KR20110090948A - 회전식 스퍼터 타겟 배킹 실린더, 회전식 스퍼터 타겟, 회전식 스퍼터 타겟 제조 방법 및 코팅 설비 - Google Patents

Abstract

스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치를 개시하며, 상기 회전식 타겟 장치는: 중실형 타겟 실린더(5)를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스(4)를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면(54), 외부 축방향 면(55) 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면(56)을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소(23; 230), 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면(3) 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면(250; 81)을 포함한다.

Description

회전식 스퍼터 타겟 배킹 실린더, 회전식 스퍼터 타겟, 회전식 스퍼터 타겟 제조 방법 및 코팅 설비{ROTATABLE SPUTTER TARGET BACKING CYLINDER, ROTATABLE SPUTTER TARGET, METHOD OF PRODUCING A ROTATABLE SPUTTER TARGET, AND COATING INSTALLATION}

본 발명의 실시예는 일반적으로 스퍼터링 설비에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명의 실시예는 회전가능한 타겟 장치, 회전식 타겟 베이스(base) 장치, 회전식 타겟, 코팅 설비 및 회전식 타겟 제조 방법에 관한 것이다.

기판상에 재료를 박막 증착하는 것은 많은 방법으로 이루어질 수 있는데, 예를 들면 진공 챔버 내에서 코팅 재료를 증발시키거나 스퍼터링함으로써 이루어질 수 있다. 스퍼터링에 의한 박막 증착의 통상적인 예시는 반도체 소자 제조시 또는 태양전지 웨이퍼 제조시의 스퍼터 증착 적용예이다.

스퍼터링 캐소드(sputtering cathode)를 작동시킬 때, 플라즈마가 형성되며, 플라즈마의 이온들은 기판상에 증착될 코팅 재료의 타겟 상에 가속된다. 이러한 타겟의 충격은 코팅 재료의 원자들의 방출을 초래하며, 이는 스퍼터링 캐소드 아래의 기판상에 증착된 필름으로서 축적된다. 증가된 증착률을 얻기 위해, 자기적으로 강화된 캐소드의 사용이 제안되었으며, 이는 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)으로 지칭될 수도 있다.

통상의 자기적으로 강화된 스퍼터링 캐소드는 편평한 타겟 플레이트 및 이 타겟 플레이트에 대해 고정된 위치에 장착된 마그넷들의 배열을 포함할 수 있다. 마그넷에 의해 제공된 자기장은 경로(들) 또는 영역을 형성하며, 이 경로(들) 또는 영역을 따라 타겟 플레이트 재료의 스퍼터링이 발생한다.

다른 통상의 자기적으로 강화된 스퍼터링 캐소드는 그 외면에 도포된(applied) 타겟 재료의 층을 갖는 원통형 회전식 튜브, 예를 들면 배킹 튜브를 포함한다. 마그넷 배열을 포함할 수 있는 자기 수단(magnetic means)이 튜브 내에 배치되며 자기장을 제공한다. 이 튜브는 그 종축을 중심으로 회전 가능하여서, 자기 수단에 대해 회전될 수 있으며, 그에 따라 그 외면상의 타겟 재료의 상이한 부분(portions) 또는 세그먼트(segments)를 자기장 내의 및 마그넷에 대향하는 위치로 선택적으로 오게 한다.

회전식 마그네트론 스퍼터링 캐소드의 제조시, 타겟 재료는 예를 들면 배킹 튜브의 외면상에 분무함으로써 도포될 수 있다. 또한, 통상의 스퍼터링 타겟의 타겟 재료는, 예를 들면 일주일 이내에 빠르게 고갈되거나 소모될 수 있다.

전술된 바에 비추어, 청구항 1에 따른 회전식 타겟 장치, 청구항 3에 따른 회전식 타겟 베이스 장치, 청구항 10에 따른 회전식 타겟, 청구항 13에 따른 코팅 설비 및 청구항 14에 따른 회전식 타겟 제조 방법이 제공된다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치는: 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함한다.

다른 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는: 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적이다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟은 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치를 포함하며, 회전식 타겟 장치는: 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함한다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟이 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는: 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 실질적으로 평행하게 가변적이며; 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 배치된 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 갖고, 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 상기 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 실질적으로 평행하게 가변적인 타겟 조정 간격을 제공한다.

일 실시예에서, 코팅 설비는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치를 포함하며, 상기 회전식 타겟 장치는: 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더가 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스가 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함한다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적이다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법은 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함하는, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치를 제공하는 단계; 중실형 타겟 실린더를 제공하는 단계;를 포함하고, 상기 방법은 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단에 인접하는 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 상기 중실형 타겟 실린더를 배치하는 단계; 상기 타겟 베이스 실린더의 제1 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계, 및 상기 타겟 베이스 실린더의 제2 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계로부터 선택된 하나 이상의 단계를 포함한다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법은: 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계로서, 상기 타겟 베이스 장치는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며; 상기 회전식 타겟 베이스 장치는: 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적인, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계; 중실형 타겟 실린더를 제공하는 단계;를 포함하고, 상기 방법은 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단에 인접하는 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 상기 중실형 타겟 실린더를 배치하는 단계; 상기 타겟 베이스 실린더의 제1 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계, 및 상기 타겟 베이스 실린더의 제2 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계로부터 선택된 하나 이상의 단계를 포함한다.

추가의 특징 및 세부 사항은 종속 청구항, 상세한 설명 및 도면으로부터 명확하다.

실시예들은 또한 개시된 방법을 실시하고 기재된 방법 단계들을 실행하기 위한 장치 부분들을 포함하는 장치에 관한 것이다. 또한, 실시예들은 기재된 장치의 작동 방법 또는 기재된 장치의 제조 방법에 관한 것이다. 이는 장치의 기능들을 실시하거나 이 장치의 부품들을 제조하는 방법 단계들을 포함할 수 있다. 이 방법 단계들은 하드웨어 구성요소, 펌웨어(firmware), 소프트웨어, 적합한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터에 의해, 이들의 임의의 조합에 의해 또는 임의의 다른 방식으로 실행될 수 있다.

전술된 실시예들의 특징이 상세히 이해될 수 있도록, 상기에 간략히 요약된 실시예에 대한 보다 구체적인 설명이 실시예의 예시들을 참조로 이루어질 수 있다. 첨부 도면은 실시예에 관한 것이며 하기에서 설명된다. 전술된 실시예들 중 일부는 하기의 도면을 참조로 통상의 실시예에 대한 하기의 상세한 설명에서 보다 상세히 설명될 것이다.

도 1은 본 명세서에 개시된 실시예의 일례에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 회전식 타겟의 횡단면도를 개략적으로 도시하고;
도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시된 예시의 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 베이스 실린더 및 타겟 고정 수단을 각각 개략적으로 도시하며;
도 3a는 본 명세서에 개시된 실시예의 일례에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 회전식 타겟의 횡단면도를 개략적으로 도시하며;
도 3b는 도 1, 2a 및 3a에 도시된 예시들의 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 조정 수단을 개략적으로 도시하며;
도 4는 도 1에 도시된 예시의 유지 수단의 횡단면도를 개략적으로 도시하며;
도 5는 본 명세서에 기재된 실시예의 추가 예시에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 회전식 타겟의 횡단면도를 개략적으로 도시하며;
도 6은 본 명세서에 기재된 실시예의 추가 예시에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 회전식 타겟의 횡단면도를 개략적으로 도시하며;
도 7은 본 명세서에 개시된 실시예의 추가 예시에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 회전식 타겟의 횡단면도를 개략적으로 도시한다.

이제 다양한 실시예에 대해 보다 상세한 참조가 이루어질 것이며, 이 중 하나 이상의 예시가 도면에 도시된다. 각각의 예시는 설명으로서 제공되며, 본 명세서에 대한 제한으로서 의도되지 않는다. 일 실시예의 요소들은 추가 설명 없이 다른 실시예에서 유리하게 활용될 수 있다.

범주를 제한하지 않고, 하기에서 회전식 타겟 장치, 회전식 타겟 베이스 장치, 회전식 타겟, 회전식 타겟 제조 방법, 및 코팅 설비의 실시예 및 예시가 스퍼터링 적용예에 관하여 설명된다. 통상적으로, 회전식 타겟 장치 및/또는 회전식 타겟 베이스 장치는 진공 양립성(vacuum-compatible) 재료를 포함하며, 코팅 설비는 진공 코팅 설비이다. 본 명세서에 기재된 통상의 실시예에 대한 적용예는, 예를 들면 LCD, TFT 디스플레이 및 OLED(유기 발광 다이오드)와 같은 디스플레이의 제조, 태양전지 웨이퍼 제조 및 반도체 소자 제조에서의 스퍼터 증착 적용예이다.

도면에 대한 하기의 설명 내에서, 동일한 참조 부호는 동일한 구성요소를 지시한다. 일반적으로, 개별적인 실시예에 대한 차이점만이 기재된다.

범주를 제한하지 않고, 하기에서 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 베이스 실린더는, 예를 들면 회전식 타겟 베이스, 배킹 실린더(backing cyliner), 또는 배킹 튜브(backing tube)로 지칭될 것이다. 회전식 타겟은, 예를 들면 회전식 타겟 베이스 및 중실형 타겟 실린더를 포함할 것이다.

제1 실시예에 따르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치는 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함한다. 실시예에서, 가요성 요소는 제1 면 상에 및/또는 중실형 타겟 실린더에 인접하여 지지될 수 있다. 일부 실시예에서, 가요성 요소는 중실형 타겟 실린더와 일렬로(in a row), 중실형 타겟 실린더와 정렬된 열로 및/또는 중실형 타겟 실린더와 축방향으로 정렬되어 지지될 수 있다.

본 명세서에 기재된 임의의 실시예와 결합될 수 있는 일부 실시예에서, 가요성 부재는 중실형 타겟 실린더의 정면과 직접 접촉되도록 구성되며/구성되거나 중실형 타겟 실린더의 정면과 직접 접촉되도록 구성되는 중실형 요소를 포함한다.

제2 실시예에 따르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적이다. 제1 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 가질 수 있다. 타겟 고정 수단은 유지 수단 및 타겟 조정 수단으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하고, 상기 타겟 조정 수단은 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성되고/구성되거나 상기 타겟 조정 간격 내에 제공되도록 구성된다. 상기 타겟 베이스 실린더는 관상(tubular)이며, 상기 타겟 고정 수단은 상기 축에 대해 실질적으로 평행하게 가변적인 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성될 수 있다.

전술된 제1 실시예에서, 상기 회전식 타겟 베이스는 본 명세서에 기재된 임의의 실시예의 타겟 베이스 실린더일 수 있으며/있거나 상기 제1 면은 본 명세서에 기재된 임의의 실시예의 측면일 수 있다. 또한, 제1 실시예에서, 상기 제2 면은: 본 명세서에 기재된 요소에 따른 타겟 베이스 실린더, 본 명세서에 기재된 제 2의 및 임의의 다른 실시예의 유지 수단, 및 본 명세서에 기재된 실시예에 따른 유지 수단의 요소들 중 하나로부터 선택된 하나 이상의 요소에 포함될 수 있다. 상기 가요성 요소는 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나 이상이거나 이에 포함될 수 있거나, 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 타겟 조정 수단이거나 이에 포함될 수 있다. 또한, 중실형 요소는: 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 유지 수단, 압축 수단, 및 플랜지 베어링의 일부로부터 선택된 하나 이상의 요소일 수 있다.

타겟 베이스 장치는 예를 들면 상기 타겟 베이스 실린더 상에 중실형 타겟 실린더를 동심으로 배치하도록 의도된다. 또한, 중실형 타겟 실린더는 중공형 실린더일 수 있다. 타겟 베이스 실린더 상에 중실형 타겟 실린더를 배치함으로써, 통상적으로 회전식 타겟이 발생한다. 회전식 타겟 베이스 장치는 스퍼터링 설비 내의 회전식 타겟의 실질적으로 수평한 장착을 위한 것일 수 있다. 회전식 타겟 베이스 장치는 회전식 타겟의 실질적으로 수직한 장착을 위한 것일 수도 있다. 통상적으로, 타겟 베이스 실린더의 측면은 실린더 배럴 또는 실린더의 맨틀(mantle)로 이해될 수 있다.

가요성 요소 및/또는 타겟 조정 간격으로 인해, 본 명세서에 기재된 실시예는, 타겟 실린더가 회전식 타겟 장치 또는 회전식 타겟 베이스 장치 각각 상에 배치될 때, 축방향으로 중실형 타겟 실린더의 열 팽창을 허용한다. 그러므로 중실형 타겟 실린더의 열 팽창시, 중실형 타겟 실린더의 재료가 실리콘을 포함하거나 고순도의 실리콘으로 형성될지라도, 중실형 타겟 실린더의 손상 또는 균열이 발생하지 않는다.

본 명세서에 개시된 실시예는, 배킹 실린더(backing cyliner)의 하나 이상의 단부로부터의 접근이 가능하기 때문에, 배킹 실린더 상에 중실형 타겟 실린더일 수 있는 타겟을 제공하게 할 수 있다. 이는 예를 들면, 일부 실시예의 배킹 실린더의 구조로 인한 것이며, 배킹 실린더의 하나 이상의 단부 영역은 배킹 실린더의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖는다. 그러므로 배킹 실린더의 중간부의 외경과 대응하거나(matching) 그보다 더 큰 내경을 갖는 원통형 또는 관상 중실형 타겟은 용이하게 배킹 실린더 상에 배치될 수 있다. 타겟은 접착식 또는 비접착식 타겟(non-bonded target), 통상적으로 비접착식 타겟으로서 사용하도록 설계될 수 있다. 또한, 분무용 타겟을 위한 배킹 실린더와 대조적으로, 본 명세서에 기재된 실시예를 사용하면 접착식 또는 비접착식 타겟을 위해 복수의 원통형 또는 관상 중실형 타겟 또는 타겟 슬리브를 배킹 실린더 상에 배열할 수 있다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시예에 따른 회전식 타겟 베이스 장치는 반복적으로 사용될 수 있으며, 회전식 타겟은 원통형 타겟을 교환함으로써 복구될(restored) 수 있다.

도 1은 본 명세서에 개시된 실시예의 일례에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟(1)을 개략적으로 도시한다. 회전식 타겟(1)은 통상적으로 회전식 타겟 베이스 장치(2) 및 본 명세서에서 원통형 타겟 또는 타겟(5)으로도 지시되는 관상 중실형 타겟 실린더(5)를 포함한다.

본 명세서에 기재된 실시예에서, 타겟(5)은 내부 축방향 면(54), 외부 축방향 면(55) 및 내부 축방향 면(54)을 외부 축방향 면(55)과 연결시키는 하나 이상의 정면(56)을 갖는다. 또한, 본 명세서에 기재된 실시예에서, 회전식 타겟 베이스 장치는 가요성 요소(23 또는 230), 중실형 타겟 실린더의 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면(3) 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면(250 또는 81)을 포함한다.

도 1에 도시된 예시의 회전식 타겟 베이스 장치(2)는 또한 도 2a에 개략적으로 도시되며, 배킹 튜브(4)를 포함한다. 본 명세서에 개시된 실시예의 일부 예시에서, 배킹 튜브의 하나 이상의 단부 영역은 배킹 튜브의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖는다. 도 1에 도시된 예시에서, 회전식 타겟 베이스 장치(2)는 추가로 타겟 고정 수단(11, 13)을 포함한다.

본 발명의 예시의 배킹 튜브(4)는 도 2b에 개략적으로 도시되며, 축(40)(파선), 중간부(12), 측면(3), 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9)을 갖는다. 본 발명의 예시에서, 제2 단부 영역(9)은 중간부(12)의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖는다. 실시예의 일부 예시에서, 배킹 튜브(4)는 용접 이음부(10)에서 덮개(8)에 의해 제 2 단부 영역(9)이 폐쇄되어 있다. 또한, 제1 단부 영역(7)에는 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 지지부에 연결하는 연결 수단이 제공될 수 있다. 본 발명의 예시에서, 연결 수단은 환형 플랜지(15)이며, 환형 플랜지는 용접 이음부(16)에서 배킹 튜브(4)의 제1 단부 영역(7)에 용접될 수 있다. 다른 예시에서, 플랜지(15)는 클램핑 칼라(clamping collar) 또는 나사식 칼라(screwed collar)일 수 있으며, 제거 가능할 수 있다. 플랜지(15)에 의해, 배킹 튜브(4)는 개구(18)를 구비한다. 또한, 배킹 튜브(4)는 마그넷 장치 또는 냉각 시스템을 이루는 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하기 위한 내부 공간(6)을 포함할 수 있다.

본 명세서에 개시된 실시예에서, 회전식 타겟 베이스 장치는 하나 또는 그보다 많은 타겟 고정 수단을 포함할 수 있으며, 타겟 고정 수단 중 하나는 제1 및 제 2 단부 영역 중 하나 이상에 제공되도록 구성될 수 있으며, 제거 가능하다. 본 명세서에 개시된 실시예의 일례에서, 하나 이상의 타겟 고정 수단은 제1 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에 제공될 수 있다. 이 예시의 변형예에서, 타겟 고정 수단 중 하나 이상은 제거 가능할 수 있다.

본 명세서에 개시된 실시예의 일례에 따르면, 배킹 튜브(4)의 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9)은 각각 타겟 고정 수단(11, 13) 중 하나를 구비한다. 타겟 고정 수단(11, 13)은 각각 유지 수단 및 타겟 조정 수단을 포함할 수 있다. 도 1, 2a 및 2b에 도시된 예시에서, 타겟 고정 수단(11)은 제1 단부 영역(7)에 제공되며, 타겟 고정 수단(13)은 배킹 튜브(4)의 제2 단부 영역(9)에 제공된다. 적어도 타겟 고정 수단(13)은 배킹 튜브(4)로부터 제거 가능할 수 있다.

도 2b에 도시된 바와 같이, 배킹 튜브(4)의 플랜지(15)는 배킹 튜브(4)의 측면(3)에 인접한 환형 리세스(17)를 포함할 수 있다. 플랜지(15) 및 환형 리세스(17)는 타겟 고정 수단(11)의 일부이다. 플랜지(15)는 타겟 고정 수단(11)의 유지 수단의 역할을 한다. 환형 리세스(17)는 타겟 고정 수단(11)의 조정 리세스로 작용한다.

도 2a는 조립된 상태에 있는 본 발명의 예시의 회전식 타겟 베이스 장치(2)의 타겟 고정 수단(11, 13) 및 배킹 튜브(4)를 도시한다. 회전식 타겟(1)의 관상 중실형 타겟(5)은 도시되지 않는다. 타겟 고정 수단(11)의 완성을 위해, 플랜지(15)의 환형 리세스(17) 내에 코일 환형 스프링(coiled annular spring; 21)이 제공될 수 있다. 또한, 조립된 타겟 고정 수단(13)은 환형 잠금 수단(23)을 포함한다. 본 발명의 예시에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 잠금 수단(23)은 나사 너트(25) 및 압축 플랜지(24)를 포함하며, 배킹 튜브(4)의 덮개(8)에 플랜지 베어링으로서 중심 볼트(26)가 제공된다. 중심 볼트(26)는 너트(25)의 내부 나사산에 대응하는 외부 나사산을 갖는다. 너트(25)는 플랜지 고정 부재로서 와셔(washer; 22)를 더 포함할 수 있다. 잠금 수단(23)은 측면(3)에 인접하여 환형 리세스(280)를 제공한다. 리세스(280)는 압축 플랜지(24)의 대응하는 직경에 의해 형성될 수 있다. 조립된 상태에서, 압축 플랜지(24)는 배킹 튜브(4)의 덮개(8)와 접촉하는 동안, 중심 볼트(26) 상의 중심 보어(240)와 동심으로 위치되며, 리세스(280)는 코일 환형 스프링(27)으로 채워진다.

잠금 수단(23)의 압축 플랜지(24)를 개략적으로 도시하는 도 4에 도시된 바와 같이, 압축 플랜지(24)는 중심 보어(240)와, 최외곽 원주에 측면 환형 돌기(39)를 포함한다. 이에 따라, 도 2a에서 스프링(27)을 포함하는 것으로 도시되는 환형 리세스(280)는, 배킹 튜브(4)에 잠금 수단(23)을 장착할 때 제공된다. 압축 플랜지(24)의 형상, 폭 및 내경은, 조립시 잠금 수단(23) 및 스프링(27)의 우수한 정합(good match)을 제공하기 위해, 적합하게 선택된다.

요약하면, 본 발명의 예시에서 볼트(26), 나사 너트(25) 및 압축 플랜지(24)를 포함하는 잠금 수단(23)은 본 발명의 예시에서, 타겟 고정 수단(13)의 유지 수단을 형성하는 반면, 스프링(27)은 타겟 고정 수단(13)의 타겟 조정 수단으로 제공된다. 또한, 본 발명의 예시에서, 플랜지(15)는 타겟 고정 수단(11)의 유지 수단이며, 스프링(21)은 타겟 고정 수단(11)의 타겟 조정 수단이다.

도 1은 조립된 상태에 있는 회전식 타겟(1)을 도시한다. 본 발명의 예시에서 플랜지(15)와 압축 플랜지(24) 사이의 거리인, 플랜지(15)와 잠금 수단(23) 사이의 거리는 관상 중실형 타겟(5)의 길이보다 더 길다. 타겟(5)은 배킹 튜브(4)의 측면(3)에 위치되고, 타겟 고정 수단(11, 13) 각각의 스프링(21, 27) 사이에 배치된다. 그러므로 타겟 조정 간격(28, 29)은 플랜지(15)와 잠금 수단(23) 각각과 관상 중실형 타겟(5) 사이에 제공된다. 그에 따라, 배킹 튜브(4)의 회전 축, 즉 본 발명의 예시에서 종축에 평행한 타겟(5)의 열 팽창이 가능하며, 이러한 열 팽창의 바람직하지 않은 효과가 방지된다. 스프링(21, 27)의 스프링 장력으로 인해, 타겟(5)은 배킹 튜브(4) 상에 정렬되거나 심지어 중심이 맞춰진다. 그에 따라, 회전식 타겟(1)의 회전축에 평행한 관상 중실형 타겟(5)의 최적 위치가 얻어질 수 있다. 스프링(21, 27)은, 간격(28, 29)이 제공되더라도, 고정 위치에서 타겟(5)을 지지한다.

스프링(21, 27) 중 하나 이상은 전기 전도성 재료, 금속 및 스테인리스 스틸의 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 재료를 포함할 수 있다. 통상적으로, 스프링(21, 27)은 편평한 금속 스트라이프(flat metal stripe)로 제조될 수 있으며, 편평한 금속 스트라이프는 그 자체로서 감겨 있다(coiled). 그러므로 스프링(21, 27)은 전기 접촉부(electrical contact)를 제공할 수 있다. 이는 통상적으로 스프링(21)에 의해 도 1에 도시된 적어도 관상 중실형 타겟(5)과 플랜지(15) 사이에 정해진 전위(electrical potential)를 제공하기에 바람직할 수 있다. 도 3a는 2개의 인접하는 관상 단편(51, 52)을 포함하는 관상 중실형 타겟(50)을 갖는, 본 명세서에 개시된 실시예의 회전식 타겟(1)의 다른 예시를 도시한다. 이러한 경우, 각각의 단편(51, 52)에는 각각의 인접하는 스프링(21, 27)에 의해 정해진 전위가 제공될 수 있다.

환형 코일 스프링(21, 27)의 일례로서, 도 3b에 스프링(21)이 도시된다. 본 발명의 예시에서, 스프링(21)은 그 자체로 감겨 있는 편평한 금속 스트라이프(30)로 제조된다. 편평한 금속 스트라이프(30)의 결과적인 코일은 플랜지(15)의 리세스(17)를 채우기 적합한 직경 및 크기를 갖는 링(미도시)으로 형성된다. 따라서, 스프링(27)의 직경은 배킹 튜브(4)에 장착된 압축 플랜지(24)에 의해 형성되는 리세스(280)를 적합하게 채우는 크기로 만들어진다. 도 3b에 도시된 바와 같이, 스프링(21)의 외주(outer circumference)에 스프링(21)의 편평한 면들이 위치된다. 따라서, 스프링(21)이 전기 전도성 재료로 제조될 때, 스프링 및 인접하는 플랜지(15)와 타겟(5) 사이의 전기 접촉부의 강도는 증가된다.

본 명세서에 개시된 실시예의 예시에서, 중실형 타겟 실린더의 내경은 타겟 베이스 실린더의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그보다 클 수 있다. 통상적으로, 타겟(5, 50)은 약 100㎜ 내지 약 200㎜, 보다 통상적으로 약 130㎜ 내지 약 170㎜, 가장 통상적으로 약 150㎜ 내지 약 160㎜의 외경을 가질 수 있다. 타겟(5, 50)의 내경은 약 80㎜ 내지 약 180㎜, 보다 통상적으로 약 110㎜ 내지 약 150㎜, 가장 통상적으로 약 130㎜ 내지 약 140㎜의 범위 이내일 수 있다. 타겟의 두께는 약 3㎜ 내지 약 30㎜의 범위 이내, 가장 통상적으로 약 20㎜일 수 있다. 통상적으로, 타겟(5)의 길이는 약 240㎜ 내지 약 1540㎜, 보다 통상적으로 약 440㎜ 내지 약 1340㎜, 가장 통상적으로 약 440㎜ 내지 약 540㎜의 범위 이내일 수 있다. 배킹 튜브(4)의 외경은 중간부에서 약 80㎜ 내지 약 180㎜, 보다 통상적으로 약 110㎜ 내지 약 150㎜, 가장 통상적으로 약 130㎜ 내지 약 140㎜의 범위 이내일 수 있다. 배킹 튜브(4)의 내경은 통상적으로 약 60㎜ 내지 160㎜, 보다 통상적으로 약 90 내지 약 130㎜, 가장 통상적으로 약 110㎜ 내지 120㎜의 범위 이내일 수 있다. 배킹 튜브(4)의 길이는 약 300㎜ 내지 약 1600㎜, 보다 통상적으로 약 500㎜ 내지 약 1400㎜, 가장 통상적으로 약 500㎜ 내지 약 600㎜의 범위 이내일 수 있다. 통상적으로, 타겟(5, 50)의 내경 및 배킹 튜브(4)의 외경은, 타겟과 배킹 튜브 사이에 희망 열 전달을 제공하기 위해, 타겟(5, 50)의 내면과 배킹 튜브(4)의 측면(3) 사이의 간격이 0.7㎜와 동일하거나 그 미만이 되도록 선택된다. 본 명세서에 개시된 실시예의 일부 예시에서, 배킹 튜브(4)의 중간부의 외경 및/또는 내경은 중간부(12)의 길이에 걸쳐서 실질적으로 일정하다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시예의 일부 예시에서, 타겟(5, 50)의 외경 및/또는 내경은 타겟(5, 50)의 길이에 걸쳐서 실질적으로 일정하다.

본 명세서에 개시된 실시예에 사용되는 타겟 재료의 일례로서, 타겟(5)은 붕소, 예를 들면 Z-600으로 도핑될 수 있는 실리콘, 예를 들면 5N 품질(5N quality)을 포함할 수 있다.

통상적으로, 본 명세서에 개시된 실시예의 일례는 실질적으로 수평한 장착에 대해, 또는 수평한 선, 심지어 회전식 타겟(1)의 다소 경사진 장착에 대해 적합한데, 이는 예를 들면 스프링(21, 27)이 관상 중실형 타겟(5)의 확실한 정렬 또는 중심화(centering)를 제공하기 때문이다.

추가 실시예에 따르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법이 제공되며, 이 방법은 본 명세서에 기재된 임의의 실시예 또는 실시예의 임의의 예시에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치 또는 회전식 타겟 장치를 제공하는 단계; 중실형 타겟 실린더를 제공하는 단계; 및 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 중실형 타겟 실린더를 배치하는 단계를 포함한다. 이 방법은, 중실형 타겟 실린더를 배치하는 단계 후에, 타겟 베이스 실린더의 제1 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에 타겟 고정 수단을 설치하는 단계를 포함할 수 있다.

또한, 중실형 타겟 실린더는 중공형 실린더일 수 있다. 중실형 타겟 실린더는 타겟 베이스 실린더와 동심으로 배치될 수 있다. 통상적으로, 상기 추가 실시예에 따라 타겟 베이스 실린더와 중실형 타겟 실린더를 결합함으로써, 회전식 타겟이 형성된다. 회전식 타겟은 스퍼터링 설비 내에 스퍼터링 타겟을 실질적으로 수평하게 장착하기 위한 것일 수 있다.

본 명세서에 기재된 실시예의 방법의 일례에서, 도 2b에 도시된 배킹 튜브(4)가 제공된다. 그 후, 스프링(21)이 제2 단부 영역(9)에서 배킹 튜브(4) 상에 동심으로 위치되며, 제2 단부 영역(9)으로부터 제1 단부 영역(7)으로 이동된다. 그 후, 관상 중실형 타겟(5)은 제2 단부 영역(9) 상에 동심으로 배치되고, 배킹 튜브(4)의 중심 축(40), 즉 본 발명의 예시에서 종축에 대해 평행하게 이동되며, 스프링(21)과 접촉하여 배치된다. 그 후, 스프링(27)은 타겟(5)과 접촉하여 배킹 튜브(4) 상에 동심으로 배치된다. 그 후, 잠금 수단(23)의 요소들은 덮개(8), 타겟(5)을 향하는 돌기(39) 및 리세스(280)를 채우는 스프링(27)과 접촉하여 그 보어(240)를 이용하여 압축 플랜지(24)를 볼트(26) 상에 동심으로 위치시킴으로써 단부 영역(9)에 장착된다. 그 후, 너트(23)가 볼트(26)에 고정된다. 그 결과, 관상 중실형 타겟(5)이 스프링(21, 27) 사이에 정렬되거나 중심이 맞춰져서 도 1에 도시된 회전식 타겟(1)을 제공한다. 스프링(21, 27)으로 인해 가변적인 타겟 조정 간격(28, 29)은 회전식 타겟(1)의 회전축에 평행하게 타겟 재료의 열 팽창을 허용한다. 일부 실시예에서, 스프링(21)은 타겟(5)의 정해진 전위를 제공하도록 전기 전도성 재료로 제조된다.

전술된 바와 같이, 배킹 튜브(4)의 제2 단부 영역(9)은 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 가질 수 있다. 따라서, 배킹 튜브의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그보다 큰 내경을 갖는 관상 중실형 타겟(5)은, 이를 제2 단부 영역(9) 상에 동심으로 배치하고 배킹 튜브의 회전축, 즉 본 발명의 예시에서 종축에 평행하게 배킹 튜브(4) 상으로 이동시키거나 압박함으로써, 배킹 튜브(4) 상에 배치될 수 있다. 또한, 이러한 절차는 소모된 타겟(5)을 교체하도록 회전식 타겟(1)을 복구할 때 사용될 수도 있다. 예를 들면, 도 1에 도시된 바와 같이 회전식 타겟으로부터 타겟 고정 수단(13)을 분리하고, 타겟(5)을 제거하며, 배킹 튜브(4) 상에 다른 타겟(5)을 동심으로 배치하고, 다시 배킹 튜브(4)에 타겟 고정 수단(13)을 장착함으로써 교체가 실행될 수 있다.

또한, 중실형 타겟 실린더는 중공형 실린더일 수 있다. 중실형 타겟 실린더는 타겟 베이스 실린더 상에 동심으로 배치될 수 있다. 회전식 타겟은 스퍼터링 설비 내에 스퍼터링 타겟을 실질적으로 수평하게 장착하기 위한 것일 수 있다. 통상적으로, 본 발명에 따른 타겟 베이스 실린더 및 중실형 타겟 실린더를 사용하여, 회전식 타겟이 복구될 수 있다. 이는 본 명세서에 개시된 실시예에 따른 회전식 타겟 베이스 장치 및 회전식 타겟 각각을 사용하여 가능한데, 이는 타겟 베이스 실린더 상에 타겟 실린더를 지지하기 위한 타겟 고정 수단이 타겟 베이스 실린더의 하나 이상의 측면에서 제거될 수 있기 때문이다. 예를 들면 일부 실시예에서, 타겟 고정 수단 중 하나는 제거 가능한 칼라 또는 제거 가능한 클램프 칼라이다. 또한, 타겟 베이스 지지부, 예를 들면 베어링 및/또는 드라이브(drive)에 연결되는 수평하게 지지된 회전식 타겟의 경우, 단 한 면에서, 타겟 베이스 지지부가 없는 면에서, 타겟 실린더를 교환하기 위해 타겟 고정 수단이 제거될 수 있다.

일부 실시예에서, 타겟 고정 수단은 중실형 타겟 실린더에 인접하여 및/또는 중실형 타겟 실린더와 유지 수단 사이에 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된다. 실시예에 따르면, 유지 수단은: 상기 타겟 베이스 실린더의 단부 영역 중 하나에 제공되는 플랜지, 압축 플랜지, 플랜지 베어링, 플랜지 고정 부재 및 상기 타겟 조정 수단을 적어도 부분적으로 포함하도록 구성되는 조정 리세스로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함할 수 있고/포함할 수 있거나, 상기 타겟 고정 수단은 상기 유지 수단의 요소들 중 하나 이상에 인접하여 및/또는 상기 유지 수단의 요소들 중 두 요소 사이에 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성될 수 있다.

도 6은 추가 실시예로서 회전식 타겟(110)을 개략적으로 도시한다. 회전식 타겟(110)은 도 2b에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치(2), 배킹 튜브(4) 및 타겟 고정 수단(130)을 포함한다. 회전식 타겟(110)의 관상 중실형 타겟(5)이 또한 도시된다. 타겟 고정 수단(11)의 완성을 위해, 플랜지(15)의 환형 리세스(17) 내에 코일 환형 스프링(21)이 제공된다. 또한, 조립된 타겟 고정 수단(130)은 환형 잠금 수단(230)을 포함한다. 본 발명의 예시에서, 잠금 수단(230)은 볼트(26), 나사 너트(25) 및 압축 플랜지(24) 및 디스크 스프링(270)을 포함한다. 배킹 튜브(4)의 덮개(8)에는 중심 볼트(26)가 제공된다. 중심 볼트(26)는 너트(25)의 내부 나사산에 대응하는 외부 나사산을 갖는다. 도 6에 도시된 바와 같이, 너트(25)는 와셔(22)를 더 포함할 수 있다. 잠금 수단(230)은 너트(25) 또는 존재한다면 와셔(22)와 압축 플랜지(24) 사이에 환형 조정 간격(290)을 제공한다. 타겟 고정 수단(130)을 조립하기 위해, 압축 플랜지(24)는 배킹 튜브(4)의 덮개(8)와 접촉하여, 중심 볼트(26) 상에 중심 보어(240)와 동심으로 위치된다. 또한, 디스크 스프링(270)은 압축 플랜지(24)에 인접하여 위치되며, 너트(23)는 디스크 스프링(270) 상에 고정된다. 이에 따라, 디스크 스프링(270)의 탄성력이 형성되고, 타겟 조정 간격(290)이 형성된다. 그 결과, 관상 중실형 타겟(5)은 스프링(21, 270) 사이에서 정렬되거나 중심이 맞춰져서, 도 6에 도시된 회전식 타겟(1)을 제공한다. 스프링(21, 270)으로 인해 가변적인 타겟 조정 간격(28, 290)은 회전식 타겟(1)의 회전축에 평행한 타겟 재료의 열 팽창을 허용한다. 또한, 스프링(21)은 타겟(5)의 정해진 전위가 제공되도록, 전기 전도성 재료로 제조될 수 있다.

타겟 베이스 장치 및 방법의 회전식 타겟(1) 또는 회전식 타겟(110)의 상기 실시예들의 변형예에서, 타겟 고정 수단 중 단 하나 및 그에 따라 단 하나의 타겟 조정 수단이 그 위에 관상 중실형 타겟을 위치시키기 위해, 예를 들면 정렬시키거나 중심을 맞추기 위해, 배킹 튜브(4)에 제공될 수 있다. 예를 들면, 타겟 베이스 지지부에 대한 연결 수단으로서, 리세스(17)를 포함하는 플랜지(15) 대신, 리세스(17)가 없는 플랜지가 제공될 수 있다. 이러한 실시예의 예시는 각각 회전식 타겟(101, 111)을 도시하는 도 5 및 7에 도시되며, 이 회전식 타겟은 단지 타겟 고정 수단(13, 130) 각각이 단부 영역(9)에 제공되는 점에서 도 1 및 6에 도시된 회전식 타겟(1, 110)과 상이하다. 단부 영역(7)은 플랜지(150)를 구비하며, 플랜지는 타겟(5)의 인접하는 정면(56)에 직접 접촉한다.

본 명세서에 개시된 실시예는 배킹 실린더의 하나 이상의 단부로부터의 접근이 가능하기 때문에, 배킹 실린더 상에 중실형 타겟 재료 튜브, 예를 들면 배킹 튜브일 수 있는 원통형 타겟을 제공하게 할 수 있다. 이는 예를 들면, 일부 실시예의 배킹 실린더의 구조로 인한 것이며, 배킹 실린더의 하나 이상의 단부 영역은 배킹 실린더의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖는다. 그러므로 배킹 실린더의 중간부의 외경과 대응하는(matching) 내경을 갖는 원통형 또는 관상 중실형 타겟은 배킹 실린더의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖는 단부 영역을 통해, 용이하게 배킹 실린더 상에 배치될 수 있다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시예에 따르면, 하나 이상의 단부 영역은 제거 가능한 타겟 고정 수단을 구비할 수 있으며, 타겟 고정 수단은 배킹 실린더 상에 원통형 타겟을 배치할 때 제거될 수 있다. 타겟은 접착식 또는 비접착식 타겟, 통상적으로 비접착식 타겟으로서 사용하도록 설계될 수 있다. 타겟이 비접착식 타겟으로서 사용되는 경우, 본 명세서에 개시된 실시예의 결과로서, 배킹 실린더에 대한 중실형 타겟의 값비싼 접착이 방지될 수 있으며, 따라서 배킹 실린더 상에 타겟을 고정시키는데 더 많은 값비싼 접착 재료의 사용이 요구되지 않는다. 다른 예시에서, 중실형 타겟은 접착 재료를 필요로 할 수 있는 접착에 의해 스퍼퍼링 캐소드의 배킹 튜브 상에 제공될 수 있다.

또한, 실시예에 따르면, 가요성 요소 및/또는 하나 또는 그보다 많은 타겟 고정 수단이, 원통형 중실형 타겟과 타겟 고정 수단 사이 또는 타겟 유지 수단의 요소들 사이에 하나 이상의 타겟 조정 간격을 허용하는, 배킹 실린더에 제공되기 때문에, 배킹 실린더 재료 및 타겟 재료의 열팽창 계수는 상이할 수 있다. 또한, 가요성 요소 및/또는 타겟 고정 수단을 포함하는 실시예의 일례에서, 타겟은 배킹 실린더에 고정될 수 있거나, 희망 위치에서 배킹 실린더 상에 정렬되거나 심지어 중심이 맞춰질 수 있다. 가요성 요소 및/또는 타겟 조정 간격으로 인해, 본 명세서에 개시된 실시예는, 타겟 실린더가 회전 가능한 타겟 장치 또는 회전 가능한 타겟 베이스 장치 각각 상에 배치될 때, 축방향으로 중실형 타겟 실린더의 열팽창을 허용한다. 그러므로 중실형 타겟 실린더의 재료가 실리콘을 포함하거나 고순도의 실리콘으로 형성될지라도, 중실형 타겟 실린더의 손상 또는 균열이 발생하지 않는다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치는: 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 가요성 요소는 중실형 타겟 실린더의 정면과 직접 접촉하도록 구성된다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 가요성 요소는 중실형 타겟 실린더의 정면과 직접 접촉하도록 구성되는 중실형 요소를 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 다른 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적이다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 타겟 고정 수단은 유지 수단 및 타겟 조정 수단으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하고, 상기 타겟 조정 수단은 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성되고/구성되거나 상기 타겟 조정 간격 내에 제공되도록 구성된다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 타겟 베이스 실린더는 관상이며, 상기 타겟 고정 수단은 상기 축에 대해 실질적으로 평행하게 가변적인 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성될 수 있다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 가요성 요소, 상기 타겟 고정 수단 및 상기 타겟 조정 수단으로부터 선택된 하나 이상의 요소는: 탄성 부재, 환형 탄성 부재, 스프링, 디스크 스프링, 코일 스프링, 환형 스프링, 환형 코일 스프링, 편평한 금속 스트라이프(flat metal stripe)로 제조된 스프링, 편평한 금속 스트라이프로 제조된 코일 스프링, 편평한 금속 스트라이프로 제조된 환형 스프링, 편평한 금속 스트라이프, 전기 전도성 재료, 금속 및 스테인리스로 제조된 환형 코일 스프링으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 타겟 고정 수단은 제거 가능하다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 유지 수단 및 타겟 조정 수단으로부터 선택된 하나 이상의 요소는 제거 가능하다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 상기 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖는다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나는 상기 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에 제공되도록 구성되며 제거 가능하다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 타겟 고정 수단은 상기 중실형 타겟 실린더에 인접하여 및/또는 상기 중실형 타겟 실린더와 상기 유지 수단 사이에 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 유지 수단은: 상기 타겟 베이스 실린더의 단부 영역 중 하나에 제공되는 플랜지, 압축 플랜지, 플랜지 베어링, 플랜지 고정 부재 및 상기 타겟 조정 수단을 적어도 부분적으로 포함하도록 구성되는 조정 리세스로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 타겟 고정 수단은 상기 유지 수단의 요소들 중 하나 이상에 인접하여 및/또는 상기 유지 수단의 요소들 중 두 요소 사이에 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나 이상은 상기 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 지지부에 연결하도록 구성되는 연결 수단을 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 제1 단부 영역은 상기 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 지지부에 연결하도록 구성되는 연결 수단을 구비하고/구비하거나; 상기 연결 수단은 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나의 유지 수단을 형성한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 상기 제2 단부 영역은 상기 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖고, 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 구비하도록 구성된다.

일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟은 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치를 포함하며, 상기 회전식 타겟 장치는: 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟이 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며; 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부 선택된 하나 이상의 요소에 실질적으로 평행하게 가변적이며; 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 배치된 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 갖고, 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 상기 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 실질적으로 평행하게 가변적인 타겟 조정 간격을 제공한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예는 제1 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에 배치되는 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나 이상을 갖는 회전식 타겟 베이스; 제거 가능한 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나 이상으로부터 선택되는 하나 이상의 요소를 포함하고; 상기 타겟 고정 수단이 유지 수단 및 타겟 조정 수단으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하고, 상기 타겟 조정 수단이 상기 타겟 조정 간격을 제공하거나 상기 타겟 조정 간격 내에 제공되며; 상기 타겟 베이스 실린더의 제1 및 제2 단부 영역 중 하나 이상이 상기 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 가지며; 상기 하나 이상의 중실형 타겟 실린더의 내경은 상기 타겟 베이스 실린더의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그보다 더 크다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예는 상기 제1 및 제2 단부 영역 사이에 위치되는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더; 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단에 의해 조정되는 위치를 갖는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더;로부터 선택되는 하나 이상의 요소를 포함하고, 상기 타겟 고정 수단은 상기 중실형 타겟 실린더에 인접하고, 상기 하나 이상의 중실형 타겟 실린더와 유지 수단 사이로부터 선택되는 위치에 타겟 조정 간격을 제공하며; 상기 타겟 고정 수단은 상기 유지 수단의 요소들 중 하나 이상에 인접하여 및 상기 유지 수단의 요소들 중 두 개의 요소 사이로부터 선택되는 위치에 상기 타겟 조정 간격을 제공한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 코팅 설비는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치를 포함하며, 상기 회전식 타겟 장치는: 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더가 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스가 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 코팅 설비가 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적이다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법은: 중실형 타겟 실린더를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면, 외부 축방향 면 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면을 가지며; 상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소, 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면을 포함하는, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치를 제공하는 단계; 중실형 타겟 실린더를 제공하는 단계;를 포함하고, 상기 방법은 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단에 인접하여 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 상기 중실형 타겟 실린더를 배치하는 단계; 상기 타겟 베이스 실린더의 제1 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계, 및 상기 타겟 베이스 실린더의 제2 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계로부터 선택된 하나 이상의 단계를 포함한다.

본 명세서에 기재된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 일 실시예에서, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법은: 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계로서, 상기 타겟 베이스 장치가 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 수용하도록 구성되며; 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 축, 측면, 중간부, 제1 단부 영역 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역을 갖는 타겟 베이스 실린더; 및 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적인, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계; 중실형 타겟 실린더를 제공하는 단계;를 포함하고, 상기 방법은 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단에 인접하는 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 상기 중실형 타겟 실린더를 배치하는 단계; 상기 타겟 베이스 실린더의 제1 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계, 및 상기 타겟 베이스 실린더의 제2 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계로부터 선택된 하나 이상의 단계를 포함한다.

본 명세서에 기재된 일부 실시예에서, 회전식 타겟 베이스는 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 타겟 베이스 실린더이며/실린더이거나; 상기 면은 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 측면이고/측면이거나; 상기 제2 면은 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 타겟 베이스 실린더 및/또는 유지 수단, 및 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 유지 수단의 요소들 중 하나로부터 선택된 하나 이상의 요소에 포함되며/포함되거나; 상기 가요성 요소는 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 타겟 조정 수단 및 타겟 고정 수단으로부터 선택되는 하나 이상의 요소이며/요소이거나; 상기 중실형 요소는 본 명세서에 기재된 임의의 실시예에 따른 플랜지 베어링, 압축 플랜지 및 유지 수단의 일부로부터 선택되는 하나 이상의 요소이다.

기재된 상세한 설명은 최적 형태를 포함하는 본 발명을 개시하고, 임의의 당업자로 하여금 본 발명을 구성하고 사용할 수 있게 하기 위해 예시를 사용한다. 본 발명은 다양한 특정 실시예에 대해 기재되었지만, 당업자는 본 발명이 특허청구범위의 사상 및 범주 내에서 변형예로 실시될 수 있음을 이해할 것이다. 특히, 전술된 실시예의 예시들의 상호 비-배타적인 특징들은 서로 결합될 수 있다. 본 발명의 특허 가능한 범주는 당업자가 생각하는 다른 예시들을 포함할 수 있다. 이러한 다른 예시들은 특허청구범위의 범주 이내일 것이다.

전술한 바는 본 발명의 실시예에 관한 것이지만, 본 발명의 기본 범주를 벗어나지 않고 본 발명의 여타 실시예가 안출될 수 있으며, 본 발명의 범주는 이어지는 특허청구범위에 의해 결정된다.

Claims (15)

1. 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치로서:
   중실형 타겟 실린더(5)를 지지하도록 구성된 회전식 타겟 베이스(4)를 포함하고, 상기 중실형 타겟 실린더는 내부 축방향 면(54), 외부 축방향 면(55) 및 상기 내부 축방향 면과 상기 외부 축방향 면을 연결시키는 하나 이상의 정면(56)을 가지며;
   상기 회전식 타겟 베이스는 가요성 요소(23; 230), 상기 중실형 타겟 실린더의 상기 내부 축방향 면의 형상에 맞춰진 제1 면(3) 및 상기 중실형 타겟 실린더 외부의 상기 가요성 요소를 지지하도록 구성되는 제2 면(250; 81)을 포함하는
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치.
   
2. 제1 항에 있어서,
   상기 가요성 요소는 상기 중실형 타겟 실린더의 정면(56)과 직접 접촉하도록 구성되고/구성되거나,
   상기 가요성 요소는 상기 중실형 타겟 실린더의 정면(56)과 직접 접촉하도록 구성된 중실형 요소를 포함하는
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치.
   
3. 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치로서,
   상기 타겟 베이스 장치가 하나 이상의 중실형 타겟 실린더(5)를 수용하도록 구성되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치가:
   축(40), 측면(3), 중간부(12), 제1 단부 영역(7) 및 상기 제1 단부 영역에 대향하는 제2 단부 영역(9)을 갖는 타겟 베이스 실린더(4); 및
   타겟 조정 간격(28; 29)을 제공하도록 구성된 하나 이상의 타겟 고정 수단(11, 13)을 포함하며, 상기 타겟 조정 간극은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 대해 실질적으로 평행하게 가변적인
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
4. 제3 항에 있어서,
   상기 타겟 고정 수단은 유지 수단(15; 23; 230) 및 타겟 조정 수단(21; 27; 270)으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하고, 상기 타겟 조정 수단은 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성되고/구성되거나 상기 타겟 조정 간격 내에 제공되도록 구성되며/구성되거나;
   상기 타겟 베이스 실린더는 관상(tubular)이며, 상기 타겟 고정 수단은 상기 축에 대해 실질적으로 평행하게 가변적인 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성되는
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
5. 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 가요성 요소, 상기 타겟 고정 수단 및 상기 타겟 조정 수단으로부터 선택된 하나 이상의 요소는: 탄성 부재, 환형 탄성 부재, 스프링, 디스크 스프링, 코일 스프링, 환형 스프링, 환형 코일 스프링, 편평한 금속 스트라이프(flat metal stripe)로 제조된 스프링, 편평한 금속 스트라이프로 제조된 코일 스프링, 편평한 금속 스트라이프로 제조된 환형 스프링, 편평한 금속 스트라이프, 전기 전도성 재료, 금속 및 스테인리스로 제조된 환형 코일 스프링으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하고/포함하거나;
   상기 타겟 고정 수단, 상기 유지 수단 및 상기 타겟 조정 수단으로부터 선택된 상기 하나 이상의 요소는 제거 가능한
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
6. 제3 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 상기 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖고/갖거나;
   상기 하나 이상의 타겟 고정 수단(13) 중 하나는 상기 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에 제공되도록 구성되며 제거 가능한
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
7. 제3 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 타겟 고정 수단은 상기 중실형 타겟 실린더에 인접하여/인접하거나 상기 중실형 타겟 실린더와 상기 유지 수단 사이에 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성되고/구성되거나;
   상기 유지 수단은: 상기 타겟 베이스 실린더의 단부 영역 중 하나에 제공되는 플랜지(15), 압축 플랜지(24), 플랜지 베어링(26), 플랜지 고정 부재(22) 및 상기 타겟 조정 수단을 적어도 부분적으로 포함하도록 구성되는 조정 리세스(17; 25)로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하고/포함하거나;
   상기 타겟 고정 수단은 상기 유지 수단의 요소들 중 하나 이상에 인접하여/인접하거나 상기 유지 수단의 요소들 중 두 요소 사이에 상기 타겟 조정 간격을 제공하도록 구성되는
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
8. 제3 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 하나 이상의 타겟 고정 수단(15) 중 하나 이상은 상기 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 지지부에 연결하도록 구성되는 연결 수단(15)을 포함하며/포함하거나;
   상기 제1 단부 영역은 상기 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 지지부에 연결하도록 구성되는 연결 수단(15)을 구비하고/구비하거나;
   상기 연결 수단은 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나의 유지 수단을 형성하며/형성하거나;
   상기 제2 단부 영역(9)은 상기 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖고, 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 구비하도록 구성되는
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
9. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
   상기 회전식 타겟 베이스는 제3 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 따른 타겟 베이스 실린더이고/실린더이거나;
   상기 제1 면은 상기 제3 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 따른 측면이며/측면이거나;
   상기 제2 면은: 제3 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 따른 타겟 베이스 실린더, 제3 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 따른 유지 수단, 및 제7 항에 따른 유지 수단의 요소들 중 하나로부터 선택된 하나 이상의 요소에 포함되고/포함되거나;
   상기 가요성 요소는 제3 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 따른 타겟 조정 수단 및 타겟 고정 수단으로부터 선택된 하나 이상의 요소이며/요소이거나;
   상기 중실형 요소는: 제3 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 따른 플랜지 베어링, 압축 플랜지 및 유지 수단의 일부로부터 선택되는 하나 이상의 요소인
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 장치.
   
10. 스퍼터링 설비용 회전식 타겟으로서,
    제3 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 따른 회전식 타겟 베이스 장치 또는 회전식 타겟 장치를 포함하고, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 배치된 하나 이상의 중실형 타겟 실린더를 갖고,
    상기 하나 이상의 타겟 고정 수단(11, 13)은 상기 타겟 베이스 실린더의 축 및 상기 측면으로부터 선택된 하나 이상의 요소에 실질적으로 평행하게 가변적인 타겟 조정 간격을 제공하는
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟.
    
11. 제10 항에 있어서,
    상기 회전식 타겟 베이스 장치는 상기 제1 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에 배치되는 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나 이상을 갖고/갖거나;
    상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나 이상은 제거 가능하며/가능하거나;
    상기 타겟 고정 수단은 상기 유지 수단(15; 23; 230) 및 타겟 조정 수단(21; 27)으로부터 선택된 하나 이상의 요소를 포함하며, 상기 타겟 조정 수단은 타겟 조정 간격을 제공하고/제공하거나 상기 타겟 조정 간격 내에 제공되며/제공되거나;
    상기 타겟 베이스 실린더의 상기 제1 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 상기 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인 최대 외경을 갖고/갖거나;
    상기 하나 이상의 중실형 타겟 실린더의 내경은 상기 타겟 베이스 실린더의 중간부의 외경과 실질적으로 동일하거나 그 미만인
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟.
    
12. 제10 항 또는 제11 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 중실형 타겟 실린더는 상기 제1 단부 영역과 제2 단부 영역 사이에 위치되고/위치되거나 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단에 의해 조정되는 위치를 갖고/갖거나;
    상기 타겟 고정 수단은 상기 중실형 타겟 실린더에 인접하여/인접하거나 상기 하나 이상의 중실형 타겟 실린더와 유지 수단 사이에 상기 타겟 조정 간격을 제공하며/제공하거나;
    상기 타겟 고정 수단은 상기 유지 수단의 요소들 중 하나 이상에 인접하여/인접하거나 상기 유지 수단의 요소들 중 두 개의 요소 사이에 상기 타겟 조정 간격을 제공하는
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟.
    
13. 제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 따른 회전식 타겟 베이스 장치 또는 회전식 타겟 장치 및/또는 제10 항 내지 제12 항 중 어느 한 항에 따른 회전식 타겟을 포함하는 코팅 설비.
    
14. 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법으로서,
    제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 따른 회전식 타겟 베이스 장치 또는 회전식 타겟 장치를 제공하는 단계,
    중실형 타겟 실린더를 제공하는 단계,
    상기 하나 이상의 타겟 고정 수단에 인접하여 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 상기 중실형 타겟 실린더를 배치하는 단계를 포함하는
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법.
    
15. 제14 항에 있어서,
    상기 타겟 베이스 실린더의 제1 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계, 및
    상기 타겟 베이스 실린더의 제2 단부 영역에 상기 하나 이상의 타겟 고정 수단 중 하나를 배치하는 단계로부터 선택된 하나 이상의 단계를 포함하는
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟 제조 방법.

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