CN108642454B - 一种蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种蒸镀设备，该设备包括：蒸发源，所述蒸发源位于蒸镀腔室内；罩体，所述罩体罩设在所述蒸发源的蒸汽输出端上，所述罩体上设有用于降低所述罩体所罩设空间内蒸汽压的冷却结构；在外力作用下，所述罩体从所述蒸发源的蒸汽输出端处移开，原罩设空间内的蒸汽压保持不变，较现有技术，有效避免了蒸镀设备的蒸镀速率的波动，致使形成的蒸镀层厚度出现偏差的现象发生。

Description

一种蒸镀设备

技术领域

本申请涉及面板制作设备领域，尤其涉及一种蒸镀设备。

背景技术

目前的有机电激光显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)在制备时，一般采用真空蒸镀技术形成膜层，即利用蒸镀设备，在真空环境下，升温加热材料，使材料熔化挥发或者升华，在玻璃基板上沉积一层层有机材料，形成OLED器件。

在蒸镀有机材料时需要控制蒸镀速度，以控制形成的蒸镀层的厚度。由于蒸镀设备不需要进行蒸镀时，蒸发源的蒸汽输出端通过挡板遮挡。当将挡板移开时，蒸发源的蒸汽压突然变小，会引起蒸镀设备的蒸镀速率的波动，从而使得形成的蒸镀层的厚度出现偏差，且需要等待近十几分钟的时间蒸镀速率回归正常。

发明内容

本申请实施例还提供一种蒸镀设备，用于解决现有技术中蒸镀设备的蒸镀速率波动，致使形成的蒸镀层厚度出现偏差的问题。

本申请实施例采用下述技术方案：

本申请提供了一种蒸镀设备，所述设备包括：

蒸发源，所述蒸发源位于蒸镀腔室内；

罩体，所述罩体罩设在所述蒸发源的蒸汽输出端上，所述罩体上设有用于降低所述罩体所罩设空间内蒸汽压的冷却结构；

在外力作用下，所述罩体从所述蒸发源的蒸汽输出端处移开。

进一步的，所述罩体由导热材质制成，所述冷却结构设置在所述罩体上。

进一步的，所述罩体上设有通孔，所述设备还包括：罐体；

所述罐体的开口端与所述通孔的边缘连接；所述罐体由导热材质制成，所述冷却结构设置在所述罐体上。

进一步的，所述罐体的开口端与所述蒸发源的蒸汽输出端相对。

进一步的，所述罐体内设有吸附结构，所述吸附结构能够吸附所述罐体内蒸汽中的材料。

进一步的，所述吸附结构与所述罐体内壁可拆卸连接。

进一步的，所述吸附结构为金属网，所述金属网沿着所述罐体内壁设置。

进一步的，所述冷却结构为冷却液循环系统的冷却液管路，所述冷却液管路内嵌在所述罐体内。

进一步的，所述设备还包括：

基板，所述基板上设有与所述蒸发源的蒸汽输出端尺寸及数量匹配的开口，所述罩体罩设在所述开口上；

所述蒸发源的数量为多个，所述罩体的数量与所述蒸发源的数量一致。

进一步的，所述罩体包括：

罩部，所述罩部罩设在所述开口上；

连接部，所述连接部一端与所述罩部连接，所述连接部的另一端与所述基板转动连接。

本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：

本申请实施例通过在蒸镀腔室内设置蒸发源和罩体，罩体上设有冷却结构。罩体罩设在蒸发源的蒸汽输出端上，通过冷却结构冷却罩体罩设空间内蒸汽的温度以降低罩设空间内的蒸汽压。当在外力作用下时，罩体从蒸发源的蒸汽输出端处移开，原罩设空间内的蒸汽压保持不变，较现有技术，有效避免了蒸镀设备的蒸镀速率的波动，致使形成的蒸镀层厚度出现偏差的现象发生。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1为本申请实施例提供的蒸镀设备的第一种结构示意图；

图2为本申请实施例提供的蒸镀设备的第二种结构示意图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请具体实施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

图1为本申请实施例提供的蒸镀设备的第一种结构示意图。如图1所示，本申请实施例提供的蒸镀设备可以包括：蒸发源1和罩体2。蒸发源1和罩体2之间的连接关系及工作过程进行介绍，具体如下所述：

该蒸镀设备可以包括：蒸镀腔室。该蒸镀腔室内设有蒸发源1，该蒸发源1具有蒸汽输出端，该蒸汽输出端上罩设有罩体2，罩体2上设有用于降低罩体2所罩设的空间内蒸汽压的冷却结构3。当在外力作用下时，罩体2从蒸发源1的蒸汽输出端处移开，原罩设的空间内的蒸汽压保持不变，较现有技术，有效避免了蒸镀设备的蒸镀速率的波动，致使形成的蒸镀层厚度出现偏差的现象发生。

该罩体2可以采用现有技术中任意形状的具有一开口的腔体结构。例如，柱体结构、梯形体结构、管锥体结构或锅体结构，等等。具体实施时，罩体2的形状可以根据实际需求选取，本申请实施例不做具体限定。该罩体2可以与蒸镀腔室活动连接，或者，该罩体2与蒸镀腔室内的其他固定结构活动连接，以实现罩体2在外力作用下能够从蒸镀源的蒸汽输出端处移开。

该冷却结构3可以采用现有技术中能够实现冷却功能的结构，例如，冷却液循环系统的冷却液管路。具体实施时，该冷却结构3的实现结构需要根据实际需求选取，本实施例不做具体限定。该冷却结构3与罩体2之间的连接方式可以包括以下两种：

第一种、冷却结构3可以与罩体2所罩设的空间连通，通过对该空间直接进行冷却的方式来降低该空间内的蒸汽压。第二种、该冷却结构3也可以设置在罩体2上，通过与罩体2进行热交换的方式来降低罩体2所罩设的空间内的蒸汽压。在第二种方式中，罩体2的与冷却结构3接触的接触部位由导热材料制成，以为冷却结构3和罩体2所罩设的空间内的蒸汽传导热量。当然，该罩体2也可以全部由导热材料制成。在第二种方式中，冷却结构3可以贴附在罩体2的外表面上，或者，冷却结构3可以贴附在罩体2的内壁上，或者，冷却结构3可以内嵌在罩体2的内部。若冷却结构3为冷却液循环系统的冷却液管路，冷却液管路内嵌在罩体2的内部，则该冷却液管路的进液端和出液端均置于罩体2的外部。

以下实施均以冷却结构3与罩体2之间的连接方式采用第二种方式为例进行叙述：

进一步的，为了回收蒸汽中的有机材料，上述实施例中所述的罩体2上设有通孔，蒸镀设备还可以包括：罐体4(如图1所示)。该罐体4由导热材质制成，罐体4的开口端与通孔的边缘连接，罐体4上设置冷却结构3。当罩体2罩设在蒸发源1的蒸汽输出端上时，罩体2所罩设的空间内充满蒸汽。此时，位于罐体4上的冷却结构3冷却了罩体2所罩设的空间内的蒸汽，使得蒸汽中的有机材料在低温下沉积在罐体4内，从而实现了对蒸汽中的有机材料回收的目的。

在本实施例中，该通孔的位置可以位于罩体2上的任意位置。优选的，为了能够收集更多的有机材料，该通孔设置在罩体2的与蒸发源1相对的位置处，使蒸发源1的蒸汽输出端输出的蒸汽直接对应通孔，以使与通孔的边缘连接的罐体4内充满蒸汽，进而便于罐体4内收集更多的有机材料。其中，罐体4与罩体2的连接方式可以是可拆卸连接方式，也可以是固定连接方式。优选的，为了便于将罐体4内回收的有机材料取出，罐体4与罩体2的连接方式采用可拆卸连接方式。这里需要说明的是，罐体4的开口端与通孔的边缘密封连接。

当然，这里需要补充的是，该罐体4也可以属于罩体2的一部分。

进一步的，为了使罐体4内回收更多的有机材料，上述实施例中所述的罐体4内设有吸附结构(未给出示图)，吸附结构能够吸附罐体4内蒸汽中的材料。该吸附结构可以采用现有技术中能够实现吸附功能的任意结构。为了尽可能的回收更多的有机材料，该吸附结构优选具有较大吸附面积的结构。例如，金属丝、金属网等。

优选的，为了进一步使罐体4内的回收更多的有机材料，上述实施例中所述的吸附结构可以为金属网，该金属网沿着罐体4内壁设置。本申请实施例通过增大吸附结构的吸附面积，来实现进一步使罐体4内回收更多的有机材料的目的。

进一步的，为了便于将罐体4内回收的有机材料取出，上述实施例中所述的吸附结构与罐体4内壁可拆卸连接。在实际应用中，可以将吸附有有机材料的吸附结构从罐体4内取出，并通过有机材料溶剂萃取吸附结构上的有机材料，再通过提纯对回收的有机材料重复利用。

进一步的，为了加速降低罩体2所罩设的空间内蒸汽温度，上述实施例中所述的冷却结构3内嵌在罐体4内。冷却结构3为冷却液循环系统的冷却液管路，冷却液管路内嵌在罐体4内。该冷却液管路可以为螺旋形的冷却液管路，该螺旋形的冷却液管路缠绕在罐体4内，从而增大了与罐体4的接触面积，进而加速了对罐体4内的蒸汽降温速率，使得与罐体4连通的罩体2所罩设的空间内蒸汽压降低，有效了避免了当罩体2移开蒸发源1的蒸汽输出端时致使原罩设空间内的蒸汽压波动过大的现象发生。

进一步的，如图2所示，上述实施例中所述的蒸镀设备还可以包括：基板5。基板5上设有与蒸发源1的蒸汽输出端尺寸及数量匹配的开口51。蒸发源1与罩体2分别位于基板5的相对两侧，蒸发源1的蒸汽输出端与开口51和罩体2对应，及蒸发源1的蒸汽输出端输出的蒸汽穿过基板5的开口51充满罩体2所罩设的空间内。优选的，蒸发源1的数量为多个，罩体2的数量与蒸发源1的数量一致。当采用多个蒸发源1同时对玻璃基板5的不同区域蒸镀不同的有机材料时，本申请实施例通过基板5上设有多个开口51将多个蒸发源1输出的蒸汽分开，有效防止了不同种类的有机材料之间相互干扰。

在实际应用中，为了实现每个罩体2能够在外力作用下从蒸发源1的蒸汽输出端移开，如图2所示，具体实现可以为：该罩体2可以包括罩部21和连接部22。罩部21罩设在开口上。连接部22一端与罩部21连接，连接部22的另一端与基板5转动连接。其中，连接部22的另一端与基板5转动连接的具体实现可以为，连接部22的另一端与基板5通过旋转连接结构连接，该旋转连接结构可以为现有技术中任一实现旋转连接的结构，本申请实施例不做具体限定。其中，连接部22的另一端与基板5转动连接后，可以使得罩部21在基板5的平面上旋转以从蒸发源1的蒸汽输出端上移开，也可以使得罩部21在基板5的垂直面上旋转以从蒸发源1的蒸汽输出端上移开。

以蒸发源1、罩体2和开口的数量均为四个为例，如图2所示，四个罩体2的连接部22与基板5中心处的旋转连接结构连接，使得四个罩体2在基板5的平面上转动。四个罩体2为平底锅状结构，罐体4位于罩体2的顶面上，冷却结构3采用冷却液循环系统的冷却液管路，冷却液管理缠绕在罐体4(罐体4由导热材料制成)的外表面上，冷却液管路的进出管路沿着罩体2的连接部22及旋转连接结构的旋转轴布置，并与冷却液的供应系统连接。

以上仅为本申请的实施例而已，并不用于限制本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的权利要求范围之内。

Claims (8)

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：

蒸发源，所述蒸发源位于蒸镀腔室内；

罩体，所述罩体罩设在所述蒸发源的蒸汽输出端上，所述罩体上设有通孔；

罐体，所述罐体设置在所述罩体上远离所述蒸发源的一侧，所述罐体的开口端与所述通孔的边缘连接，所述罐体由导热材质制成，所述罐体上设置有冷却结构，所述冷却结构用于降低所述罩体所罩设空间内蒸汽压，所述罐体内设有吸附结构，所述吸附结构能够吸附所述罐体内蒸汽中的材料；

在外力作用下，所述罩体从所述蒸发源的蒸汽输出端处移开。

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述罩体由导热材质制成。

3.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述罐体的开口端与所述蒸发源的蒸汽输出端相对。

4.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述吸附结构与所述罐体内壁可拆卸连接。

5.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述吸附结构为金属网，所述金属网沿着所述罐体内壁设置。

6.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述冷却结构为冷却液循环系统的冷却液管路，所述冷却液管路内嵌在所述罐体内。

7.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述设备还包括：

基板，所述基板上设有与所述蒸发源的蒸汽输出端尺寸及数量匹配的开口，所述罩体罩设在所述开口上；

所述蒸发源的数量为多个，所述罩体的数量与所述蒸发源的数量一致。

8.根据权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于，所述罩体包括：

罩部，所述罩部罩设在所述开口上；

连接部，所述连接部一端与所述罩部连接，所述连接部的另一端与所述基板转动连接。

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