CN103014617B - 薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种薄膜形成装置，其通过使仅在多个基板上的特定部分上形成薄膜的作业简单化、效率化，从而能够缩短薄膜形成时的作业时间，减少成膜作业的费用。薄膜形成装置（100）具备的基板保持机构（3）具有：基板保持部件（10～40），保持多个基板（S），使得基板（S）的非成膜部分（S2）的一部分与其他基板（S）重合，而成膜部分（S1）露出；支撑部件（50），支撑基板保持部件（10～40）；旋转部件（60），使支撑部件（50）旋转，基板保持部件（10～40）具有：多个保持面（11d），保持多个基板（S），配置在成膜源（4）与多个基板（S）之间；多个阶差部（11e），形成在多个保持面（11d）之间，分别与多个基板（S）的端部抵接；多个开口部（11f），在基板（S）的端部抵接在多个阶差部（11e）的状态时，形成在与成膜部分（S1）相应的部分的保持面（11d）上。

Description

薄膜形成装置

技术领域

本发明涉及薄膜形成装置，特别是涉及能够对多个基板上的特定部分，高效地形成薄膜的薄膜形成装置。

背景技术

在数码相机和数码摄像机等摄影设备、便携电话、智能手机、便携游戏机等各种设备中，应用有在基板表面上形成薄膜的技术。

并且，在这些设备上具备的基板，虽然有的是在基板整个面上形成有薄膜，但是有很多是仅在基板上的某特定的区域上选择性地形成有薄膜。

如上所述，为了仅在基板上的特定的部分选择性地形成薄膜，应用了如下所述的技术：在被配置于薄膜形成装置内的基板保持机构保持的基板上，通过掩膜来覆盖不形成薄膜的部分（以下，称为“非成膜部分”）。但是，在如上所述通过掩膜来覆盖基板的技术中，一般由于每个基板都由基板保持机构来保持，以使在基板上形成薄膜的部分（以下，称为“成膜部分”）不相互重叠，因此保持在基板保持机构上的基板的数量不能很多。因此，不能对多个基板成批地进行成膜，存在成膜效率低的问题。

为了解决上述问题，提出有如下所述的技术：不使用掩膜来形成非成膜部分，而是以通过其他的基板来覆盖非成膜部分的方式，在使基板重合的状态下形成薄膜（专利文献1）。

另外，在专利文献2中，提出有如下所述的技术：使用第一销及第二销使多个基板（在专利文献2中记载为“薄板部件”）倾斜地配置，在基板的端部附近形成薄膜。如上所述，互相以斜状配置的基板，由于基板彼此相互起到掩膜的作用，因此不需要在成膜时具备掩膜，且由于基板以相互重叠的方式配置，因此能够对多个基板成批地进行处理。

【专利文献1】日本特开昭63-266071号公报

【专利文献2】日本特开平7-34222号公报

但是，在专利文献1中公开的技术中，由于在最后载置在基板支架的基板之上，需要安装覆盖非成膜部分的防附着板，因此作业效率低。另外，在专利文献2中公开的技术存在如下的问题：由于需要使基板分别与第一销及第二销卡合，因此基板的设置作业繁杂，作业时间长。

因此，在专利文献1及专利文献2的技术中，存在薄膜形成时的作业时间长，成膜作业的费用昂贵的问题。

进而，在专利文献1及专利文献2中公开的基板保持机构，由于构成为必须使基板的端部（包含侧面的端部）露出，因此很难精细地设定成膜部分的形状和大小。因此，存在限制了能够在基板上形成的成膜部分的形状和大小的问题。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种薄膜形成装置，其通过使仅在多个基板上的特定部分上形成薄膜的作业简单化、效率化，从而能够缩短薄膜形成时的作业时间，减少成膜作业的费用。

另外，本发明的其他目的在于，提供一种薄膜形成装置，其在仅在基板上的特定部分上形成成膜部分时，能够精细地设定成膜部分的形状和大小。

上述课题通过如下所述的本发明的薄膜形成装置来解决。该薄膜形成装置具有保持多个基板的基板保持机构，在上述多个基板上形成薄膜，上述基板保持机构具有：基板保持部件，其保持上述多个基板；支撑部件，其支撑该基板保持部件；以及旋转部件，其使该支撑部件旋转，上述基板保持部件具有：多个保持面，其保持上述多个基板，配置在放出上述薄膜的材料的成膜源与上述多个基板之间；多个阶差部，其形成在该多个保持面之间；以及多个开口部，其分别形成在上述多个保持面上，多个所述基板能够以如下方式搭载：所述多个基板中的不形成所述薄膜的非成膜部分的一部分与其他基板相互重合，并且形成所述薄膜的成膜部分露出，在所述多个基板的端部分别与所述阶差部抵接的状态下，所述成膜部分通过所述开口部而露出到所述成膜源侧。

为了实现仅在基板上的特定部分上形成薄膜的技术的效率化，以往是以通过其他的基板来覆盖非成膜部分的方式，在使基板相互重叠来保持的状态下进行成膜工序。此时，存在如下所述的问题：在以通过其他的基板来覆盖非成膜部分的方式配置并且以成膜部分露出的方式保持基板的作业非常繁杂。

对于如上所述的问题，根据本发明的薄膜形成装置，能够仅通过使基板抵接（载置）到保持基板的保持面、及阶差部，而容易地使多个基板保持在基板保持机构上。并且，由于在成膜源与基板之间具有基板保持机构的保持面，在该保持面上，在与成膜部分相应的部分具备开口部，因此只有基板的成膜部分露出，不需要进行复杂的安装作业。即、能够简化以用其他的基板来覆盖基板的非成膜部分并且使成膜部分露出的方式保持基板的作业。因此，在保持基板时，由于不需要进行复杂的作业，因此能够提高效率。其结果，能够缩短薄膜形成时的作业时间，能够减少成膜作业中的费用。

另外，由于能够通过在保持面上具备开口部，而仅使基板的成膜部分露出，因此保持面（基板保持部件）起到掩膜的作用。因此，由于能够依赖开口部的形状和大小来控制成膜部分的形状和大小，因此能够进行更细致的成膜作业。

进而，在基板保持机构中，由于能够通过进一步具备使支撑部件（即、基板保持机构）旋转的旋转部件，从而使基板保持部件也旋转，因此能够使形成在多个基板上的薄膜以均匀的膜质、膜厚来形成。

此时，优选在所述旋转部件的旋转方向上将所述基板保持部件分割为2个以上12个以下，

并且，通过在基板保持机构的旋转方向上将基板保持部件分割为2～12个，从而使基板保持部件成为适当的大小，能够容易安装到支撑部件上。因此，能够提高成膜作业中的作业效率，缩短作业时间。

进而，上述基板保持部件，优选形成为俯视时呈环状，在上述基板保持部件的径向上，相邻配置多个上述基板保持部件。

如上所述，通过以在径向上相邻的状态具备多个形成为环状（甜甜圈状）的基板保持部件，从而可以进一步增加基板保持机构能够保持的基板的数量。因此，由于可以增加能够成批地进行成膜的基板张数，因此显著提高成膜作业的效率。

另外，上述支撑部件，优选以能够改变上述基板保持部件的上述多个保持面、与上述旋转部件的旋转轴所成的角度的方式，保持上述基板保持部件。

在基板保持部件中，通过能够改变保持基板的保持面与水平面所成的角度，从而能够校正在基板上成膜的薄膜的膜厚。其结果，在多个基板中，能够形成膜厚更均匀的薄膜，能够减少成膜时所需的材料。

此时，上述基板保持部件，优选以穿过上述成膜部分和上述成膜源的第一假想线、与上述成膜部分的成膜面的垂线所成的角度成为0°以上45°以下的方式，保持上述多个基板。

在基板上形成薄膜时，薄膜的厚度（膜厚），依赖于成膜面与放出薄膜材料的成膜源的相对位置，更详细地说，膜厚依赖于从成膜源对成膜面射入薄膜材料的角度。

因此，通过使从成膜源对成膜面射入薄膜材料的角度，即穿过基板的成膜面和成膜源的假想线、与成膜面的垂线所成的角度处于上述范围，从而能够容易控制形成在基板上的薄膜的厚度，能够在多个基板上形成膜厚更均匀的薄膜。

另外，上述支撑部件，优选以形成在上述多个保持面上的上述多个开口部位于以上述旋转部件的旋转轴为中心轴的假想拱顶上的方式，支撑上述基板保持部件。

如上所述，通过以设置在基板保持部件上的开口部，位于以旋转部件的旋转轴（即、基板保持机构的旋转轴）为中心轴的假想拱顶上的方式配置，从而能够在多个基板上，形成膜厚更均匀的薄膜。

进而，优选在上述径向上彼此相邻配置的上述基板保持部件配置在如下所述的位置上：对于上述成膜源而言，形成在一方的上述基板保持部件上的上述开口部，不会被另一方的上述基板保持部件挡住。

如上所述，形成为环状而在径向上彼此相邻配置的基板保持部件，是以如下所述的方式配置：在基板保持部件上具备的开口部，对于成膜源露出。在形成为环状的基板保持部件以在径向上相邻的方式配置的基板保持机构中，形成在基板上的薄膜的厚度，容易受到相邻配置的基板保持部件的影响。因此，通过在对于成膜源而言不会被其他基板保持部件挡住的位置上，具备在基板保持部件上具备的开口部，从而使在基板上成膜的薄膜的厚度很难受到基板保持部件的影响，能够使膜厚进一步均匀。

另外，优选上述支撑部件支撑上述基板保持部件，该基板保持部件形成为俯视时呈环状，在旋转方向及径向中的至少一个方向上配置有多个，在上述径向上彼此相邻配置的上述基板保持部件，配置在如下所述的位置：穿过形成在一方的上述基板保持部件的上述保持面上的上述开口部的外周与上述成膜源的第二假想线，与另一方的上述基板保持部件的上述径向的端部分开20mm以上。

在形成为环状的基板保持部件以在旋转方向及径向中的至少一个方向上相邻的方式配置的基板保持机构中，形成在基板上的薄膜的厚度，很容易受到相邻配置的基板保持部件的影响。因此，通过将一方的基板保持部件的开口部配置在与另一方的基板保持部件的旋转方向及径向中的至少一个方向的端部离开20mm以上的位置上，从而所形成的薄膜的厚度很难受到基板保持部件的影响，能够使膜厚进一步均匀。

此时，优选上述多个阶差部，沿着相对于上述径向倾斜的方向形成，上述多个基板由矩形的板材构成，在将上述多个基板的上述径向内侧的边缘的长度分别为L，从上述多个基板各自的边缘的中心点到上述旋转部件的旋转轴的距离为r时，上述基板保持部件以（L/2）/r的值为0.05以上0.75以下的方式，保持上述多个基板。

如上所述，特别是在形成薄膜的基板为矩形时，通过如上所述构成基板保持部件，从而能够进一步增加保持在基板保持部件上的基板的数量。从而，由于能够增加可以成批进行成膜的基板张数，因此显著提高成膜作业的效率。

另外，优选上述基板保持部件，以重合而保持的上述多个基板中的一方的上述基板的边缘、与另一方的上述基板的边缘所成的角度成为0°以上90°以下的方式，保持上述多个基板。

如上所述，在使矩形的基板保持在基板保持部件上时，通过以上述位置关系来配置，从而能够进一步增加保持在基板保持部件上的基板的数量。从而，由于能够增加可以成批地进行成膜的基板张数，因此显著提高成膜作业的效率。

另外，优选上述多个阶差部的高度形成为比上述多个基板的厚度高0.05mm以上。

如上所述，通过使基板的端缘抵接的阶差部的高度形成得比基板的厚度还要高0.05mm以上，从而在基板彼此重叠时，能够抑制基板表面的损伤。因此，能够制造质量好的带薄膜的基板。

根据本发明的薄膜形成装置，不用对基板保持部件进行复杂的作业，能够容易地保持多个基板。因此，在保持基板时，由于不需要进行复杂的作业，因此能够提高成膜作业的效率。其结果，能够缩短薄膜形成时的作业时间，能够减少成膜作业中的费用。并且，本发明的薄膜形成装置由于能够使多个基板保持在基板保持部件上，因此能够进一步增加可以成批地进行成膜的基板张数，进一步提高成膜作业的效率。

进而，由于在基板保持机构的基板保持部件的保持面上，具有用于使成膜部分露出的开口部，因此保持面（基板保持部件）起到掩膜的作用。因此，由于能够依赖于开口部的形状和大小来控制成膜部分的形状和大小，因此能够进行更细致的成膜作业。

进而，本发明的薄膜形成装置，通过将基板保持机构上具备的基板保持部件做成以上结构，从而能够以膜厚更均匀的方式形成薄膜。其结果，能够减少在成膜时所需的材料。

附图说明

图1是示出本发明的一实施方式的薄膜形成装置的示意图。

图2是本发明的一实施方式的保持在基板保持机构上的基板的俯视图。

图3是本发明的一实施方式的基板保持机构的俯视图。

图4是构成本发明的一实施方式的基板保持部件的保持夹具的立体图。

图5是保持夹具的俯视图。

图6是示出在保持夹具上载置了第一张基板的状态的俯视图。

图7是示出在保持夹具上载置了所有的基板的状态的俯视图。

图8是示出在保持夹具上载置了基板的状态的截面说明图。

图9是示出在保持夹具上载置了基板的状态的截面说明图。

图10是示出固定有本发明的一实施方式的基板保持部件的支撑部件与成膜源的位置关系的说明图。

图11是示出本发明的实施例1的反射防止膜的反射率的图表。

图12是示出本发明的比较例1的反射防止膜的反射率的图表。

图13是示出本发明的比较例2的反射防止膜的反射率的图表。

图14是本发明的其他实施方式的基板保持部件的说明图。

图15是本发明的其他实施方式的基板保持部件的立体图。

符号说明

100：薄膜形成装置；1：真空容器；2：真空泵；3：基板保持机构；4：成膜源；10、20、30、40、10’：基板保持部件；11、12、13、14、15、11’、12’、13’：保持夹具；11A：最下层基板配置部；11B：阶梯状部；11a：底板部；11b：内侧立壁部；11c：外侧立壁部；11d、11d’保持面；11e、11e’：阶差部；11f、、21f、31f、41f、11f’：开口部；11g1：支撑面；11g2：凹面；11h：窗部；11i、11j：厚壁部；11k、11m：排气槽；11js：阶差；11jx：排气槽；11n：第一壁部；11o：第二壁部；11os：阶差部；11p、11q：安装孔；11r’：框部；11s’：平面部；50：支撑部件；51：螺栓；51a固定用板材；60：旋转部件；I：距离；P：垂线；S：基板；S1：成膜部分；S2：非成膜部分；V1、V2、V3：假想线；X：旋转轴（中心轴）。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。另外，在以下说明的部件、配置等，不限定本发明，当然可以按照本发明的要旨进行各种改变。

图1至图11是本发明的一实施方式，图1是示出薄膜形成装置的示意图，图2是保持在基板保持机构上的基板的俯视图，图3是基板保持机构的俯视图，图4是构成本发明一实施方式的基板保持部件的保持夹具的立体图，图5是保持夹具的俯视图，图6是示出在保持夹具上载置了第一张基板的状态的俯视图，图7是示出在保持夹具上载置了所有基板的状态的俯视图，图8是示出在保持夹具上载置了基板的状态的截面说明图，图9是示出在保持夹具上载置了基板的状态的截面说明图，图10是示出固定有本发明的一实施方式的基板保持部件的支撑部件与成膜源的位置关系的说明图，图11是示出本发明的实施例1的反射防止膜的反射率的图表，图12是示出本发明的比较例1的反射防止膜的反射率的图表，图13是示出本发明的其他比较例2的反射防止膜的反射率的图表，图14及图15是本发明的其他实施方式的图，图14是基板保持部件的说明图，图15是基板保持部件的立体图。

作为本发明的特征要素的基板保持机构3，是为了对多个基板S成批地形成薄膜，而在薄膜形成装置100中具备的机构。对于基板S而言，不是在其表面整体上形成薄膜，而是仅在特定的区域形成薄膜，具有成膜部分S1和不形成薄膜的非成膜部分S2。基板保持机构3，在具有成膜部分S1及非成膜部分S2的基板S上形成薄膜时，为了成批地处理大量的基板S，而具有如下的结构。

<薄膜形成装置的构造>

以下，概略地说明薄膜形成装置100的构造。

图1的薄膜形成装置100，是在基板S的表面上形成薄膜的真空蒸镀装置，图1是示出薄膜形成装置100的一部分的示意剖面图。

薄膜形成装置100，通过使真空容器1内成为真空状态，对金属等的薄膜材料进行加热而使其蒸发，从而通过薄膜材料在基板S的表面上形成薄膜。薄膜形成装置100具有：真空容器1；基板保持机构3；以及成膜源4。

真空容器1由铝或不锈钢等公知的金属材料构成，是用于在其内部在基板S上形成薄膜的几乎为圆筒的中空的容器体。在真空容器1上连接有真空泵2，能够使真空容器1的内部成为1×10^-2～1×10^-5Pa左右的真空状态。在真空容器1中具有将气体导入到内部的未图示的气体导入管、未图示的压力计。

<基板保持机构的结构>

基板保持机构3设置在真空容器1的内部，为了在多个基板S上成批地同时进行成膜而保持多个基板S。如图1、图3所示，侧视时呈山形形状、俯视时成圆形状的拱顶状。图3的箭头示出了旋转部件60的旋转方向。

基板保持机构3具有：基板保持部件10、20、30、40，它们形成为环状并以同心圆状配置；支撑部件50，其支撑基板保持部件10、20、30、40；以及旋转部件60，其使支撑部件50旋转。

旋转部件60由公知的旋转电机等构成，设置在基板保持机构3的中心，具有在基板保持机构3的中心向铅直方向延伸的旋转轴X。

旋转部件60以旋转轴X为轴进行旋转，从而支撑部件50以及基板保持部件10、20、30、40在水平方向旋转。

如图1、图3所示，支撑部件50由长条的棒状体构成，以一端固定在旋转部件60上、另一端配置在旋转部件60的下方外侧的方式设置。

在支撑部件50的一部分上，安装有用于固定基板保持部件10、20、30、40的固定用板材51a。固定用板材51a具有：由金属材料构成的平面状的板部；以及从该板部连续并相对于板部弯曲的支撑部件安装部。板部与支撑部件安装部的角度，与支撑部件50与基板保持部件10、20、30、40所成的角度相等，通过用螺栓紧固或焊接等将支撑部件安装部固定在支撑部件50上，从而构成为板部与基板保持部件10、20、30、40的安装面平行。

通过将固定用板材51a的支撑部件安装部安装在支撑部件50上，用螺栓51来固定基板保持部件10、20、30、40，从而基板保持部件10、20、30、40被支撑在支撑部件50上。

如图1所示，固定用板材51a按安装在支撑部件50上的基板保持部件10、20、30、40的数量来设置在支撑部件50上。在本实施方式中，由于具有共计4列基板保持部件10、20、30、40，因此在各支撑部件50上具有4个固定用板材51a。

设置有与基板保持部件10、20、30、40的分割数相同数量的支撑部件50，该支撑部件50以将旋转轴X为中心彼此具有一定的角度间隔的方式固定在旋转部件60上。旋转部件60和支撑部件50作为整体具有如伞骨那样的形状。在本实施方式中，具有5个支撑部件50。

支撑部件50的旋转部件60侧的端部固定在旋转部件60上。

基板保持部件10、20、30、40是保持多个基板S的部件，是由容易加工、比较轻量的铝构成。

如图3所示，基板保持部件10、20、30、40形成为同心异径的环状。

基板保持部件10、20、30、40分别在周向上被分割为与支撑部件50的数量相同的数量，作为与支撑部件50的数量相同数量的保持夹具的集合体构成。构成一个基板保持部件的多个保持夹具形成为相同形状。

并且，在本实施方式中，虽然基板保持部件10、20、30、40在旋转部件60的旋转方向上分别被分割为5部分，但是也可以被分割为除此以外的数量。此时，基板保持部件10、20、30、40可以在圆周方向上分割为2个以上12个以下。

如上所述，由于基板保持部件10、20、30、40被分割，因此比基板保持部件10、20、30、40形成为一体的情况更轻量化。由于基板保持部件10、20、30、40是通过在载置了多个基板S的状态下由作业人员抬起来安装到支撑部件50上，因此通过使基板保持部件10、20、30、40实现轻量化，从而能够容易进行基板保持部件10、20、30、40的安装，作业效率提高。

另一方面，当基板保持部件10、20、30、40被分割为比12个多时，在支撑部件50上固定基板保持部件10、20、30、40的作业时间变长，作业效率低，因此是不利的。另外，当将各基板保持部件10、20、30、40作为整体来观察时，由于基板S相互不重叠的部分、厚壁部11i、11j等所占的面积扩大，因此能够装载到基板保持部件10、20、30、40上的基板S的数量减少，每一批次能够处理的基板S的数量减少，从而降低成膜处理的效率。

<保持夹具的结构>

保持夹具11～15是构成基板保持部件10的要素。即、基板保持部件10被分割为俯视时呈圆弧状的保持夹具11～15。

基板保持部件10、20、30、40的不同点在于，其直径不同，但其基本结构大致相同。另外，保持夹具11～15是对基板保持部件10进行等分而得到的夹具，其结构彼此相同。以下对构成基板保持部件10的保持夹具11进行说明。

保持夹具11是构成形成为环状的基板保持部件10的夹具，形成为俯视时呈圆弧状。多个基板S，通过载置在保持夹具11上而保持在基板保持部件10（保持夹具11）上，此时，保持夹具11是以如下所述的方式保持多个基板S：即、相邻而保持的基板S的非成膜部分S2的至少一部分相互重合，并且成膜部分S1露出。

如图4所示，保持夹具11是截面大致为

字状（U字状）的板状部件，具有：底板部11a，其由长度方向的两边描绘着以旋转轴X为中心的同心的圆弧而弯曲的板体构成；内侧立壁部11b，其从底板部11a的径向内侧端部向上方立起；外侧立壁部11c，其从底板部11a的径向外侧端部向上方立起；以及厚壁部11i、11j，其分别设置在底板部11a的周向的两端。

在底板部11a上形成有：用于在保持夹具11上配置第一张基板S的最下层基板配置部11A；以及与最下层基板配置部11A在逆时针方向邻接设置、底面形成为阶梯状的阶梯状部11B。另外，顺时针方向及逆时针方向也可以相反。此时，关于所有的结构，构成为相反的镜像体。

如图4、图5所示，在最下层基板配置部11A及阶梯状部11B与内侧立壁部11b、外侧立壁部11c之间存在一定的间隙，该间隙分别为排气槽11k、11m。

最下层基板配置部11A构成为由厚壁部11j、阶梯状部11B的端部、相比内侧立壁部11b更靠保持夹具11的径向外侧设置的第一壁部11n、相比外侧立壁部11c更靠保持夹具11的径向内侧设置的第二壁部11o围绕的区域。

厚壁部11j设置在以保持夹具11的旋转轴X为中心的顺时针方向的端部，形成为向径向延伸的壁部。在厚壁部11j上，大致向周向延伸的排气槽11jx在径向的内侧和外侧共计设置有2个。排气槽11jx由直到厚壁部11j的周向的两端的凹部构成。

如图7所示，保持夹具11通过具有排气槽11k、11m、11jx，从而在载置了多个基板S的状态下，能够顺利地除去积存在基板S与保持夹具11之间的空气，能够高效地进行成膜作业。

在厚壁部11j上设置有保持夹具11的周向内侧变低的阶差11js。阶差11js以旋转轴X侧接近保持夹具11的顺时针方向的端面的方式，相对与该端面倾斜。阶差11js通过使基板S的端部抵接，从而能够对基板S进行定位。

最下层基板配置部11A是通过阶梯状部11B的端部而被规定。阶梯状部11B的端部是与最下层基板配置部11A邻接设置的阶梯状部11B的第一阶差，形成为高度与基板S的厚度大致相同，阶梯状部11B侧比最下层基板配置部11A的底面高的阶差。

第一壁部11n设置在内侧立壁部11b的略外周侧、即保持夹具11的内侧，从厚壁部11j的旋转轴X侧的端部连续，向大致周向延长设置。第一壁部11n可以设置为，厚壁部11j侧的端部比最下层基板配置部11A的阶梯状部11B侧的端部形成得略高，最初设置在保持夹具11上的第一张基板S以厚壁部11j侧比阶梯状部11B的端部略高的方式倾斜。

第二壁部11o设置在外侧立壁部11c的略内周侧、即保持夹具11的内侧，从厚壁部11j的旋转轴X相反侧的端部连续，向大致周向延长设置。

如图4所示，在第二壁部11o上形成有厚壁部11j变高的阶差部11os，通过使基板S的端部与该阶差部11os抵接，从而形成为能够对基板S进行定位。

第二壁部11o可以设置为，厚壁部11j侧的端部比最下层基板配置部11A的阶梯状部11B侧的端部形成得略高，最初设置在保持夹具11上的第一张基板S以厚壁部11j侧比阶梯状部11B侧的端部略高的方式倾斜。

另外，由最下层基板配置部11A的厚壁部11j、阶梯状部11B的端部、第一壁部11n、第二壁部11o围绕的区域的底面，由与最初设置在保持夹具11上的第一张基板S的下面抵接而支撑的支撑面11g1、及比支撑面11g1形成得低的凹面11g2构成。

支撑面11g1构成为厚壁部11j侧略高的倾斜面。在与支撑面11g1的阶梯状部11B侧的端部接近的位置，在保持夹具11的径向的中央上，形成有用于使设置在保持夹具11上的第一张基板S的成膜部分S1相对于成膜源4露出的开口部11f。

凹面11g2形成在比最初设置在保持夹具11上的第一张基板S的下表面低的位置处，与基板S之间形成有空间。在凹面11g2上，由于进行膜厚等的测量，因此形成有开口的窗部11h。

凹面11g2起到防止最初载置在保持夹具11上的基板S的表面由于与厚壁部11j的摩擦而损伤的作用。因此，能够抑制由损伤基板S引起的成品率的下降，因此能够更高效地形成薄膜。

阶梯状部11B是将设置在保持夹具11上的第二张之后的基板S稍微偏移的同时层压而保持的部分，具有：多个保持面11d，其支撑第二张之后的基板S的成膜部分S1的附近；以及阶差部11e，其设置在保持面11d之间。

保持面11d是在阶梯状部11B的径向的全长上延伸的平面，形成在相邻的一对阶差部11e之间。保持面11d是与支撑面11g1平行的面，以邻接的一对阶差部11e中的与位于高一阶的位置上的保持面11d之间的阶差部11e侧低的方式倾斜。保持面11d从阶梯状部11B的内周侧的端部延伸到外周侧的端部，构成为内周侧比外周侧略窄的俯视时大致呈矩形的形状。保持面11d设置的数量比设置在保持夹具11上的基板S的数量少1。

在保持面11d上形成有俯视时呈正圆的开口部11f，其用于使基板S的成膜部分S1对于成膜源4露出。开口部11f是以处于与内侧立壁部11b及外侧立壁部11c同心的圆弧上的方式并列形成。另外，开口部11f的形状依赖于基板S的成膜部分S1的形状来确定，当然也可以是正圆以外的形状。

如上所述，通过在保持夹具11的保持面11d上形成有开口部11f，从而保持夹具11能够起到掩膜的作用。因此，不需要另外设置保持夹具11以外的覆盖基板S的部件。另外，由于能够适当变更开口部11f的形状，因此能够细致地控制成膜部分的形状、大小。

阶差部11e与设置在保持夹具11上的第二张以后的基板S的各个逆时针方向的端部抵接而进行定位，形成在相邻的一对保持面11d之间。阶差部11e由顺时针方向低的阶差构成。阶差部11e以俯视时呈直线状的方式从阶梯状部11B的内周侧的端部延伸到外周侧的端部。

保持夹具11通过交替连续地具备保持面11d和阶差部11e，从而能够使形成在保持面11d上的开口部11f与成膜源4之间的距离均匀，其中，保持面11d是以相对于水平面一端侧比另一端侧高的方式稍微倾斜，而阶差部11e形成为从该保持面11d的高的部分下降一级，因此能够以相同的条件对多个基板S进行成膜，能够以均匀的膜厚来进行成膜。

如图5所示，阶差部11e相对于径向R-R有角度地倾斜。

阶差部11e的高度，形成得比基板S的厚度高0.05mm以上。更详细地说，阶差部11e形成为比基板S的厚度高0.05mm以上0.1mm以下的范围。

如上所述，阶差部11e形成得比基板S的厚度略高，从而能够使基板S的端部容易抵接到阶差部11e。进而，在使基板S保持在保持面11d上时，由于根据阶差部11e的高度而重合的基板S会彼此略隔着间隙来重叠，因此基板S的表面很难相互接触，能够抑制由于摩擦而损伤基板S的表面。

由于当阶差部11e的高度与基板S的厚度之间的差比0.05mm小时基板S彼此容易接触，因此是不利的。另外，当阶差部11e的高度与基板S的厚度之间的差比0.1mm大时，由于很难对多个基板S形成均匀的薄膜，因此是不利的。

如图7所示，在保持夹具的周向两端的径向两端的共计4处，分别形成有用于在图1的固定用板材51a上安装保持夹具11的安装孔11p、11q。

成膜源4由一般的蒸镀装置构成，通过设置有多个圆筒形的炉床衬套，这些炉床衬套配置在圆盘状炉床的同心圆状的凹槽上而形成成膜源4。成膜源4配置在真空容器1的内部下侧，向基板S放出薄膜材料。在图1中，为了方便，仅将一个炉床衬套作为成膜源4来图示。

成膜源4不限定于通过电子枪而蒸发的装置，例如也可以是通过电阻加热而使薄膜材料蒸发的装置。另外，能够根据形成在基板S上的薄膜的种类和数量，来适当变更成膜源4的数量和配置。

另外，例如在通过离子辅助法来进行蒸镀时，也可以具有向基板S照射正离子的离子源、向带正电的基板S和基板保持机构3照射电子束而进行电荷中和的中和器等。

在成膜中，由于成膜源4的温度非常高，因此为了抑制基板S被加热而变形，还可以在基板保持机构3的附近具备公知的基板冷却单元。该基板冷却单元在基板S为树脂制时特别有效。

另外，本实施方式的薄膜形成装置100，虽然是通过真空蒸镀法来进行薄膜形成的装置，但是也可以在溅射装置上应用本发明。

<基板的结构>

如图2所示，基板S由4个角为圆角的俯视时呈长方形的平板构成，在下表面具有形成有薄膜的成膜部分S1、和没有形成有薄膜的非成膜部分S2。

成膜部分S1是在基板S的两个对置的短边中的、一方的短边附近且从一方的短边向内侧分开一些而形成在与基板S的长方向垂直的方向的中心。在本实施方式中，虽然示出了成膜部分S1为正圆状的例子，但是也可以是其他的形状。

基板S是厚度为0.3～0.5mm左右的玻璃制的板材，出于装饰等目的，也可以预先通过印刷等方法在表面形成薄膜。另外，本说明书中的“成膜部分S1”，不是指预先形成有薄膜的部分，而是指在薄膜形成装置100中形成薄膜的特定的区域。

另外，在本实施方式中虽然使用了形状为矩形的平板状的基板S，但是并不限定于此，当然可以进行各种改变。

<基板的设置>

在保持夹具11上设置有与阶差部11e相同数量的基板S。

如图6所示，第一张基板S以如下所述的方式配置：一个短边与阶差11js抵接，另一短边与最靠顺时针方向侧的阶差部11e抵接，一个长边的中央与内侧立壁部11b的保持夹具11的径向内侧的面抵接，另一个长边的两端部与外侧立壁部11c的保持夹具11的径向外侧的面抵接。此时，基板S是以阶差部11e侧的端部比阶差11js侧的端部低的方式倾斜。

如图7所示，第二张之后的基板S依次以一部分与前一张设置的基板S重叠的状态设置。

第二张之后的基板S是以如下所述的方式配置：一个短边在前一张设置的基板S之上配置在向逆时针方向偏移了相邻的阶差部11e之间的距离量的位置上，另一短边与阶差部11e抵接，一个长边的中央与内侧立壁部11b的保持夹具11的径向内侧的面抵接，另一个长边的两端部与外侧立壁部11c的保持夹具11的径向外侧的面抵接。

在最后设置的基板S中，短边中的位于逆时针方向一方的边与厚壁部11i抵接。

如上所述，由于基板S的端部与阶差部11e、内侧立壁部11b、外侧立壁部11c、阶差11js、厚壁部11i抵接而保持，因此基板S容易且稳定地固定在保持夹具11上，其保持位置不会偏移。

如图8、图9所示，这样设置的基板S以阶差部11e侧的端部比另一方的端部低的方式倾斜。

在所设置的多个基板S中，与之前设置的基板S不重叠的部分的下面与保持面11d抵接，基板S的下面从设置在保持面11d上的开口部11f露出到保持夹具11下方。该露出的部分作为成膜部分S1而被实施成膜源4的成膜处理。

在一个保持面11d上保持有一张基板S。通过对保持夹具11依次重叠基板S，从而多个基板S以其一部分相互重叠、除此以外的部分错开的状态来保持。

保持面11d的面积形成得比基板S的面积小，保持夹具11以邻接的基板S的非成膜部分S2相互重叠的方式保持基板S。

在邻接的基板S中，位于相同方向的短边不相互平行，具有0°以上90°以下的角度。由于保持夹具11构成为以圆弧状弯曲，因此能够使更多的基板S保持在基板保持部件10上。

矩形的基板S是以如下的关系来保持在保持夹具11上。在图7中，保持夹具11是以如下所述的方式来形成：在使矩形的基板S的长边中的径向内侧的长边的长度为L，使从该长边的中心点到保持夹具11所描绘出的圆弧的中心点即旋转轴X的距离为r时，长度L的一半长度相对于距离r、即（L/2）/r（后述的θ1中的tanθ1的值）为0.05以上、0.75以下。

换言之，如图7所示，穿过基板S的径向内侧的长边的中心点和旋转轴X的直线，与穿过基板S的顶点中配置在径向内侧的顶点和旋转轴X的直线所成的角度为θ1时，θ1为2.9°以上36.9°以下。另外，角度θ1表示穿过径向内侧的长边的中心点和旋转轴X的直线、与穿过基板S的顶点中配置在径向内侧的顶点和旋转轴X的直线所成的锐角。

不仅是构成基板保持部件10的保持夹具11～15，构成直径分别不同的基板保持部件20、30、40的所有的保持夹具，以满足该关系的方式形成。从而，基板保持部件10、20、30、40能够保持多个基板S。通过使tanθ1及θ1的值满足上述关系，能够成批地对大量的基板S进行处理，能够极高效地进行薄膜形成作业。

保持夹具11～15及构成基板保持部件20、30、40的各保持夹具，通过用螺栓51螺栓紧固在安装于支撑部件50的固定用板材51a上，从而如图1、图3所示设置。

此时，基板保持部件10、20、30、40形成为环状，以其中心位于旋转部件60的旋转轴X上的方式，被支撑部件50支撑。并且，基板保持部件10、20、30、40是以如下所述的方式支撑在支撑部件50上：从最内侧的基板保持部件40向外侧，按照基板保持部件30、20、10的顺序依次变低。

具有分别不同的直径的基板保持部件10、20、30、40，是以其一部分在上下方向上相互重叠的方式，阶梯状地配置。更详细地说，基板保持部件10、20、30的内侧端部，与分别配置在基板保持部件10、20、30的内侧一级的基板保持部件20、30、40的外侧端部相比，配置在径向内侧。

另外，在本实施方式中，虽然举例示出了作为基板保持部件10、20、30、40在径向上具有4个基板保持部件的结构，但是当然也可以是除此以外的数量。如上所述，通过使在径向上相邻的基板保持部件的数量为多个，从而可以增加进行成膜的基板S的数量，能够高效地进行成膜作业。

<基板保持部件的位置关系>

参照图10对基板保持部件10、20、30、40的相互的位置关系进行说明。图10是示出固定有基板保持部件10、20、30、40的支撑部件50与成膜源4的位置关系的说明图。

基板保持部件10、20、30、40形成为：基板保持机构3形成为拱顶状，越是配置在下方的基板保持部件，其直径越大。露出基板S的成膜部分S1的开口部11f、21f、31f、41f位于以旋转部件60的旋转轴X作为轴的假想拱顶表面上，能够在基板S上形成厚度均匀的薄膜。

另外，在图10中，虽然示出了载置开口部11f、21f、31f、41f的假想拱顶为圆台形状的例子，但是也可以是在规定曲率的半球状的拱顶的表面上配置有开口部11f、21f、31f、41f。

另外，基板保持部件10、20、30、40的保持面（11d等）并不限定于水平的状态，也可以构成为保持面（11d等）与旋转轴X所成的角度可变。另外，在图10中，虽然图示了仅基板保持部件10的保持面11d与旋转轴X之间的角度可变的结构，但是基板保持部件20、30、40也可以同样改变该角度。

此时，优选穿过基板S的成膜部分S1的中心点及成膜源4的炉床衬套的端部的第一假想线V1，与成膜部分S1的中心点的垂线P所成的角度θ2为0°以上45°以下的锐角。另外，在图10中，为了简化，仅图示了在基板保持部件10上具备的多个基板S中的以面对开口部11f的方式载置的基板S。

当θ2比45°大时，由于薄膜材料对于成膜部分S1倾斜地入射，因此所形成的薄膜的密度降低，薄膜的折射率下降。其结果，在基板S上形成的薄膜中将很难得到期望的分光特性。

通过使角度θ2为0°以上45°以下，从而能够容易控制形成在基板S上的薄膜的厚度，能够在多个基板上形成膜厚更均匀的薄膜。

另外，在图10中，虽然图示了仅在基板保持部件10中，以相对于水平面倾斜地状态来配置保持面11d的结构，但是其他的基板保持部件20、30、40当然也可以处于同样倾斜的状态。

在径向内侧配置的基板保持部件20、30、40的开口部21f、31f、41f，至少比在径向外侧相邻配置的基板保持部件10、20、30的径向内侧的端部配置得更靠内侧。

并且，在径向上彼此相邻配置的基板保持部件20、30、40与基板保持部件10、20、30配置在如下所述的位置：对于成膜源4而言，形成于内侧的基板保持部件20、30、40上的开口部21f、31f、41f不会被外侧的基板保持部件10、20、30的径向内侧端部挡住而露出。通过该结构，能够使形成在基板S上的薄膜的膜厚恒定。

更详细地说，在径向上彼此相邻配置的基板保持部件20、30、40与基板保持部件10、20、30在侧视时配置在如下所述的位置：相对于穿过形成于内侧的基板保持部件20、30、40上的开口部21f、31f、41f的外周端部和成膜源4的第二假想线V2，外侧的基板保持部件10、20、30的径向内侧端部在侧视时分开20mm以上。另外，在图10中，V2、V3仅针对基板保持部件20、30而图示。

即、在图10中，在设穿过径向上相邻配置的基板保持部件20、30、40与基板保持部件10、20、30中的在径向内侧配置的基板保持部件20、30、40的开口部21f、31f、41f的位于基板保持部件20、30、40的径向外侧的端部及成膜源4的炉床衬套的径向的外侧端部的直线为假想线V2，设与假想线V2平行、且穿过配置在基板保持部件20、30、40外侧的基板保持部件10、20、30的内侧立壁部11b等的上端部的直线为假想线V3时，假想线V2与假想线V3之间的距离I为20mm以上即可。

在直径不同的基板保持部件10、20、30、40以同心圆状配置的基板保持机构3中，形成在基板S上的薄膜的厚度，容易受到彼此相邻配置的基板保持部件10、20、30、40的影响，但是由于具有如上所述的结构，因此所形成的薄膜的厚度很难受到外侧的基板保持部件10、20、30的影响，能够使膜厚更均匀。

将基板S载置到保持夹具11上的步骤如下。

首先，第一张基板S以如下方式载置：覆盖凹面11g2、一个短边与厚壁部11j的阶差11js抵接，另一短边与最接近厚壁部11j的阶差部11e抵接。

接着，将第二张基板S重叠在第一张基板S之上，在抵接有第一张基板S的阶差部11e的旁边，使位于逆时针方向的短边的端部抵接在位于逆时针方向的阶差部11e上。此时，第二张基板S的成膜部分S1不与第一张基板S重叠、且第二张基板S的非成膜部分S2与第一张基板S重叠。

在以如上所述的步骤，在保持夹具11上依次载置了多个基板S而成为图7～图9的状态之后，通过螺栓51将保持夹具11固定在固定用板材51a上。由此，完成保持夹具11在支撑部件50上的安装。以相同的步骤，进行保持夹具12～15和基板保持部件20、30、40在支撑部件50上的安装。由此，成为在图3的基板保持机构3的各基板保持部件10、20、30、40上载置了基板S的状态。

之后，将载置有基板S的基板保持机构3导入到真空容器1内，进行薄膜形成。

如上所述，由于保持夹具11能够对于成膜源4仅露出成膜部分S1来保持，因此能够成批地、大量地生产具有成膜部分S1及非成膜部分S2的基板S。因此，能够缩短成膜作业所需的时间，能够减少成膜作业中的费用。

（实施例1及比较例1、2）

通过上述结构的基板保持机构3来保持基板S，通过使折射率不同的薄膜层叠来制作反射防止膜（AR膜），对距离I的效果进行了评价。

另外，构成反射防止膜的各层的成膜条件如下，在实施例1及比较例1、2中相同。

基板：玻璃基板

高折射率电介质材料：TiO₂

低折射率电介质材料：SiO₂

TiO₂的成膜速度：0.2nm/sec

SiO₂的成膜速度：0.3nm/sec

TiO₂/SiO₂蒸发时的离子源条件

导入气体：氧气50sccm

离子加速电压：1000V

离子电流：500mA

中和器的条件

中和器电流：1000mA

在根据上述成膜条件来形成反射防止膜，使假想线V2与假想线V3之间的距离I为20mm时（图11：实施例1）、5mm时（图12：比较例1）以及10mm时（图13：比较例2），分别在有邻接的基板保持部件的情况、和没有的情况下，比较了已成膜的反射防止膜的反射率。

（实施例1）

在使距离I为20mm时（图11），示出有邻接的基板保持部件的情况与没有邻接的基板保持部件的情况相比，在所形成的反射防止膜的反射率上不存在很大的差异。另外，在图11中，用实线表示的“有邻接的基板保持部件的情况”，是表示在径向上相邻的基板保持部件中，一方的基板保持部件相对于另一方的基板保持部件以距离I为5mm的方式配置的状态。

反射防止膜的反射防止效果、即反射率，存在依赖于反射防止膜的厚度的倾向。因此，通过图11表示出，在以距离I为20mm的方式配置有基板保持部件时，所形成的薄膜不会受到邻接的基板保持部件的影响，而能够形成膜厚均匀的薄膜。

（比较例1）

在使距离I为5mm时（图12），示出有邻接的基板保持部件的情况与没有邻接的基板保持部件的情况相比，在所形成的反射防止膜的反射率上存在很大的差异。另外，在图12中，用实线表示的“有邻接的基板保持部件的情况”是表示，在径向上相邻基板保持部件中，一方的基板保持部件相对于另一方的基板保持部件以距离I为5mm的方式配置的状态。

反射防止膜的反射防止效果、即反射率，存在依赖于反射防止膜的膜厚的倾向。因此，通过图12表示出，在以距离I为5mm的方式配置有基板保持部件时，所形成的薄膜受到邻接的基板保持部件的影响。

（比较例2）

另外，在图13所示的本发明的比较例2中，使距离I为10mm。在本比较例2中表示出，对有在距离I为10mm的状态下邻接的基板保持部件的情况、和没有邻接的基板保持部件的情况进行比较，在所形成的反射防止膜的反射率上也存在若干差异。另外，“有邻接的基板保持部件的情况”是表示，在径向上相邻的基板保持部件中，一方的基板保持部件相对于另一方的基板保持部件以距离I为10mm的方式配置的状态。

在图13中也表示出，在以距离I为10mm的方式配置有基板保持部件时，所形成的薄膜受到邻接的基板保持部件的影响。

因此，表示出，接近的基板保持部件10、20、30、40至少会对距离I在5mm以上10mm以下的范围内成膜的薄膜的膜厚产生影响。并且，进而还表示出距离I越大，接近的基板保持部件10、20、30、40对所成膜的薄膜产生的影响越小。因此，在距离I比10mm还大时，可以预想到对薄膜施加的影响会减小。

并且，通过实施例1，示出当距离I为20mm时，接近的基板保持部件10、20、30、40几乎不对所成膜的薄膜的膜厚产生影响。

因此，关于距离I，通过相邻的基板保持部件的径向的端部配置在分开20mm以上的位置上，从而能够使形成在基板S上的薄膜的反射率及膜厚均匀。

<其他实施方式>

接着，对其他实施方式的基板保持机构进行说明。

本实施方式的基板保持机构具有：如图1至图10所示的旋转部件60及支撑部件50；以及基板保持部件。由于旋转部件60及支撑部件50与图1至图10的实施方式相同，因此省略说明。

基板保持部件代替基板保持部件10、20、30、40来使用，将固定在支撑部件50的最外侧的基板保持部件10’示于图14。

基板保持部件10’在俯视时由大致扇形的大致板体构成，构成为能够将保持夹具11’～13’固定在板体上。

基板保持部件10’构成为，安装有保持部件11’的部分中的至少形成有开口部11f’的部分开口，以露出基板S的成膜部分S1的方式开口。基板保持部件10’具有用于螺栓紧固在未图示的固定用板材上的螺栓孔10h’，该固定用板材安装于支撑部件50上。

如图15所示，保持夹具11’在俯视时大致呈长方形，由截面大致为コ字状（U字状）的板体构成。在保持夹具11’的一对长边的端部上设置有框部11r’，该框部11r’形成有比内侧略厚的壁，通过与基板S的一对长边的端部抵接，从而抑制基板S向短边方向从保持夹具11’脱落。

保持夹具11’具有：保持基板S的多个保持面11d’；形成在多个保持面11d’之间分别与基板S的短边的端部抵接的多个阶差部11e’；以及在处于基板S的端部与阶差部11e’抵接而保持的状态时，形成在与保持面11d’的成膜部分S1相当的部分上的开口部11f’。

保持夹具11’具有用于保持基板S的多个保持面11d’。并且，在邻接的保持面11d’之间分别形成有阶差部11e’。

多个保持面11d’及多个阶差部11e’在剖视时形成为阶梯状，对于一个保持面11d’保持一张基板S。因此，通过对该保持夹具11’依次重叠基板S，从而多个基板S以其一部分相互重叠、其他部分错开的方式保持。

阶差部11e’相互平行，通过基板S的短边的端部与该阶差部11e’抵接，从而将多个基板S保持为直线状。

因此，由于基板S的端部分别与阶差部11e’及框部11r’抵接而保持，因此基板S容易且稳定地固定在保持夹具11’上，其保持位置不会偏移。

阶差部11e’的高度形成为比基板S的厚度略高即可。通过该结构，即使处于多个基板S重叠的状态，也能够抑制基板S的表面损伤。

在保持面11d’上形成有开口部11f’，其使基板S的成膜部分S1对成膜源4露出。开口部11f’是在多个保持面11d’上一体形成的长孔。但是，开口部11f’也可以不是长孔状，而是对于每个保持面11d’分别单独分离形成。

在保持夹具11’的长度方向的一端侧且在组装基板保持部件10’时成为旋转轴X侧的位置上，具有基板S安装侧的面形成为平面状的平面部11s’。平面部11s’支撑最初配置在保持夹具11’上的基板S的非成膜部分S2。

由于保持夹具12’、13’具有与保持夹具11’相同的结构，因此省略说明。

在本实施方式中，多个保持夹具11’、12’、13’以如下所述的方式配置：能够在基板保持部件10’上覆盖尽可能宽的面积、且开口部11f’不互相重叠。

使用与支撑部件50相同数量的固定有保持夹具11’～13’的基板保持部件10’。与支撑部件50相同数量的基板保持部件10’，在螺栓孔10h’中螺栓紧固在未图示的固定用板材上，从而架设在图1至图10所示的支撑部件50之间而被固定，作为整体以拱顶状支撑。

在本实施方式中，由于设置有5个支撑部件50，因此设置有5个基板保持部件10’，但是也可以是除此以外的数量。

将基板S载置在保持夹具11’上的步骤如下。

首先，将最初的基板S的一个短边的端部与形成在最接近平面部11s’的位置上的阶差部11e’抵接，来将最初的基板S载置在平面部11s’上。

接着，将第二张基板S重叠在第一张基板S之上，使第二张基板S的一个短边的端部抵接在第一张基板S所抵接的阶差部11e’旁边的阶差部11e’上。此时，以第二张基板S的成膜部分S1不与第一张基板S重叠、第二张基板S的非成膜部分S2与另一方的基板S重叠的方式载置。

在以同样的步骤将第三张之后的多个基板S依次载置到保持夹具11’上之后，用未图示的螺栓将保持夹具11’通过螺栓孔10h’固定在未图示的固定用板材上。由此，完成第一个保持夹具11’在支撑部件50上的安装。以相同的步骤，将剩下的4个保持夹具11’安装在支撑部件50上。由此，5个保持夹具11’被安装到5个支撑部件50之间，作为整体成为伞状的形状。

之后，将载置有基板S的基板保持机构3导入到真空容器1内，进行薄膜形成。

Claims (10)

1.一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置具有保持多个基板的基板保持机构，在所述多个基板上形成薄膜，该薄膜形成装置的特征在于，

所述基板保持机构具有：

基板保持部件，其保持所述多个基板；

支撑部件，其支撑该基板保持部件；以及

旋转部件，其使该支撑部件旋转，

所述基板保持部件具有：

多个保持面，其保持所述多个基板，配置在放出所述薄膜的材料的成膜源与所述多个基板之间；

多个阶差部，其形成在该多个保持面之间；以及

多个开口部，其分别形成在所述多个保持面上，

所述基板保持部件构成为在所述旋转部件的旋转方向上被分割的保持夹具的集合体，

所述支撑部件以能够改变所述基板保持部件的所述多个保持面与所述旋转部件的旋转轴所成的角度的方式，保持所述基板保持部件，

能够以如下方式搭载多个所述基板：所述多个基板中的不形成所述薄膜的非成膜部分的一部分与其他基板相互重合，并且要形成所述薄膜的成膜部分露出，在所述多个基板的端部分别与所述阶差部抵接的状态下，所述成膜部分通过所述开口部而露出到所述成膜源侧。

2.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述基板保持部件在所述旋转部件的旋转方向上被分割为2个以上12个以下。

3.根据权利要求1或2所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述基板保持部件形成为俯视时呈环状，在所述基板保持部件的径向上，相邻配置多个所述基板保持部件。

4.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述基板保持部件以穿过所述成膜部分和所述成膜源的第一假想线与所述成膜部分的成膜面的垂线所成的角度成为0°以上45°以下的方式，保持所述多个基板。

5.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述支撑部件以形成在所述多个保持面上的所述多个开口部位于以所述旋转部件的旋转轴为中心轴的假想拱顶上的方式，支撑所述基板保持部件。

6.根据权利要求3所述的薄膜形成装置，其特征在于，

在所述径向上彼此相邻配置的所述基板保持部件配置在如下所述的位置上：对于所述成膜源而言，形成在一方的所述基板保持部件上的所述开口部不会被另一方的所述基板保持部件挡住。

7.根据权利要求3所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述支撑部件支撑所述基板保持部件，该基板保持部件形成为在旋转方向及径向中的至少一个方向上配置多个，

在所述径向上彼此相邻配置的所述基板保持部件配置在如下所述的位置：穿过形成在一方的所述基板保持部件的所述保持面上的所述开口部的外周与所述成膜源的第二假想线，与另一方的所述基板保持部件的所述径向的端部分开20mm以上。

8.根据权利要求3所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述多个阶差部沿着相对于所述径向倾斜的方向形成，

所述多个基板由矩形的板材构成，在设所述多个基板的所述径向内侧的边缘的长度分别为L，从所述多个基板各自的径向内侧的边缘的中心点到所述旋转部件的旋转轴的距离为r时，

所述基板保持部件以（L/2）/r的值为0.05以上0.75以下的方式，保持所述多个基板。

9.根据权利要求8所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述基板保持部件以重合保持的所述多个基板中的一方的所述基板的边缘与另一方的所述基板的边缘所成的角度为0°以上90°以下的方式，保持所述多个基板。

10.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述多个阶差部的高度形成为比所述多个基板的厚度高0.05mm以上0.1mm以下。

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