円球の一部を形成するように円弧状に順次内径が上方に
向かって小さく形成したものでも良い。また熱遮蔽箱８
は図６に示すように角筒状のものでも良く、この場合は
上蓋部９も四角形状に形成される。また上記説明では真
空槽１内に２個のるつぼ３を同時に配置した場合につい
て示したが、原料有機物ごとに１個ずつ配置して蒸着さ
せる方法でも良い。
【００１５】
【発明の効果】以上説明した如く本発明の請求項１記載
の有機化合物用蒸発装置によれば、原料有機物用のるつ
ぼを、熱遮蔽箱内に収納し、この上に蒸気噴出孔を開孔
した上蓋部を取付けると共に、内壁にセラミックスコー
ティングを施しているので、るつぼ以外の方向に輻射さ
れるヒーターの輻射熱を遮り、真空槽や基板の加熱を防
止して真空槽内壁面に付着した原料有機物の再蒸発によ
る有機物薄膜の汚染を防止することができると共に、基
板の加熱による有機物薄膜の変質も防止することができ
る。
の有機化合物用蒸発装置によれば、原料有機物用のるつ
ぼを、熱遮蔽箱内に収納し、この上に蒸気噴出孔を開孔
した上蓋部を取付けると共に、内壁にセラミックスコー
ティングを施しているので、るつぼ以外の方向に輻射さ
れるヒーターの輻射熱を遮り、真空槽や基板の加熱を防
止して真空槽内壁面に付着した原料有機物の再蒸発によ
る有機物薄膜の汚染を防止することができると共に、基
板の加熱による有機物薄膜の変質も防止することができ
る。
【００１６】更に、上蓋部に開孔した蒸気噴出孔の孔径
が、その底面部から上面部に向かって順次小さく形成さ
れているので、上昇する蒸気に直進性が得られ、基板表
面に効率よく蒸着して真空槽内壁への付着を少なくする
ことができる。
が、その底面部から上面部に向かって順次小さく形成さ
れているので、上昇する蒸気に直進性が得られ、基板表
面に効率よく蒸着して真空槽内壁への付着を少なくする
ことができる。
【図１】本発明の実施の一形態による有機化合物用蒸発
装置の概略断面図である。
装置の概略断面図である。
【図２】図１に示す熱遮蔽箱と上蓋部を拡大して示す斜
視図である。
視図である。
【図３】図２に示す上蓋部の断面図である。
【図４】本発明の他の実施の形態による上蓋部の断面図
である。
である。
【図５】本発明の他の実施の形態による上蓋部の断面図
である。
である。
【図６】本発明の他の実施の形態による箱形の熱遮蔽箱
と四角形の上蓋部を示す斜視図である。
と四角形の上蓋部を示す斜視図である。
１ 真空槽 ２ 真空排気系 ３ るつぼ ４ ヒーター ５ シャッター ６ 基板 ７ 基板ホルダー ８ 熱遮蔽箱 ８ａ 内壁 ９ 上蓋部 ９ａ 内壁 １０ 蒸気噴出孔
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平11−50232（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−177565（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58
Claims (1)
- 【請求項１】 真空槽内に、るつぼの周囲にヒーターを
取付けた蒸発源を設け、ここから原料有機物を蒸発させ
て、真空槽内の上部に設けた基板表面に有機薄膜を形成
する有機化合物用蒸発装置において、前記ヒーターを取
付けたるつぼを、内面にセラミックをコートした熱遮蔽
箱に収納し、この熱遮蔽箱の上部に取付けた上蓋部に、
孔径がるつぼの内径より小さい蒸気噴出孔を開孔し、且
つこの蒸気噴出孔の孔径が、その底面部から上面部に向
かって順次小さく形成されていることを特徴とする有機
化合物用蒸発装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11137917A JP3095740B2 (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 有機化合物用蒸発装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11137917A JP3095740B2 (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 有機化合物用蒸発装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000234163A JP2000234163A (ja) | 2000-08-29 |
| JP3095740B2 true JP3095740B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=15209714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11137917A Expired - Fee Related JP3095740B2 (ja) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | 有機化合物用蒸発装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3095740B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60305246T2 (de) * | 2002-07-19 | 2006-09-14 | Lg Electronics Inc. | Quelle zur thermischen PVD-Beschichtung für organische elektrolumineszente Schichten |
| JP4941754B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2012-05-30 | ソニー株式会社 | 蒸着装置 |
| JP2012026009A (ja) * | 2010-07-26 | 2012-02-09 | Ulvac Japan Ltd | 薄膜形成装置 |
| KR102003199B1 (ko) * | 2012-12-18 | 2019-07-24 | 주식회사 원익아이피에스 | 박막증착장치 |
-
1999
- 1999-05-19 JP JP11137917A patent/JP3095740B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000234163A (ja) | 2000-08-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |