TWI476290B - 可旋轉濺射靶材座、可旋轉濺射靶材、塗覆設備、製造可旋轉濺射靶材之方法、靶材座連接裝置、以及將用於濺射設備之可旋轉濺射靶材座裝置連接至靶材座支撐件的方法 - Google Patents
可旋轉濺射靶材座、可旋轉濺射靶材、塗覆設備、製造可旋轉濺射靶材之方法、靶材座連接裝置、以及將用於濺射設備之可旋轉濺射靶材座裝置連接至靶材座支撐件的方法 Download PDFInfo
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- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 title claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000009434 installation Methods 0.000 title 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 69
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 11
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 50
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- -1 5N or 3N quality Chemical compound 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005389 semiconductor device fabrication Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/332—Coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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Description
本發明之實施例一般而言係關於濺射設備。更特定而言,其係關於可旋轉靶材座裝置、可旋轉靶材、塗覆設備、製造可旋轉靶材之方法、靶材座連接裝置、以及連接可旋轉靶材座裝置的方法。具體而言,本發明之實施例係關於用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置、用於濺射設備之可旋轉靶材、塗覆設備、製造用於濺射設備之可旋轉靶材之方法、將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之靶材座連接裝置、以及將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件的方法。
材料於基材上之薄膜沈積可以許多方式實現,例如藉由在一真空室中蒸發或濺射塗覆材料實現。藉由濺射之薄膜沈積之典型實例為在太陽能晶圓(solar wafer)製造或半導體裝置生產中之濺射沈積應用。
當操作一濺射陰極時,建立一電漿且將該電漿之離子加速至欲沈積於該等基材上之塗覆材料的一靶材上。對該靶材之此轟擊導致該塗覆材料原子射出,其作為一沈積之膜堆積在該濺射陰極下面之基材上。為獲得增加之沈積速率,已提出使用磁場強化之陰極,亦可將其稱為磁控濺射。
典型磁場強化之濺射陰極可包括一平面靶材平板及一陣列相對於該靶材平板裝配於一固定位置之磁鐵。由該等磁鐵提供之磁場建立靶材平板材料之濺射沿其發生之路徑或區域。
其他典型磁場強化之濺射陰極包括一圓柱狀可旋轉管,例如一背襯管(backing tube),該背襯管具有一塗覆於其外表面之靶材料層。可包括一陣列磁鐵之磁裝置配置於該管內部且提供一磁場。該管可圍繞其縱軸旋轉,以便其可相對於該磁裝置轉動以選擇性地將其外表面上之靶材料的不同部分或區段帶至與該等磁鐵相對且在該磁場內之位置。
在可旋轉磁控濺射陰極之製造中,靶材料例如可藉由噴射而塗覆於一背襯管之外表面上。此外,典型濺射靶材之靶材料可被快速(例如於一周內)耗竭或消耗。
根據上述,本發明提供如申請專利範圍第1項之可旋轉靶材座裝置、如申請專利範圍第9項之可旋轉靶材、如申請專利範圍第12項之塗覆設備、如申請專利範圍第13項之製造可旋轉靶材之方法、如申請專利範圍第14項之靶材座連接裝置、以及如申請專利範圍第18項之連接可旋轉靶材座裝置之方法。
根據一實施例,提供一種用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑。
根據另一實施例,提供一種用於濺射設備之可旋轉靶材,其包括一可旋轉靶材座裝置,該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑,該可旋轉靶材座裝置具有一配置於該靶材座圓柱之側面上之實體靶材圓柱。
根據另一實施例,提供一種塗覆設備,其包括一可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑。
根據另一實施例,提供一種製造用於濺射設備之可旋轉靶材之方法,其包括以下步驟:提供一可旋轉靶材座裝置,該可旋轉靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於中間部之外徑的最大外徑;提供一實體靶材圓柱;及將該實體靶材圓柱配置於該靶材座圓柱之側面上。
根據又一實施例,提供一種將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之靶材座連接裝置,其包括至少一個選自由以下元件組成之群組之元件:一固定接頭及一設於該靶材座裝置中之固定凹槽,該固定接頭適於至少部分地填充該固定凹槽;一夾持裝置,其適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置;一固定夾鉗,其包括在該固定接頭中且適於至少部分地填充設於該靶材座裝置中之一固定凹槽;以及一固定軸環,其包括在該固定接頭中且具有一內螺紋,其與設於該靶材座裝置中之一固定凹槽中所設之一外螺紋相對應,其中該固定凹槽設在該靶材座裝置之一末端。
根據一實施例,提供一種將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之方法,包括以下步驟:提供一可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑;提供一靶材座連接裝置,其包括一固定夾鉗,其包括複數個環狀分段夾鉗元件,該等夾鉗元件適於閉合成一夾鉗環,以及複數個環狀分段夾持外殼,該等夾持外殼適於包圍閉合成一夾鉗環之複數個環狀分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐環;藉由使該複數個環狀分段夾鉗元件閉合成一夾鉗環而將該靶材座連接裝置裝配於該可旋轉靶材座裝置之該第一末端區及該第二末端區之至少一者上;將該夾鉗環鄰接至一靶材座支撐件之一靶材座支撐環;及將該複數個環狀分段夾持外殼裝配於該鄰接夾鉗環及靶材座支撐環上,以便將該等環狀分段夾持外殼及該等環狀分段夾鉗元件設於相互偏置之周邊位置上。
由從屬申請專利範圍、本說明書及圖式顯而易見其他特徵結構及細節。
實施例亦係關於用以實施所揭示之方法且包括用於執行所描述之方法步驟之設備部件的設備。此外,實施例亦係關於操作所描述之設備或製造所描述之設備之方法。其可包括用以實施該設備之功能或製造該設備之部件之方法步驟。該等方法步驟可經由硬體組件、韌體(firmware)、軟體、由適當軟體程式控制之電腦、其任意組合或以任何其他方式來執行。
現將詳細提及各種實施例,將其之一或多個實例圖示於圖中。各實例係以解釋說明之方式提供,且其並非意謂本發明之限制。
在不限制範疇之情況下,在下文中,涉及濺射應用描述可旋轉靶材座裝置、可旋轉靶材、塗覆設備、製造可旋轉靶材之方法、靶材座連接裝置、以及連接可旋轉靶材座裝置之方法的實例及實施例。通常,該可旋轉靶材座裝置及該靶材座連接裝置包括真空相容材料,且該塗覆設備為一真空塗覆設備。本文所述實施例之典型應用例如為在生產顯示器諸如LCD、TFT顯示器及有機發光二極體(OLED)、製造太陽能晶圓及生產半導體裝置中之濺射沈積應用。
在以下圖式之描述中,相同元件符號係指相同組件。一般而言,僅描述關於個別實施例之差異。
在不限制範疇之情況下,在下文中,可旋轉靶材座裝置之靶材座圓柱例如將被稱為背襯圓柱(backing cylinder)或背襯管(backing tube)。可旋轉靶材例如將包括背襯管及實體靶材圓柱。
根據一實施例,提供一種用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括:一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑。
例如,該靶材座裝置適於將一實體靶材圓柱同心地配置在該靶材座圓柱上。此外,該實體靶材圓柱可為一空心圓柱或相繼配置在該靶材座圓柱上之複數個空心圓柱。通常,藉由將該實體靶材圓柱配置在該靶材座圓柱上而形成一可旋轉靶材。該可旋轉靶材座裝置可用於將一可旋轉靶材大體垂直安裝於一濺射設備中。通常,該靶材座圓柱之側面可被理解為圓柱桶或圓柱之罩蓋。
本文所揭示之實施例容許提供一種靶材,其可為在一背襯圓柱(例如背襯管)上之一實體靶材圓柱(例如實體靶材材料管),因為存取該背襯圓柱之至少一個末端是可能的。此歸因於該背襯圓柱之結構,其中該背襯圓柱之至少一個末端區具有大體上等於或小於該背襯圓柱之中間部之外徑的最大外徑。因此,一具有與該背襯圓柱之中間部之外徑相匹配之內徑的圓柱狀實體靶材可容易地同心放置於該背襯圓柱上。該靶材可經設計用作一接合或非接合靶材。因此,在一些實例中,一實體靶材可經由接合設於濺射陰極之背襯管上,其可需要接合材料。此外,與用於經噴射之靶材之背襯圓柱相反,使用本文所揭示之實施例使得將複數個圓柱狀(例如管狀)實體靶材或用於接合或非接合靶材之靶材套管排列在一背襯圓柱上成為可能。此外,根據本文所揭示之實施例,該可旋轉靶材座裝置及背襯圓柱可重複使用且可只是藉由調換圓柱狀靶材而復原。此舉尤其適合於具有在塗覆應用期間被快速耗盡之靶材材料之可旋轉靶材。
第1圖示意性地顯示根據本文所揭示實施例之一實例的用於濺射設備之一可旋轉靶材1。該可旋轉靶材1通常包括一可旋轉靶材座裝置2及一作為一實體靶材圓柱之管狀實體靶材5,本文亦將其稱為靶材5。
在本文所揭示實施例之實例中,該實體靶材圓柱5之內徑可大體上等於或大於該靶材座圓柱之中間部之外徑。通常,靶材5可具有約100mm至約200mm、更通常約130mm至約170mm、最通常約145mm之外徑。靶材5之內徑可在約80mm至約180mm、更通常約110mm至約150mm之範圍內,最通常為約133mm。該靶材之厚度可在約2mm至約30mm之範圍內。通常,靶材5可具有約3至20mm、更通常約5至17mm,最通常約6至12mm之厚度。此外,靶材5之長度可在約240mm至約3500mm、更通常約1360mm至約1400mm、約1560至約1600mm、約1660mm至約1700mm、約2010mm至約2050mm、或約2500mm至約2540mm之範圍內。在中間部12中(亦即在側面3之區域中)之背襯管4之外徑可在約80mm至約180mm、更通常約110mm至約150mm之範圍內,最通常為約133mm。背襯管4之內徑可在約60m至約160mm、更通常約90mm至約130mm之範圍內,最通常為約125mm。通常,背襯管4之長度可在約300mm至約3600mm之範圍內,更通常為約1440mm,為約1640mm,為約1740mm,為約2090mm,為約2240mm,為約2580mm,或為約3600mm。在本文所揭示實施例之一些實例中,背襯管4之中間部12之外徑及/或內徑在中間部12之長度上大體上為恒定。此外,在本文所揭示實施例之一些實例中,靶材5之外徑及/或內徑在靶材5之長度上大體上為恒定。
第2圖中進一步示意性地顯示第1圖所圖示之可旋轉靶材1之可旋轉靶材座裝置2,靶材5並未配置於其上。該可旋轉靶材座裝置2包括一背襯管4。在本文所揭示實施例之一些實例中,該背襯管之至少一個末端區具有大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑。
本實例之背襯管4具有一附一側面3之中間部12,且進而具有一第一末端區7及一第二末端區9。在本實例中,第一末端區7及第二末端區9均具有大體上等於通常在背襯管4之側面3處之該中間部之外徑的最大外徑。此外,背襯管4在各末端區7及9中可具有一開口80、19。此外,背襯管4可包括一內部空間6用以容納至少一個選自由磁鐵裝置及冷卻系統組成之群組之元件。
在本文所揭示實施例之一實例中,該可旋轉靶材座裝置可包含至少一個適於將該靶材座圓柱連接至一靶材座之靶材座連接裝置。因此,至少一個靶材座連接裝置可設於該靶材座裝置之第一末端區及第二末端區之至少一處。在本實例之一變形中,至少一個靶材座連接裝置可為可移動者。
在本文所揭示實施例之一些實例中,該靶材座裝置之靶材座圓柱的一個末端區或兩個末端區可具有大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑,且可設有一靶材座連接裝置。
因此,例如在第1圖及第2圖所示之實例中,可將靶材5容易地安裝在第1圖所示之靶材座裝置2處,即使靶材5之內徑大體上等於或僅略大於背襯管4之外徑。此歸因於一事實:以將靶材5安裝於該背襯管之一末端,該末端具有大體上等於或小於該背襯管之中間部之外徑的最大外徑,該靶材座連接裝置可被移動。隨後可將靶材5同心地放置在背襯管4上且將其與背襯管4之旋轉軸平行地推至一所要位置。在本實例中,背襯管4之縱向中心軸為其旋轉軸。
該靶材座連接裝置可適於將該靶材座圓柱連接至一靶材座支撐件。在本文所揭示實施例之一實例中,在第一末端區及第二末端區可各設有一靶材座連接裝置,以將該靶材座圓柱與兩個靶材座支撐件連接。在另一實例中,該等靶材座支撐件之一或兩者可為一旋轉靶材座驅動系統之部分,其可進一步向該靶材座圓柱之內部空間設有例如冷卻流體之供應或電力供應。
根據一典型實例,該靶材座圓柱之第一末端區及第二末端區之至少一者可適於設有一靶材座連接裝置。
根據本文所揭示之一典型實例,該至少一個靶材座連接裝置可包括一適於將該靶材座圓柱連接至一靶材座支撐件之夾持裝置。更通常地,該至少一個靶材座連接裝置可包括一固定接頭及一設於該靶材座圓柱中之固定凹槽,該固定接頭適於至少部分地填充該固定凹槽。此外,該夾持裝置可適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置。在一實例中,該固定接頭可成型為一固定夾鉗,其可在其內周邊上具有一與該固定凹槽相匹配之突起。該靶材座圓柱之第一末端區及第二末端區之至少一者可包括一設於該靶材座圓柱之側面中之固定凹槽。
根據另一實施例,提供一種將一用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至一靶材座支撐件之靶材座連接裝置,其包括至少一個選自由以下元件組成之群組之元件:一固定接頭及一設於該靶材座裝置中之固定凹槽,該固定接頭適於至少部分地填充該固定凹槽;一夾持裝置,其適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置;一固定夾鉗,其包括在該固定接頭中且適於至少部分地填充設於該靶材座裝置中之一固定凹槽;及一固定軸環,其包括在該固定接頭中且具有一內螺紋,其相對應於固定凹槽中所提供之一外螺紋,該固定凹槽係設於該靶材座裝置中,其中該固定凹槽設於該靶材座裝置之一末端。
如第2圖之實例所示,靶材座圓柱4在本文中亦稱為背襯管,在末端區7及9處各包括一凹槽10。如上所述,在本實例中,第一末端區7及第二末端區9均具有大體上等於該中間部之外徑的最大外徑。該等凹槽10設於背襯管4之側面3中。根據本文所揭示實施例之典型實例,凹槽10呈環狀。
根據本文所揭示之實施例適於將一用於濺射設備之靶材座裝置連接至一靶材座支撐件的夾持裝置,以及本文所揭示實施例之包括該夾持裝置作為一靶材座連接裝置的可旋轉靶材座裝置,其分別可用於夾持在塗覆及/或濺射設備之一系統(例如一可旋轉驅動系統)中之一靶材背襯圓柱。
第3a圖及第3b圖圖示本文所揭示實施例之典型實例,其中第2圖中所示之可旋轉靶材座裝置2設有兩個靶材座連接裝置11。在本實例中,背襯管4之第一末端區7及第二末端區9各設有一靶材座連接裝置11。通常,一或兩個靶材座連接裝置11可自背襯管4移動。在本實例中,各靶材座連接裝置11為可移動者且包括一成型為一夾鉗17之固定夾鉗作為一固定接頭及一夾持外殼18作為一夾持裝置。
在第3a圖至第3g圖所示之實例中,夾鉗17及夾持外殼18呈環狀。通常,根據本文所揭示實施例之實例,該靶材座圓柱為一管狀座圓柱,且至少一個選自由該靶材座連接裝置、該夾持裝置、該固定夾鉗、該固定凹槽及該靶材座支撐件連接裝置組成之群組之元件可呈環狀。此外,在本文所揭示之實施例中,該夾持裝置及/或該固定夾鉗可分別包括一分段結構。
第3a圖圖示在一裝配狀態下之可旋轉靶材座裝置2之背襯管4及靶材座連接裝置11的典型實例。在本實例中,背襯管4在各末端區連接至一具有一作為一靶材座支撐件連接裝置之環狀凸緣16的靶材座支撐件15。可旋轉靶材1之管狀實體靶材5未圖示。此外,在各末端區7及9處,一環狀夾鉗17被夾持至該背襯管。各夾鉗17具有一內部突起19及一內徑,以便在各環狀凹槽10中設有相應環狀夾鉗17之一內部突起19。第3c圖之剖視圖圖示環狀夾鉗17之內部突起19及夾鉗17之一接觸側13,其中夾鉗17可鄰接至該靶材座支撐件之凸緣16。此外,在如第3a圖所示之裝配狀態下,在各夾鉗17上裝配一環狀夾持外殼18,其具有大於夾鉗17之外徑之外徑。夾持外殼18在第3f圖中進一步圖示且包括一在各側設置之具有兩個環狀橫跨元件27的外環25。夾持外殼18之寬度(亦即環25之寬度)為使其跨越靶材座支撐件15之夾鉗17與凸緣16之寬度之總和。因此,在該裝配狀態下,該兩個環狀橫跨元件27包圍夾鉗17及凸緣16,其可包括一真空密封件(未圖示),且藉由一夾持張力將背襯管4與靶材座支撐件15相互固定。因此,可使用兩個靶材座連接裝置11在背襯管4與各靶材座支撐件15之間形成一真空密閉密封。
在本文所揭示實施例之一典型實例中,夾持外殼18之寬度(例如環25之寬度)可等於或略小於夾鉗17與凸緣16之寬度之總和。因此,可在夾鉗17和凸緣16之組合與夾持外殼18之間設有一干涉配合或壓入配合。因而,夾持外殼18可固定至夾鉗17及凸緣16上,其藉由壓入配合固定而相互鄰接。
在本實例中,夾鉗17之高度(亦即當夾鉗17裝配於背襯管4上時,垂直於背襯管4之縱軸的夾鉗17之環狀軸環之尺寸)通常與凸緣16之環狀軸環之高度相一致。因此,夾鉗17與凸緣16可在其外周邊對齊。例如,夾鉗17之環狀軸環之高度可在約10mm至約50mm之範圍內。
通常,該夾鉗可包括複數個分段夾鉗元件,及/或該夾持外殼可包括複數個分段夾持外殼。更通常地,該夾鉗可包括環狀分段夾鉗元件,及/或該夾持外殼可包括環狀分段夾持外殼。該夾鉗及該夾持外殼可呈環狀。一般而言,環狀分段元件具有如下之長度及半徑:當相互縱向對齊且被觀察時,觀察者看見一個環。最通常地,該等環狀分段夾鉗元件及/或該等環狀分段夾持外殼可呈半環狀,在本文中亦稱為半圓形。此外,該等分段夾鉗元件或環狀分段夾鉗元件可相互鉸合,及/或該等分段夾持外殼或環狀分段夾持外殼相互鉸合。
根據本文所揭示之實施例,該靶材座連接裝置包括一夾持裝置,其容許將安裝在一靶材座裝置上(例如在一背襯管上)之接合或非接合之實體圓柱狀靶材固定在一塗覆設備之一現有夾持系統中。在實施例之一實例中,該靶材座連接裝置可包括一包括複數個分段夾鉗元件之固定夾鉗及/或一包括複數個分段夾持外殼之夾持外殼。然而,在一些實施例中,該固定夾鉗及/或該夾持外殼可各自製成完整之一件。此件可具有一撓性結構,以容許將該固定夾鉗及/或該夾持外殼分別同心地配置在該靶材座裝置上及安裝在該靶材座裝置中之夾鉗上。
如以上說明,本文所揭示實施例之靶材座連接裝置並不需要彈簧。因此,本文所揭示實施例之靶材座連接裝置當其相互鄰接時可容易地安裝在背襯管及靶材座支撐件上。此外,當使用本文所揭示實施例之靶材座連接裝置時,不需要另外的固定(例如使用螺絲帽)來安裝包括背襯管之可旋轉靶材在塗覆設備中。此外,該靶材座連接裝置之實施例之分段結構亦促進更方便地將背襯管安裝在靶材座支撐件上。
在第3a圖至第3g圖中之實例中,夾鉗17具有兩個半圓形夾鉗元件21作為分段夾鉗元件21,其係利用一鉸鏈20相互鉸合。該半圓形夾鉗元件21可閉合成一環,如顯示夾鉗17之第3d圖及第3e圖之俯視圖所圖示。此外,如第3f圖及第3g圖所示,本實例之夾持外殼18包括兩個半圓形夾持外殼23作為分段夾持外殼。半圓形夾持外殼23在一鉸鏈24處以鉸鏈相互接合且可閉合成一環,例如形成一夾鉗軸環。根據本實例,該等半圓形夾持外殼23可利用一緊固件45而相互緊固。
根據本文所揭示實施例之本實例,夾鉗17之分段結構容許將該兩個半圓形夾鉗元件21圍繞背襯管4而閉合,同時將突起19定位在環狀凹槽10中。在本文所揭示實施例之實例中,適當選擇閉合夾鉗17之內徑(例如其大體上等於或略大於凹槽10之直徑)以提供夾鉗17與凹槽10之良好匹配。
此外,本文描述之實施例之夾持裝置具有容許將該夾持裝置圍繞該靶材座連接裝置之固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置安裝的尺寸及內徑。例如,如第3a圖中所示,當夾鉗17與凸緣16相互鄰接時,夾持外殼18之寬度及內徑允許其圍繞靶材座支撐件15之夾鉗17及凸緣16安裝。在第3f圖及第3g圖所示之一實例中,夾持外殼18包括兩個半圓形夾持外殼23,各具有一外半圓形元件28及側面附著在該外半圓形元件28上之兩個側面半圓形橫跨元件29。當閉合夾持外殼18時由外半圓形元件28形成之外環25可具有大於夾鉗17之外徑及凸緣16之外徑的內徑。此外,當閉合夾持外殼18時由半圓形橫跨元件29形成之兩個環狀橫跨元件27之內徑可匹配於或大於背襯管4及靶材座支撐件15之一凸緣插口之外徑,如第3a圖所示,凸緣16係分別安裝於該凸緣插口中。
根據本文所揭示實施例之一實例,該靶材座連接裝置及/或該靶材座支撐件可包括倒角(chamfered)夾持區。例如,該靶材座連接裝置之一夾鉗及/或該靶材座支撐件之一連接件(例如一連接環或一環狀軸環)可具有倒角外夾持區。此外,該靶材座連接裝置之一夾持裝置(例如夾持外殼18)可具有倒角內夾持區。如第4圖所圖示,根據第3a圖至第3g圖中所示實例之一變形,在背襯管4上之夾鉗17以及靶材座支撐件15之凸緣16可具有倒角邊,從而分別形成倒角側面30、31。夾鉗17之倒角側面30與夾鉗17之接觸側13相對安置。此外,凸緣16之倒角側面31與凸緣16之接觸側(亦即凸緣側,其將與夾鉗17之接觸側13接觸)相對定位。此外,當夾鉗17與凸緣16鄰接時,夾持外殼18之環狀橫跨元件27可相應地傾斜,以便橫跨倒角側面30及31。因此,當安裝在背襯管45的夾鉗17及可包括一真空密封件(未圖示)的凸緣16鄰接且夾持外殼18被夾持在該夾箝17與該凸緣16上時,環狀橫跨元件27可以真空密閉方式固定夾鉗17及凸緣16。
當將夾鉗17安裝在背襯管4上時,夾鉗17之倒角側面30可具有一與背襯管4之側面3有關之傾斜角,其範圍在約100°與約120°之間,通常為約105°。凸緣16之倒角側面31可具有一與靶材座支撐件15之凸緣插口有關之傾斜角,其範圍在約100°與約120°之間,通常為約105°。夾持外殼18之環狀橫跨元件27可具有一與環25有關之與側面30、31之傾斜角相比一致或甚至更小之傾斜角。因此,當將夾持外殼18裝配在夾鉗17上且凸緣16相互鄰接時,可形成一夾持張力。例如,一橫跨元件27可具有一與環25有關之傾斜角,其範圍在約95°與約120°之間,通常為約105°,另一橫跨元件27可有一與環25有關之傾斜角,其範圍在約95°與約120°之間,通常為約105°。因此,當夾持外殼18經由壓入配合固定而夾持在夾鉗17與凸緣16之組合上時,橫跨元件27之傾斜角可增加且隨後可與側面30、31之傾斜角相一致,因此提供一夾持張力。
由於該等倒角夾持區,可促進該靶材座連接裝置之安裝。例如,在第4圖之實例中,倒角側面30、31及倒角環狀橫跨元件27容許將夾持外殼18推進至鄰接之夾鉗17及凸緣16上。因此,導致方便地將可旋轉靶材座裝置2固定至靶材座支撐件15。
根據本文所揭示實施例之另一實例,該可旋轉靶材座裝置之至少一個靶材座連接裝置可包括一靶材固定裝置,該靶材固定裝置視情況為一設在固定夾鉗處之間隔物裝置。一實例在第5圖中圖示且與第3a圖至第3g圖中所圖示者之不同之處在於一間隔物40作為該間隔物裝置附著在夾鉗17上。如第5圖所示,當將背襯管4與兩個包括間隔物40之夾鉗17裝配時,間隔物40設於鄰接背襯管4之側面3上。因此,當將靶材5同心地設在側面3上時,其在本實例中定位於兩個將靶材5固定於其位置之間隔物40之間。間隔物40之一或兩者可呈環狀。在一替代實例中,間隔物40之一或兩者可各包括複數個側面附著在夾鉗上之間隔物元件。根據另一實例,間隔物40之一或兩者可為除夾鉗17外單獨設置的間隔物環。間隔物40之寬度(亦即當將夾鉗17裝配於背襯管4上時在與背襯管4之旋轉軸平行之方向上之寬度)可在約2mm至約50mm之範圍內,且更通常可在約20mm至約40mm之範圍內。間隔物40之高度(亦即與該間隔物之寬度垂直且當將夾鉗17裝配於背襯管4上時與背襯管4之側面3垂直之尺寸)可在約15mm至約50mm之範圍內。
此外,該一或多個間隔物40在夾持外殼18與靶材5之間提供間隙。該等間隙可具有通常約2mm至約50mm、更通常在約20mm至約40mm之範圍內之寬度。因此,靶材5之與背襯管4之旋轉軸(亦即,在本實例中,縱軸)平行的熱膨脹係可能的,且可避免此種熱膨脹之有害效應。此外,可達成管狀實體靶材5與可旋轉靶材1之旋轉軸平行之一最佳位置,例如中心位置。間隔物40將靶材5保持在一固定位置,儘管在夾持外殼18與靶材5之間提供間隙。
在本實例之一變形中,當靶材5安置在側面3上時,在該背襯管中,僅一個包括具有間隔物40之夾鉗17的固定裝置可設在背襯管4之一末端。例如,可將無間隔物之夾鉗17安裝在背襯管4之另一末端區。因此,在靶材5與該連接裝置之夾持外殼18之一之間提供一間隙,該連接裝置將背襯管4連接至靶材座支撐件15。
例如,根據本文所揭示實施例之典型實例,當將可旋轉靶材1垂直裝配在一用於濺射應用之塗覆裝置中時,將包括間隔物40之一夾鉗17設在背襯管4之末端區,其安置在包括背襯管4及靶材5之可旋轉靶材1之底部。此舉尤其可用於非接合靶材,因為間隔物40充當一固定肩部以固持非接合靶材在其位置。更特定而言,當將非接合靶材與一或多個接合環安裝在一起時,該(等)接合環可分別藉由(多個)間隔物40保持在其位置中。
因此,實施例及本文所揭示實施例之實例適於將可旋轉靶材1大體垂直裝配在一濺射設備上。此舉尤其適用於包括一或多個間隔物40之靶材座連接裝置之實例,因為該(等)間隔物40分別提供管狀實體靶材5之一可靠定位、對準、居中及恰好固定。
在第5圖所示靶材座連接裝置之實例的又一變形中,包括間隔物40之夾鉗17及靶材座支撐件15之凸緣16可具有如上文關於第4圖所述之倒角側面。此外,當凸緣16與夾鉗17鄰接時,夾持外殼18之環狀橫跨元件27可相應地傾斜,以便橫跨倒角側面30及倒角側面31。此外,可相應地調適當閉合夾持外殼18時藉由側面半圓形橫跨元件29形成之兩個環狀橫跨元件27的內徑。例如,在裝配狀態下,面向靶材之夾持外殼18之橫跨元件27之內徑可匹配於或大於間隔物40之外徑。
作為本文所揭示實施例中所使用之靶材材料的典型實例,靶材5可包括氧化銦錫(ITO)或矽,例如5N或3N品質,其可與硼摻雜,例如Z-600。
根據另一實施例,提供一種製造用於濺射設備之可旋轉靶材的方法,其包括以下步驟:提供一用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一附一側面之中間部,且另外具有一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑;提供一實體靶材圓柱;且將該實體靶材圓柱配置在該靶材座圓柱之該側面上。該方法例如在配置該實體靶材圓柱之步驟後可進一步包括一步驟:在該靶材座圓柱之該第一末端區及該第二末端區之至少一者處安裝一靶材座連接裝置。
通常,該實體靶材圓柱可為一空心圓柱或複數個相互鄰接設置之空心實體圓柱。該實體靶材圓柱或該複數個實體圓柱可同心地配置在該靶材座圓柱上。通常,根據以上另一實施例藉由將該實體靶材圓柱與靶材座圓柱組合,形成該可旋轉靶材。該可旋轉靶材可用於一濺射設備中之一濺射靶材的大體垂直裝配。
在本文所述實施例之一實例中,提供第2圖中所示之背襯管4。隨後,將管狀實體靶材5同心地放置在例如第二末端區9上,平行於背襯管4之中心軸(亦即,在本實例中,一旋轉軸)移動,且中心地安置於其上。隨後,在背襯管4之末端區7及末端區9處可同心地安置一包括兩個鉸接之半圓形夾鉗元件21的夾鉗17作為靶材座連接裝置。在此位置,各夾鉗17之突起19填充背襯管4之凹槽10中之一者。藉由圍繞夾鉗17及該靶材座支撐件之鄰接凸緣16閉合,各夾鉗17可固定在背襯管4上,夾持外殼18之一且藉由緊固件45將其扣緊。因此,管狀實體靶材5安置於夾鉗17之間,提供可旋轉靶材1。
在以上實例之一變形中,在同心地放置管狀靶材5於背襯管4上之後,僅一個固定夾鉗17可安裝在背襯管4之一末端區。此舉可例如當復原可旋轉靶材1以放置一耗竭之靶材5時(如將在下文描述)進行。若背襯管4之另一末端區已設有一靶材座連接裝置或任何其他末端件,例如一焊接至背襯管4之另一末端區的凸緣,則亦可使用該方法之上述變形。
根據又一實施例,可提供一種復原用於濺射設備之可旋轉靶材之方法,包括以下步驟:提供一用於濺射設備之可旋轉靶材,該可旋轉靶材包括一可旋轉靶材座裝置,其包括一靶材座圓柱,其具有附一側面之中間部,且另外具有一第一末端區及一與第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑,該可旋轉靶材座裝置具有一配置在該靶材座圓柱之側面上之實體靶材圓柱及一配置在該至少一個末端區上之靶材座連接裝置;將該靶材座連接裝置自該靶材座圓柱之該至少一個末端區卸下;將該實體靶材圓柱卸下;提供另一實體靶材圓柱;將該另一實體靶材圓柱配置在該靶材座圓柱之該側面上;及將該靶材座連接裝置安裝在該靶材座圓柱之該至少一個末端區。本實施例之靶材座連接裝置可為如上所述任何實例之包括夾鉗17及夾持外殼18之一固定夾鉗。
例如,背襯管4之第二末端區9具有一大體上等於或小於中間部12之外徑的最大外徑。因此,一管狀實體靶材5(例如其可具有一內徑,該內徑略大於該背襯管之中間部之外徑)可藉由將其同心地配置於第二末端區9上而放置在背襯管4之側面3上。隨後,可藉由將其沿著該背襯管之旋轉軸(亦即,在本實例,縱軸)在背襯管4上移動或推動而將其安置在所要位置。
此外,該實體靶材圓柱可為空心圓柱。該實體靶材圓柱可同心地配置在該靶材座圓柱上。通常,根據以上又一實施例,藉由處理且組合該實體靶材圓柱與靶材座圓柱,復原該旋轉靶材。
本文所揭示之實施例容許將一圓柱狀靶材(其可為一實體靶材材料管)設於一背襯圓柱(例如一背襯管)上,因為存取該背襯圓柱之至少一個末端是可能的。此歸因於該背襯圓柱之結構,其中該背襯圓柱之至少一個末端區具有一大體上等於或小於該背襯圓柱之中間部之外徑的最大外徑。該靶材可經設計用作一接合或非接合靶材。用本文所揭示之實施例,一具有一與該中間部之側面之外徑相配之內徑的圓柱狀或管狀實體靶材可容易地放置在該背襯圓柱上。因此,在實施例之一些實例中,可避免一實體靶材與一背襯圓柱之昂貴接合,不再需要使用昂貴之接合材料。在另一實例中,一實體靶材可藉由接合設於濺射陰極之背襯管上。此外,與用於噴射靶材之背襯管相反,使用本文所揭示之實施例使得將複數個圓柱狀或管狀實體靶材或用於接合或非接合靶材之靶材套管排列於一背襯管上成為可能。此外,根據本文所揭示之實施例,該可旋轉靶材座裝置及背襯管分別可重複使用且可僅藉由調換該等圓柱狀靶材而復原。此舉尤其適於具有在塗覆應用期間快速耗竭之靶材材料之可旋轉靶材。此外,該可旋轉靶材座裝置可用於將一可旋轉靶材大體上垂直裝配在一濺射設備上。
此外,由於根據實施例之一些實例可提供一或多個具有一靶材固定裝置之靶材座連接裝置,其容許在該圓柱狀實體靶材與該靶材座連接裝置有一間隙,因此在該背襯圓柱材料與該靶材料之間的熱膨脹係數可不同。此外,在實施例之實例中,其包括該靶材座連接裝置,該靶材可固定至該背襯圓柱或恰好居中或在該背襯圓柱上在所要位置對齊。
根據本文所揭示實施例之一實例,該靶材座連接裝置可包括一固定夾鉗,其包括複數個適於閉合成一夾鉗環之環狀分段夾鉗元件;以及一夾持裝置,其包括複數個適於包圍複數個閉合成一夾鉗環之環狀分段夾鉗元件的環狀分段夾持外殼及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐環,該複數個環狀分段夾鉗元件之至少一個包括一調整裝置,該調整裝置適於將該複數個環狀分段夾持外殼裝配在該鄰接夾鉗環及靶材座支撐環上,以便將該等環狀分段夾持外殼及該等環狀分段夾鉗元件設於相互偏置之周邊位置上,其中該調整裝置視情況設在該等環狀分段夾鉗元件之至少一個的外周邊上。
例如,在第3a圖至第3g圖所示之靶材座連接裝置11之實例中,替代夾鉗17及夾持外殼18,該固定夾鉗可包括第6a圖至第6e圖中所示之夾鉗170及夾持外殼180。作為一調整裝置,可將一銷172設在夾鉗170之一半圓形元件21之外周邊上,例如在一夾鉗元件21之末端之間,通常在橫跨元件21之半圓的中部,如第6b圖及第6c圖所示。夾持外殼180可在兩個半圓形夾持外殼23之自由端包括兩個開口182,在各自由端184處各有一個開口182。在第6e圖之剖視圖中顯示夾持外殼180,圖示開口182之位置。如第6d圖所示,在閉合狀態下,開口182在夾持外殼180之自由端184之界面上形成一組合開口183。當夾持外殼180圍繞夾鉗170閉合時,可形成銷172以填充組合開口183,其為開口182之一組合。
或者,在以上實例之一變形中,該調整裝置可為一標記(未圖示),例如一有色點,代替銷172定位於夾鉗170之一個半圓形元件21之外周邊上。可形成該夾持外殼180,例如其可具有夾持外殼23之長度,以當其閉合時在自由端184之間提供一間隙。該間隙允許當夾持外殼180圍繞夾鉗170閉合時對一下伏半圓形元件21之外周邊進行光學檢測,以檢查該標記是否位於夾持外殼180之該間隙下面。
在另一實施例中,提供一種將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之方法,包括以下步驟:提供一用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側表面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑;提供一靶材座連接裝置,其包括一固定夾鉗,該固定夾鉗包括複數個環狀分段夾鉗元件,其適於閉合成一夾鉗環;以及複數個環狀分段夾持外殼,其適於包圍複數個閉合成一夾鉗環之環狀分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐環,該複數個環狀分段夾鉗元件之至少一者視情況包括一調整裝置,該調整裝置適於將該複數個環狀分段夾持外殼裝配在該鄰接夾鉗環與靶材座支撐環上,以使該等環狀分段夾持外殼及該等環狀分段夾鉗元件設於相互偏置之周邊位置上,其中該調整裝置視情況設在該等環狀分段夾鉗元件之至少一個的外周邊上;藉由使該複數個環狀分段夾鉗元件閉合成一夾鉗環而將該靶材座連接裝置裝配在該可旋轉靶材座裝置之第一末端區及第二末端區之至少一者;將該夾鉗環鄰接至一靶材座支撐件之一靶材座支撐環;及將該複數個環狀分段夾持外殼裝配於該鄰接夾鉗環及靶材座支撐環上,以便將該等環狀分段夾持外殼及該等環狀分段夾鉗元件設於相互偏置之周邊位置上。
因此,根據第6a圖至第6e圖中所圖示之實例,可提供背襯管4及包括夾鉗170及夾持外殼180之靶材座連接裝置。隨後,藉由將半圓形夾鉗元件21圍繞背襯管4之凹槽10閉合而將夾鉗170裝配在背襯管4之第一末端區及第二末端區之一中。之後,將夾鉗環170鄰接至靶材座支撐件15之靶材座支撐環16。夾持外殼180之半圓形夾持外殼23圍繞閉合夾鉗170及鄰接靶材座支撐環16安置,以便使銷172定位於夾持外殼180之開口183中。隨後,使用緊固件45將夾持外殼180圍繞閉合夾鉗17及鄰接靶材座支撐環16緊固。由於銷172定位於在自由端184之間的界面處之開口183中,故可使夾持外殼18之半圓形夾持元件23及夾鉗17之半圓形元件21設於相互偏置之周邊位置上。例如,如第6b圖所示,若銷172附著在夾鉗元件21之半圓之中部,則半圓形元件23及半圓形夾持元件21可具有一90°之半徑偏移。這意謂著避免將在半圓形夾鉗元件21之間的界面安置於在半圓形夾持外殼23之間的界面之下。因此,夾持壓力可均勻分佈。此外,設背襯管4至靶材座支撐件16之一真空密閉夾具,其可包括一真空密封件(未圖示),且可避免定位於該夾具中之漏洞。
適用於以上實例之變形的相同物包括一標記作為一調整裝置。為了提供一偏移,當將夾持外殼180圍繞夾鉗170裝配時,操作者將背襯管4及本實例之靶材座連接裝置安裝在靶材座支撐件15上必須確保該標記在閉合之半圓形夾持外殼23之間的間隙中可見。
根據另一實施例,提供一種將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之靶材座連接裝置,其包括一固定接頭,該固定接頭包括一固定軸環,其具有與設於一在該靶材座裝置中所設之固定凹槽中的外螺紋相對應之內螺紋,其中該固定凹槽設於該靶材座裝置之一末端。此外,該至少一個靶材座連接裝置可包括一夾持裝置,其適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置。
第7圖示意性地顯示根據本文所揭示實施例之一實例的一可旋轉靶材座裝置之一靶材座圓柱200的剖視圖。本實例與第2圖所示實例之不同之處在於末端區7包括一安置於末端區100之最外端的凹槽100而不是凹槽10。因此,凹槽100呈環狀,其設於靶材座圓柱200之最外端且圍繞靶材座圓柱200之開口80。凹槽100設有在凹槽100之周邊中之一外螺紋101。
第8a圖及第8b圖示意性地圖示第7圖中所示之可旋轉靶材座裝置的剖視圖,提供一根據本文所揭示實施例之靶材座連接裝置的實例。如第8a圖所示,本實例之靶材座連接裝置包括一固定軸環270,本文亦稱為軸環270,其可在凹槽100處裝配於靶材座圓柱200上。為此,固定軸環270具有一與設於靶材座裝置200之凹槽100中之外螺紋101相對應的內螺紋271。如第8b圖所示,當軸環270與凸緣16相互鄰接時,第3f圖及第3g圖所示之夾持外殼18作為一夾持裝置可裝配在安裝於靶材座圓柱200上之軸環270及靶材座支撐件15之凸緣16上。在本文所揭示實施例之實例中,適當地選擇固定軸環270之內徑,例如大體上等於或略大於凹槽100之直徑,以提供對軸環270及凹槽100之良好匹配。此外,夾持外殼18具有當軸環270與凸緣16相互鄰接時容許將夾持外殼18圍繞軸環270及靶材座支撐件15之凸緣16安裝的尺寸及內徑。在本實例中,夾持外殼18包括兩個半圓形夾持外殼23,各自具有一外半圓形元件28及兩個側面附著在半圓形元件28上之倒角側面半圓形橫跨元件29。當閉合夾持外殼18時由外半圓形元件28形成之外環25可具有一大於軸環270之外徑及凸緣16之外徑的內徑。此外,當閉合夾持外殼18時由側面半圓形橫跨元件29形成之兩個環狀橫跨元件27之內徑可匹配於或大於背襯管4及靶材座支撐件15之一凸緣插口的外徑,在該凸緣插口中分別裝配凸緣16。
第9圖亦顯示固定軸環270,其圖示內螺紋271。此外,固定軸環270可具有一倒角側面30及一間隔物40,如上文關於第4圖之實例所述。在實施例之本實例中,固定軸環270及靶材座支撐件15之凸緣16具有倒角邊,從而分別形成倒角側面30、31。固定軸環270之倒角側面30與軸環270之接觸側13相對安置。此外,凸緣16之倒角側面31與凸緣16之接觸側(亦即將與軸環270之接觸側13接觸之凸緣側)相對定位。此外,當軸環270與凸緣16相鄰接時,夾持外殼18之環狀橫跨元件27可相應地傾斜,以便橫跨倒角側面30及31。因此,當安裝在背襯管45的軸環270及可包括一真空密封件(未圖示)的凸緣16上相互鄰接且將夾持外殼18夾持在該軸環270與凸緣16上時,環狀橫跨元件27可以真空密閉方式固定軸環270及凸緣16。
在第8c圖中,顯示固定軸環270之一變形,該變形例包括一或多個設於固定軸環270之外周邊中的凹槽272,例如複數個孔272。孔272意欲容許一工具之嚙合,以促進將固定軸環270裝配在靶材座圓柱200之凹槽100中。
根據本文所揭示實施例之其他實例(未圖示),上述固定軸環270可不設有一倒角側面30及/或一間隔物40。在此情況下,夾持外殼18經調適且可如第3a圖所示形成。
此外,在實施例之一些實例(未圖示)中,第7圖至第9圖之實例中所使用之夾持裝置可包括複數個分段夾持外殼,其適於包圍該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置,例如如上文關於第3f圖及第3g圖所述及如第3f圖及第3g圖所示。
在實施例之另一實例(未圖示)中,第8a圖至第8c圖及第9圖所示之固定軸環270可包括一狹長間隔物40。該狹長間隔物40可具有一區域,該區域例如與倒角側面30鄰接,具有較小之外徑以嚙合夾持外殼18。
根據本文所述實施例之其他實例,該靶材座圓柱可在各末端區7及9中設有一如上所述之靶材座連接裝置。例如,該靶材座圓柱可在兩末端區中設有一凹槽100、一固定軸環270及/或一夾持外殼18或180。在另一實例中,該靶材座圓柱可在兩末端區中設有一凹槽10、一固定夾鉗17或170及/或一夾持外殼18或180。在另一實例中,該靶材座圓柱可在一末端區設有一凹槽100、一固定軸環270及/或一夾持外殼18或180,且在另一末端區設有一凹槽10、一固定夾鉗17或170及/或一夾持外殼18或180。在其他實例中,該靶材座圓柱可在僅一末端區7或9中設有一如上所述之靶材座連接裝置。例如,該靶材座圓柱可在僅一末端區設有一凹槽100、一固定軸環270及/或一夾持外殼18或180,或設有一凹槽10、一固定夾鉗17或170及/或一夾持外殼18或180。
此外,在本文所述實施例之一些實例中,間隔物40可在其自由端具有一在約15mm至約50mm之範圍內的高度,亦即當裝配在靶材座圓柱4上時垂直於靶材座圓柱4之側面3之尺寸,以可靠地支撐該靶材圓柱。此情形在大體上垂直裝配組合之可旋轉靶材的情況下,當間隔物40為連接至一底部靶材座支撐件之底部靶材座連接裝置之部分且例如直接定位於該靶材圓柱之下或該底部靶材圓柱之下。此外,在垂直裝配組合之可旋轉靶材的情況下,可將該靶材座圓柱保持於其上部末端區,該上部末端區具有在一上部靶材座支撐件處之一第二靶材座連接裝置。在此情況下,可在該靶材圓柱之上端或最外面之靶材圓柱與該靶材座連接裝置之間提供一間隙。
在實施例之一典型實例中,該組合之可旋轉靶材大體垂直裝配。通常,在一大體垂直裝配的情況下,該可旋轉靶材可藉由一包括一根據本文所述實施例之實例的固定軸環之靶材座連接裝置固持在其下端,且可藉由一包括一根據本文所述實施例之實例的固定夾鉗之靶材座連接裝置固持在其上端。
根據一實施例,提供一種用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑。
根據以上一實施例之修改例,該靶材座裝置進一步包括至少一個靶材座連接裝置,其適於將該靶材座圓柱連接至一靶材座支撐件且係可移動者。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該第一末端區及該第二末端區之至少一者適於提供有該等靶材座連接裝置之一。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該至少一個靶材座連接裝置包括一夾持裝置,其適於將該靶材座圓柱連接至一靶材座支撐件。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該至少一個靶材座連接裝置包括一固定接頭及一設於該靶材座圓柱中之固定凹槽,該固定接頭適於至少部分地填充該固定凹槽。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該至少一個靶材座連接裝置包括一夾持裝置,該夾持裝置適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該固定接頭包括一固定夾鉗,該固定夾鉗適於至少部分地填充該固定凹槽。根據以上一實施例及其修改例之任一者之另一修改例,該固定接頭包括一固定軸環,該固定軸環具有一內螺紋,其與設於該固定凹槽中之一外螺紋相對應,其中該固定凹槽設於該靶材座圓柱之一末端。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該第一末端區及該第二末端區之至少一者包括一固定凹槽,該固定凹槽設於該靶材座圓柱之側面中。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該靶材座連接裝置包括至少一個選自由以下元件組成之群組之元件:一或該固定夾鉗,其具有適於閉合成一夾鉗之複數個分段夾鉗元件;一或該夾持裝置,其具有適於包圍一或該固定夾鉗及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的一夾持外殼;一或該夾持裝置,其具有適於包圍複數個閉合成一或該固定夾鉗之分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的一夾持外殼;一或該夾持裝置,其具有適於包圍一或該固定夾鉗及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的複數個分段夾持外殼;一或該夾持裝置,其具有適於包圍複數個閉合成一或該固定夾鉗之分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的複數個分段夾持外殼;一或該夾持裝置,其具有適於包圍一或該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置之一夾持外殼;以及一或該夾持裝置,其具有適於包圍一或該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的複數個分段夾持外殼。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該複數個分段夾鉗元件係相互鉸合及/或該複數個分段夾持外殼係相互鉸合。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之修改例,該靶材座圓柱為一管狀座圓柱,且其中至少一個選自由該靶材座連接裝置、該夾持裝置、該固定接頭、該固定凹槽及該靶材座支撐件連接裝置組成之群組的元件呈環狀。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,至少一個靶材座連接裝置包括一靶材固定裝置,該靶材固定裝置視情況為一間隔物裝置,其設於至少一個選自由該靶材座連接裝置之一固定接頭、一固定夾鉗及一固定軸環組成之群組之元件上。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該可旋轉靶材座裝置適於將一可旋轉靶材大體垂直裝配在一濺射設備中。
根據以上一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該靶材座圓柱包括一內部空間,其用以容納至少一個選自由磁鐵裝置及冷卻系統組成之群組之元件。
根據另一實施例,提供一種用於濺射設備之可旋轉靶材,其包括一適於在其上接收一實體靶材圓柱之可旋轉靶材座裝置,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑;該可旋轉靶材座裝置具有一配置在該靶材座圓柱之該側面上之實體靶材圓柱。
根據以上另一實施例之一修改例,該可旋轉靶材座裝置具有至少一個安裝在該第一末端區及該第二末端區之至少一者上之靶材座連接裝置。
根據以上另一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該靶材座連接裝置之一靶材固定裝置在該實體靶材圓柱與該靶材座支撐件之間提供一間隙。
根據以上另一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該實體靶材圓柱呈管狀且定位於該第一末端區與該第二末端區之間。
根據以上另一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該實體靶材圓柱藉由之至少一個而調整(例如居中),該等靶材座連接裝置是藉由鄰接安置至該等靶材固定裝置之至少一個而操作。
根據以上另一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該實體靶材圓柱之內徑大體上等於或大於該靶材座圓柱之該中間部之外徑。
根據另一實施例,提供一種塗覆設備,其包括一可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括:一靶材座圓柱,具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑。該實施例可與本文所揭示之任何其他實施例或其修改例結合。
根據又一實施例,提供一種製造用於濺射設備之可旋轉靶材之方法,包括以下步驟:提供一可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑;提供一實體靶材圓柱;將該實體靶材圓柱配置在該靶材座圓柱之該側面上;視情況,在配置該實體靶材圓柱之步驟後,包括一步驟:在該靶材座圓柱之該第一末端區及該第二末端區之至少一者上安裝一靶材座連接裝置。本實施例可與本文所揭示之任何其他實施例或其修改例結合。
根據又一實施例,提供一種將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之靶材座連接裝置,其包括至少一個選自由以下元件組成之群組之元件:一固定接頭及一設於該靶材座裝置中之固定凹槽,該固定接頭適於至少部分地填充該固定凹槽;一夾持裝置,其適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置;一固定夾鉗,其包括在該固定接頭中且適於至少部分地填充一設於該靶材座裝置中之固定凹槽;以及一固定軸環,其包括在該固定接頭中且具有一內螺紋,其與設於一在該靶材座裝置中設之固定凹槽中的一外螺紋相對應,其中該固定凹槽設於該靶材座裝置之一末端。
根據以上另一實施例之一修改例,該靶材座連接裝置包括至少一個選自由以下元件組成之群組之元件:固定夾鉗,其具有複數個適於閉合成一夾鉗之分段夾鉗元件、夾持裝置,其具有一適於包圍該固定夾鉗及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的夾持外殼;夾持裝置,其具有一適於包圍複數個閉合成一固定夾鉗之分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的夾持外殼;夾持裝置,其具有複數個適於包圍該固定夾鉗及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的分段夾持外殼;夾持裝置,其具有複數個適於包圍複數個閉合成該固定夾鉗之分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的分段夾持外殼;夾持裝置,其具有一適於包圍該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的夾持外殼;以及夾持裝置,其具有複數個適於包圍該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置的分段夾持外殼。
根據以上另一實施例之一修改例,該固定夾鉗包括適於閉合成一夾鉗環之複數個環狀分段夾鉗元件,且該夾持裝置包括適於包圍閉合成一夾鉗環之該複數個環狀分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接環的複數個環狀分段夾持外殼,該複數個環狀分段夾鉗元件之至少一個包括一適於將該複數個環狀分段夾持外殼裝配於該鄰接夾鉗環及靶材座支撐環上的調整裝置,以便該等環狀分段夾持外殼及該等環狀分段夾鉗元件設於相互偏置之周邊位置上,其中該調整裝置視情況設於該等環狀分段夾鉗元件之至少一個之外周邊上。
根據以上又一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該複數個分段夾鉗元件或環狀分段元件係相互鉸合,且其中該複數個分段夾持外殼或環狀分段夾持外殼係相互鉸合。
根據以上又一實施例及其修改例之任一者之一修改例,該靶材座連接裝置包括一靶材固定裝置,該靶材固定裝置視情況為一間隔物裝置,該間隔物裝置設於至少一個選自由固定接頭、固定夾鉗及固定軸環組成之群組之元件上。
根據一實施例,提供一種將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之方法,其包括以下步驟:提供一可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置包括一靶材座圓柱,其具有一側面、一中間部、一第一末端區及一與該第一末端區相對之第二末端區,其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之外徑的最大外徑;提供一靶材座連接裝置,其包括一固定夾鉗,其包括複數個環狀分段夾鉗元件,該複數個環狀分段夾鉗元件適於閉合成一夾鉗環;以及複數個環狀分段夾持外殼,該複數個環狀分段夾持外殼適於包圍閉合成一夾鉗環之複數個環狀分段夾鉗元件及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐環;藉由將該複數個環狀分段夾元件閉合成一夾鉗環而將該靶材座連接裝置裝配在該可旋轉靶材座裝置之該第一末端區及該第二末端區之至少一者上;將該夾鉗環鄰接至一靶材座支撐件之一靶材座支撐環;及將該複數個環狀分段夾持外殼裝配在該鄰接夾鉗環及靶材座支撐環上,以便將該等環狀分段夾持外殼及該等環狀分段夾鉗元件設於相互偏置之周邊位置上。本實施例可與本文揭示之任何其他實施例或其修改例結合。
根據以上實施例及其修改例之任一者之一修改例,該可旋轉靶材座裝置適於將一可旋轉靶材大體垂直裝配在一濺射設備中。
根據以上實施例及其修改例之任一者之一修改例,該靶材座圓柱包括一內部空間,其用以容納至少一個選自由磁鐵裝置及冷卻系統組成之群組之元件。
根據以上實施例及其修改例之任一者之一修改例,該實體靶材圓柱之內徑大體上等於或大於該靶材座圓柱之中間部之外徑。
書寫之描述使用實例來揭示本發明(包括最佳方式)且亦使任何熟習此項技術者能夠製作及使用本發明。雖然已根據各種具體實施例描述了本發明,但熟習此項技術者將認識到本發明可以在申請專利範圍之精神及範疇內之修改例來實施。尤其是,實施例之實例及上述實施例或其修改例之相互非排斥特徵結構可相互組合。本發明之專利範疇係由申請專利範圍來限定,且可包括熟習此項技術者思及之其他實例。此類其他實例意欲在申請專利範圍之範疇內。
雖然上述係針對本發明之實施例,但本發明之其他及更多實施例可在不脫離本發明之基本疇圍之情況下加以設計,且其範疇係由以下申請專利範圍所決定。
1...可旋轉靶材
2...可旋轉靶材座裝置
3...側面
4...靶材座圓柱/背襯管
5...管狀實體靶材/靶材/實體靶材圓柱
6...內部空間
7...第一末端區
9...第二末端區
10...凹槽
11...靶材座連接裝置
12...中間部
13...接觸側
15...靶材座支撐件
16...環狀凸緣/凸緣/鄰接靶材座支撐件環
17...夾鉗
18...夾持裝置/夾持外殼
19...開口/內部突起/突起
20...鉸鏈
21...半圓形夾持元件
23...夾持外殼
24...鉸鏈
25...環
27...環狀橫跨元件
28...外半圓形元件
29...橫跨元件
30...倒角側面
31...倒角側面
40...狹長間隔物
45...緊固件
80...開口
100...凹槽
101...外螺紋
170...夾鉗/夾鉗環
172...銷
180...夾持外殼
182...開口
183...組合開口
184...自由端
200...靶材座圓柱
270...固定軸環/軸環/固定接頭
271...內螺紋
272...凹槽/孔
因此,可詳細瞭解實施例之以上詳述特徵結構,以上簡略概述之本發明之實施例的更特定描述可參照實施例之實例。以下描述與本發明之實施例相關之隨附圖式。上述實施例中之一些將在以下典型實施例之描述中參照以下圖式更詳細地描述,其中:
第1圖示意性地顯示根據本文所揭示實施例之一實例的一用於濺射設備之包括一實體靶材圓柱之可旋轉靶材座裝置之剖視圖;
第2圖示意性地顯示第1圖中所示實例之可旋轉靶材座裝置的靶材座圓柱之剖視圖;
第3a圖至第3g圖示意性地圖示設有一靶材座連接裝置之一實例的第1圖所示之可旋轉靶材座裝置,以及根據本文所揭示之實施例的靶材座連接裝置之剖視圖及俯視圖;
第4圖示意性地顯示設有根據本文所揭示實施例之靶材座連接裝置的另一實例的第1圖所示之可旋轉靶材座裝置之剖視圖;
第5圖示意性地顯示設有根據本文所揭示實施例之靶材座連接裝置的另一實例的第1圖所示之可旋轉靶材座裝置之剖視圖;
第6a圖至第6e圖示意性地顯示根據本文所揭示實施例之靶材座連接裝置的另一實例的剖視圖及俯視圖;
第7圖示意性地顯示根據本文所揭示實施例之一實例的可旋轉靶材座裝置之靶材座圓柱之剖視圖;
第8a圖至第8c圖示意性地圖示設有根據本文所揭示實施例之靶材座連接裝置之實例的第7圖所示之可旋轉靶材座裝置之剖視圖;
第9圖示意性地顯示根據第8a圖中所顯示之實例的靶材座連接裝置之剖視圖。
設想一實施例之要素可在不進一步詳述之情況下在其他實施例中有利地利用。
2...可旋轉靶材座裝置
3...側面
4...背襯管/靶材座圓柱
6...內部空間
7...第一末端區
9...第二末端區
10...凹槽
12...中間部
19、80...開口
Claims (18)
- 一種用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座裝置適於在其上接收一實體靶材圓柱,該可旋轉靶材座裝置至少包含:一靶材座圓柱(4),其具有一側面(3)、一中間部(12)、一第一末端區(7)及一與該第一末端區相對之第二末端區(9),其中該第一末端區及該第二末端區之至少一者具有一大體上等於或小於該中間部之一外徑的最大外徑,其進一步包含至少一個靶材座連接裝置(270、18),其適於將該靶材座圓柱連接至一靶材座支撐件且係可移動,其中該至少一個靶材座連接裝置至少包含:一固定接頭(270);及一設於該靶材座圓柱中之固定凹槽(100),該固定接頭適於至少部分地填充該固定凹槽,且其中該固定接頭包含一固定軸環(270),該固定軸環具有一內螺紋(271),其與在該固定凹槽(100)中設置之一外螺紋(101)相對應,其中該固定凹槽(100)設於該靶材座圓柱(4)之一末端。
- 如申請專利範圍第1項之可旋轉靶材座裝置,其中該固定凹槽設於該靶材座圓柱之該側面中,及/或其中該至少一個靶材座連接裝置至少包含:一夾持裝置(18),其適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置。
- 如申請專利範圍第1項或第2項中任一項之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座連接裝置至少包含至少一個選自由以下元件組成之群組之元件:該夾持裝置,其具有一夾持外殼(18),該夾持外殼適於包圍該固定軸環(270)及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置;及該夾持裝置,其具有複數個分段夾持外殼(23),該複數個分段夾持外殼適於包圍該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置。
- 如申請專利範圍第1項或第2項中任一項之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材座圓柱為一管狀座圓柱,及/或其中至少一個選自由該靶材座連接裝置、該夾持裝置、該固定接頭、該固定凹槽及該靶材座支撐件連接裝置組成之群組之元件呈環狀。
- 如申請專利範圍第3項之可旋轉靶材座裝置,其中該複數個分段夾持外殼係相互鉸合。
- 如申請專利範圍第1項或第2項中任一項之可旋轉靶材座裝置,其中至少一個靶材座連接裝置包含一靶材固定裝置。
- 如申請專利範圍第6項之可旋轉靶材座裝置,其中該靶材固定裝置為一間隔物裝置,該間隔物裝置設於至少一個選自由該固定接頭及該固定軸環組成之群組之元件上。
- 一種用於濺射設備之可旋轉靶材,其至少包含:一如申請專利範圍第1項至第7項中任一項之可旋轉靶材座裝置,該可旋轉靶材座裝置具有一配置於該靶材座圓柱之該側面上之實體靶材圓柱。
- 如申請專利範圍第8項之用於濺射設備之可旋轉靶材,該可旋轉靶材座裝置具有安裝於該第一末端區及該第二末端區之至少一者處之靶材座連接裝置之至少一者,及/或其中該靶材座連接裝置之該靶材固定裝置在該實體靶材圓柱與該靶材座支撐件之間提供一間隙。
- 如申請專利範圍第8項或第9項之可旋轉靶材,其中該實體靶材圓柱呈管狀,及/或定位於該第一末端區與該第二末端區之間,及/或藉由該等靶材座連接裝置的至少一者藉由鄰接安置至該等靶材固定裝置之至少一者而調整。
- 一種塗覆設備,其包含一如申請專利範圍第1項至第7項之可旋轉靶材座裝置。
- 一種製造用於濺射設備之可旋轉靶材之方法,其包含以下步驟:提供一如申請專利範圍第1項至第7項之可旋轉靶材座裝置,提供一實體靶材圓柱,及將該實體靶材圓柱配置於該靶材座圓柱之該側面上。
- 如申請專利範圍第12項之方法,在該配置該實體靶材圓柱之步驟之後,其包含以下步驟:在該靶材座圓柱之該第一末端區及該第二末端區之至少一者上安裝該等靶材座連接裝置之一。
- 一種將用於濺射設備之可旋轉靶材座裝置連接至靶材座支撐件之靶材座連接裝置,其至少包含:一固定接頭(270)及一設於該靶材座裝置中之固定凹槽(100),該固定接頭適於至少部分地填充該固定凹槽;及一固定軸環(270),其包括在該固定接頭中且具有一內螺紋(271),其與在該固定凹槽(100)中設置之一外螺紋(101)相對應,其中該固定凹槽(100)設於該靶材座裝置之一末端。
- 如申請專利範圍第14項之靶材座連接裝置,其至少包含:一夾持裝置(18),其適於包圍該固定接頭及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置。
- 如申請專利範圍第15項之靶材座連接裝置,其至少包含至少一個選自以下者之元件:該夾持裝置,其具有一夾持外殼,該夾持外殼適於包圍該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置;及該夾持裝置,其具有複數個分段夾持外殼,其適於包圍該固定軸環及一靶材座支撐件之一鄰接靶材座支撐件連接裝置。
- 如申請專利範圍第16項之靶材座連接裝置,其中該複數個分段夾持外殼係相互鉸合。
- 如申請專利範圍第14項或第15項之靶材座連接裝置,其中該靶材座連接裝置包含一靶材固定裝置,及/或其中該靶材固定裝置為一間隔物裝置,該間隔物裝置設於至少一個選自由該固定接頭及該固定軸環組成之群組之元件。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP08167573A EP2180501A1 (en) | 2008-10-24 | 2008-10-24 | Rotatable sputter target base, rotatable sputter target, coating installation, method of producing a rotatable sputter target, target base connection means, and method of connecting a rotatable target base device for sputtering installations to a target base support |
US12/258,243 US20100101948A1 (en) | 2008-10-24 | 2008-10-24 | Rotatable sputter target base, rotatable sputter target, coating installation, method of producing a rotatable sputter target, target base connection means, and method of connecting a rotatable target base device for sputtering installations to a target base support |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201024444A TW201024444A (en) | 2010-07-01 |
TWI476290B true TWI476290B (zh) | 2015-03-11 |
Family
ID=41319650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW098136026A TWI476290B (zh) | 2008-10-24 | 2009-10-23 | 可旋轉濺射靶材座、可旋轉濺射靶材、塗覆設備、製造可旋轉濺射靶材之方法、靶材座連接裝置、以及將用於濺射設備之可旋轉濺射靶材座裝置連接至靶材座支撐件的方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5762964B2 (zh) |
KR (1) | KR20110089290A (zh) |
CN (1) | CN102265376A (zh) |
SG (1) | SG195563A1 (zh) |
TW (1) | TWI476290B (zh) |
WO (1) | WO2010046485A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103397301A (zh) * | 2013-07-17 | 2013-11-20 | 中国南玻集团股份有限公司 | 圆筒旋转银靶及其制备方法 |
CN107075664A (zh) * | 2014-11-07 | 2017-08-18 | 应用材料公司 | 高性价比的整体式旋转靶材 |
CN106683988B (zh) * | 2016-12-28 | 2019-05-24 | 惠科股份有限公司 | 一种靶材装置 |
CN107584201B (zh) * | 2017-10-31 | 2019-11-26 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种靶材真空扩散焊接系统及方法 |
CN109628899A (zh) * | 2019-01-24 | 2019-04-16 | 苏州罗纳尔材料科技有限公司 | 旋转锌镁靶材及其制备方法 |
JP7245661B2 (ja) * | 2019-01-30 | 2023-03-24 | Jswアフティ株式会社 | ターゲットおよび成膜装置並びに成膜対象物の製造方法 |
CN113025971A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-06-25 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种管靶材及其用途 |
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Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53163352U (zh) * | 1977-05-31 | 1978-12-21 | ||
JPH07228967A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Mitsubishi Materials Corp | 長尺円筒状スパッタリングターゲット |
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JP4614037B2 (ja) * | 2000-09-08 | 2011-01-19 | Agcセラミックス株式会社 | 円筒状ターゲット |
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US20070007129A1 (en) * | 2003-03-25 | 2007-01-11 | Wilmert De Bosscher | Universal vacuum coupling for cylindrical target |
KR101137906B1 (ko) * | 2006-08-03 | 2012-05-03 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 회전식 타겟 어셈블리 |
KR20100116611A (ko) * | 2008-02-15 | 2010-11-01 | 베카에르트 어드벤스드 코팅스 엔.브이. | 복수의 홈을 갖는 진공 커플링 |
-
2009
- 2009-10-23 CN CN2009801526026A patent/CN102265376A/zh active Pending
- 2009-10-23 TW TW098136026A patent/TWI476290B/zh active
- 2009-10-23 JP JP2011532651A patent/JP5762964B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-23 SG SG2013077268A patent/SG195563A1/en unknown
- 2009-10-23 WO PCT/EP2009/064013 patent/WO2010046485A1/en active Application Filing
- 2009-10-23 KR KR1020117011813A patent/KR20110089290A/ko active Search and Examination
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5762964B2 (ja) | 2015-08-12 |
CN102265376A (zh) | 2011-11-30 |
WO2010046485A1 (en) | 2010-04-29 |
SG195563A1 (en) | 2013-12-30 |
JP2012506489A (ja) | 2012-03-15 |
KR20110089290A (ko) | 2011-08-05 |
TW201024444A (en) | 2010-07-01 |
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