KR20110089290A - 회전식 스퍼터 타겟 베이스 장치, 회전식 스퍼터 타겟, 코팅 설비, 회전식 스퍼터 타겟의 제조 방법, 타겟 베이스 연결 수단, 및 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 서포트에 연결하는 방법 - Google Patents

Abstract

솔리드 타겟 실린더를 위에 수용하도록 되어 있는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 개시되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 측면(3), 중앙부(12), 제1 단부 영역(7), 상기 제1 단부 영역(7)과 마주하는 제2 단부 영역(9)을 구비하는 타겟 베이스 실린더(4)를 포함하고, 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상이 상기 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 갖는다.

Description

회전식 스퍼터 타겟 베이스 장치, 회전식 스퍼터 타겟, 코팅 설비, 회전식 스퍼터 타겟의 제조 방법, 타겟 베이스 연결 수단, 및 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 서포트에 연결하는 방법 {ROTATABLE SPUTTER TARGET BASE, ROTATABLE SPUTTER TARGET, COATING INSTALLATION, METHOD OF PRODUCING A ROTATABLE SPUTTER TARGET, TARGET BASE CONNECTION MEANS, AND METHOD OF CONNECTING A ROTATABLE TARGET BASE DEVICE FOR SPUTTERING INSTALLATIONS TO A TARGET BASE SUPPORT}

본 발명의 실시예들은 대체로 스퍼터링 설비에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명의 실시예들은 회전식 스퍼터 타겟 베이스 장치, 회전식 스퍼터 타겟, 코팅 설비, 회전식 스퍼터 타겟의 제조 방법, 타겟 베이스 연결 수단, 및 회전식 타겟 베이스 장치의 연결 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명의 실시예들은 스퍼터링 설비용 회전식 스퍼터 타겟 베이스, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟, 코팅 설비, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟의 제조 방법, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 서포트에 연결하기 위한 타겟 베이스 연결 수단, 및 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 서포트에 연결하는 방법에 관한 것이다.

기판 상에의 물질의 박막 증착은 예컨대 진공 챔버 내에서 코팅 물질을 기화 또는 스퍼터링하는 방법과 같이 다양한 방법으로 달성될 수 있다. 스퍼터링에 의한 박막 증착의 전형적인 실례는 솔라 웨이퍼(solar wafer) 제조 분야 또는 반도체 장치 제조 분야에서 스퍼터 증착 적용이다.

스퍼터링 캐소드(sputtering cathode)를 작동하는 경우, 플라즈마가 발생되어 플라즈마의 이온들이 기판 상에 증착되는 코팅 물질의 타겟 상에 가속화된다. 이러한 타겟의 충격은 코팅 물질의 원자의 방출을 야기하고, 스퍼터링 캐소드 아래로 기판 상에 증착된 막으로서 축적시킨다. 증가된 증착률을 얻기 위해서 마그네트론 스퍼터링이라고도 불리우는 자기적 향상 캐소드(magnetically enhanced sputtering cathode)의 사용이 제안되어 왔다.

통상의 자기적 향상 스퍼터링 캐소드는 타겟 플레이트에 관해 고정된 위치에 장착된 자석의 배열과 평편한 타겟 플레이트를 포함할 수 있다. 자석들에 의해 제공되는 자기장은 타겟 플레이트 물질의 스퍼터링이 따라가며 발생되는 경로(들) 또는 영역을 형성한다.

다른 전형적인 자기적 향상 스퍼터링 캐소드는 그 외부면에 적용되는 타겟 물질의 층을 갖는 예컨대 배킹 튜브(backing tube)와 같은 원통형 회전식 튜브를 포함한다. 자석의 배열을 포함할 수 있는 자석 수단(magnetic means)은 배킹 튜브 내부에 배치되며 자기장을 제공한다. 이 튜브는 종축선을 중심으로 회전가능해서 자기장의 내부와 자석과 마주하는 위치로 그 외부면 상에 타겟 물질의 상이한 부분들 또는 세그먼트를 선택적으로 가져오도록 자석 수단에 관해 회전될 수 있다.

회전식 마그네트론 스퍼터링 캐소드의 제조에 있어서, 예를 들어, 타겟 물질은 배킹 튜브의 외부면 상에 분무됨으로써 적용될 수 있다. 또한, 전형적인 스퍼터링 타겟의 타겟 물질은 빠르게 예컨대 일주일 내로 고갈되거나 소비될 수 있다.

상술한 견지에서, 청구범위 제1 항에 다른 회전식 타겟 베이스 장치, 제8 항에 따른 회전식 타겟, 제11 항에 따른 코팅 설비, 제12항에 따른 회전식 타겟의 제조 방법, 및 제14 항에 따른 타겟 베이스 연결 수단이 제공된다.

일 실시예에 따르면, 솔리드 타겟 실린더를 위에 수용하도록 되어 있는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 제공되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 상기 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 구비하는 타겟 베이스 실린더를 포함하고, 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상은 상기 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가지며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 서포트에 상기 타겟 베이스 실린더를 연결시키도록 되어 있고 제거가능한 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링, 및 상기 타겟 베이스 실린더 내에 제공되는 고정 리세스를 포함하며, 고정 커플링은 상기 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있고, 상기 고정 커플링은 상기 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라를 포함하며, 상기 리세스가 상기 타겟 베이스 실린더의 단부에 제공된다.

다른 실시예에 따르면, 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟이 제공되며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 위에 솔리드 타겟 실린더를 수용하도록 되어 있고, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 상기 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 구비하는 타겟 베이스 실린더를 포함하고, 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상은 상기 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가지며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 배치되는 솔리드 타겟 실린더를 구비하며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결시키도록 되어 있고 제거가능한 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링, 및 상기 타겟 베이스 실린더 내에 제공되는 고정 리세스를 포함하며, 고정 커플링은 상기 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있고, 상기 고정 커플링은 상기 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라를 포함하며, 상기 리세스가 상기 타겟 베이스 실린더의 단부에 제공된다.

또 다른 실시예에 따르면, 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 코팅 설비가 제공되며, 상기 타겟 베이스 장치는 위에 솔리드 타겟 실린더를 수용하도록 되어 있고, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 상기 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 구비하는 타겟 베이스 실린더를 포함하고, 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상은 상기 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가지며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결시키도록 되어 있고 제거가능한 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링, 및 상기 타겟 베이스 실린더 내에 제공되는 고정 리세스를 포함하며, 고정 커플링은 상기 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있고, 상기 고정 커플링은 상기 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라를 포함하며, 상기 리세스가 상기 타겟 베이스 실린더의 단부에 제공된다.

또 다른 실시예에 따르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟의 제조 방법이 제공되는데, 이 방법은 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계와, 솔리드 타겟 실린더를 제공하는 단계와, 그리고 상기 타겟 베이스 실린더의 상기 측면 상에 상기 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계를 포함하며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 위에 솔리드 타겟 실린더를 수용하도록 되어 있고, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 상기 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 구비하는 타겟 베이스 실린더를 포함하고, 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상은 상기 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가지며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 배치되는 솔리드 타겟 실린더를 구비하며, 상기 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결시키도록 되어 있고 제거가능한 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링, 및 상기 타겟 베이스 실린더 내에 제공되는 고정 리세스를 포함하며, 고정 커플링은 상기 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있고, 상기 고정 커플링은 상기 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라를 포함하며, 상기 리세스가 상기 타겟 베이스 실린더의 단부에 제공된다.

또 다른 실시예에 따르면, 타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결시키는 타겟 베이스 연결 수단이 제공되는데, 이 타겟 베이스 연결 수단은, 회전식 타겟 베이스 장치 내에 제공되는 고정 리세스 및 상기 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있는 고정 커플링과; 그리고 상기 고정 커플링 내에 포함되며, 상기 고정 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 구비하는 고정 칼라를 포함하며, 상기 고정 리세스는 상기 타겟 베이스 장치의 단부에 제공된다.

다른 특징과 상세한 내용은 청구범위의 종속항, 상세한 설명 및 도면으로부터 명확하다.

실시예들은 개시된 방법을 실행하기 위한 그리고 상술한 방법의 단계들을 실행하기 위한 장치 부품을 포함하는 장치에도 연관된다. 또한, 실시예들은 상술한 장치가 작동하거나 상술한 장치가 제조되는 방법과도 연관된다. 이것은 장치의 기능을 실행하거나 장치의 부품을 제조하는 방법의 단계들을 포함할 수 있다. 이들 방법의 단계들은 하드웨어 부품, 펌웨어, 소프트웨어를 통해, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터에 의해, 이들의 임의의 조합에 의해 또는 임의의 다른 방법으로 실행될 수 있다.

본 발명의 예시적인 실시예가 얻어지고 구체적으로 이해될 수 있도록, 상기에 요약된 본 발명의 보다 구체적인 설명이 통상의 실시예들을 참조로 제공될 수 있다. 첨부 도면은 본 발명의 실시예에 관한 것이며 아래에 설명된다. 상기한 실시예들의 일부는 아래의 도면을 참조로 아래의 통상의 실시예들의 설명에서 상세히 설명될 것이다.

도 1은 솔리드 타겟 실린더를 포함하는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치의 개략적인 횡단면도이고,
도 2는 도 1에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 베이스 실린더의 개략적인 횡단면도이며,
도 3a 내지 도 3e는 타겟 베이스 연결 수단의 실례와 타겟 베이스 연결 수단의 횡단면도 및 평면도가 제공되는, 도 1에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치를 개략적으로 도시하는 도면이고,
도 4는 타겟 베이스 연결 수단의 다른 실례가 제공되는, 도 1에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치의 개략적인 횡단면도이며,
도 5는 타겟 베이스 연결 수단의 다른 실례가 제공되는, 도 1에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치의 개략적인 횡단면도이고,
도 6a 내지 도 6e는 타겟 베이스 연결 수단의 다른 실례의 개략적인 횡단면도 및 평면도이며,
도 7은 여기에 개시된 일 실시예에 따른 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 베이스 실린더의 개략적인 횡단면도이고,
도 8a 내지 도 8c는 여기에 개시된 실시예들에 따른 타겟 베이스 연결 수단이 제공되는, 도 7에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치의 개략적인 횡단면도이며,
도 9는 도 8a에 도시된 실시예에 따른 타겟 베이스 연결 수단의 개략적인 횡단면도이다.

일 실시예의 구성요소들이 추가의 설명없이 다른 실시예에 유리하게 사용될 수 있음을 고려한다.

아래에, 하나 이상의 실시예가 도면에 도해되어 있는 다양한 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 각각의 실시예는 설명을 통해 제시되지만 본 발명을 한정하고자 함이 아니다.

아래에서, 범위의 한정없이, 회전식 타겟 베이스 장치, 회전식 타겟, 코팅 설비, 회전식 타겟, 타겟 베이스 연결 수단의 제조 방법, 및 회전식 타겟 베이스 장치의 연결 방법의 실시예들을 스퍼터링 분야에 관하여 설명한다. 통상적으로, 회전식 타겟 베이스 장치 및 타겟 베이스 연결 수단은 진공-호환성 물질을 포함하며, 코팅 설비는 진공 코팅 설비이다. 여기 설명되는 실시예들의 통상의 분야는 예컨대, LCD, TFT 디스플레이 및 OLED (유기 발광 다이오드)와 같은 디스플레이 제조, 태양전지 웨이퍼 제조, 및 반도체 장치 제조에 있어서 스퍼터 증착 분야이다.

아래의 도면의 설명 내에서, 동일한 도면부호는 동일한 부품을 지칭한다. 대체로, 실시예들 각각에 대한 차이만을 설명한다.

아래에서, 범위의 한정없이, 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 베이스 실린더는 예컨대 배킹 실린더(backing cylinder) 또는 배킹 튜브로 지칭될 것이다. 회전식 타겟은 예컨대 배킹 튜브 및 솔리드 타겟 실린더(solid target cylinder)를 포함할 것이다.

일 실시예에 의하면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 제공되며, 이 타겟 베이스 장치는 솔리드 타겟 실린더를 위에 수용하도록 되어 있고, 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 구비하며, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 작은 최대 외경을 갖는다.

예컨대, 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 실린더 상에 솔리드 타겟 실린더를 동심으로 배치시키기에 적합하다. 또한, 솔리드 타겟 실린더는 중공(hollow) 실린더 또는 타겟 베이스 실린더 상에 교대로 배치된 복수의 중공 실린더일 수 있다. 타겟 베이스 실린더 상에 솔리드 타겟 실린더(들)를 배치함으로써, 통상의 회전식 타겟이 된다. 회전식 타겟 베이스 장치는 스퍼터링 설비 내에 회전식 타겟을 실질적인 수직으로 장착하는데 사용될 수 있다. 통상적으로, 타겟 베이스의 측면은 실린더 배럴(barrel) 또는 실린더의 맨틀(mantle)로 이해될 수 있다.

여기에 설명되는 실시예들은 배킹 실린더의 적어도 일단부로부터의 접근이 가능한 이유로 배킹 튜브와 같은 배킹 실린더 상에 솔리드 타겟 물질 튜브와 같은 솔리드 타겟 실린더일 수 있는 타겟을 제공을 허용한다. 이것은 배킹 실린더의 하나 이상의 단부 영역이 배킹 실린더의 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 작은 최대 외경을 갖는 배킹 실린더의 구조로 인한 것이다. 따라서, 배킹 실린더의 중앙부의 외경과 일치되는 내경을 갖는 원통형 솔리드 타겟이 배킹 실린더 상에 동심으로 용이하게 위치될 수 있다. 이러한 타겟은 접착식 또는 비접착식 타겟으로서 사용되도록 설계될 수 있다. 이런 이유로, 일부 실시예에서, 접착 물질을 필요로 할 수 있는 접착에 의해 스퍼터링 캐소드(sputtering cathode)의 배킹 튜브 상에 솔리드 타겟이 제공될 수 있다. 또한, 분무식 타겟용 배킹 실린더와 반대로, 여기에 개시되는 실시예들을 사용하여 접착식 또는 비접착식 타겟에 대해 예컨대 관형과 같은 원통형의 복수의 솔리드 타겟 또는 타겟 슬리브를 배킹 실린더 상에 배열할 수 있다. 또한, 여기 개시된 실시예에 따르면, 회전식 타겟 베이스 장치 및 배킹 실린더 각각은 반복해서 사용될 수 있고 단지 원통형 타겟을 교환함으로써 복구될 수 있다. 이것은 코팅 적용 동안 빠르게 감소되는 타겟 물질을 갖는 회전식 타겟에 특히 적합하다.

도 1은 스퍼터링 설비용 회전식 타겟(1)의 실례를 개략적으로 도시한다. 이 회전식 타겟(1)은 통상 회전식 타겟 베이스 장치(2)와, 이하에 타겟(5)으로도 지칭되는 솔리드 타겟 실린더와 같은 관형 솔리드 타겟(5)을 포함한다.

여기 개시된 실시예에서, 솔리드 타겟 실린더(5)의 내경은 타겟 베이스 실린더의 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 클 수 있다. 전형적으로, 타겟(5)은 약 100mm 내지 약 200mm의 외경, 보다 전형적으로 약 130mm 내지 약 170mm의 외경, 가장 전형적으로 약 145mm의 외경을 가질 수 있다. 이 타겟(5)의 내경은 약 80mm 내지 약 180mm, 보다 전형적으로 약 110mm 내지 약 150mm의 범위에, 가장 전형적으로 약 133mm일 수 있다. 이 타겟(5)의 두께는 약 2mm 내지 약 30mm의 범위 내에 있을 수 있다. 전형적으로, 타겟(5)은 약 3mm 내지 20mm, 보다 전형적으로 약 5mm 내지 약 17mm, 가장 전형적으로 약 6mm 내지 12mm의 두께를 가질 수 있다. 또한, 타겟(5)의 길이는 약 240mm 내지 3500mm, 보다 전형적으로 약 1360mm 내지 약 1400mm, 약 1560mm 내지 약 1600mm, 약 1660mm 내지 약 1700mm, 약 2010mm 내지 약 2050mm, 또는 약 2500mm 내지 약 2540mm의 범위에 있을 수 있다. 중앙부(12)에서 즉, 측면(3)의 영역에서의 배킹 튜브의 외경은 약 80mm 내지 180mm, 보다 전형적으로 약 110mm 내지 약 150mm의 범위에, 가장 전형적으로 약 133mm일 수 있다. 배킹 튜브의 내경은 약 60mm 내지 160mm, 보다 전형적으로 약 90mm 내지 약 130mm의 범위에, 가장 전형적으로 약 125mm일 수 있다. 전형적으로 배킹 튜브의 길이는 약 300mm 내지 3600mm의 범위에, 보다 전형적으로 약 1440mm, 약 1640mm, 약 1740mm, 약 2090mm, 약 2240mm, 약 2580mm, 또는 약 3600mm일 수 있다. 여기 개시된 일부의 실시예에서, 배킹 튜브의 중앙부(12)의 외경 및/또는 내경은 중앙부(12)의 길이에 걸쳐 실질적으로 일정하다. 또한, 여기에 개시된 일부의 실시예에서, 솔리드 타겟 실린더(5)의 외경 및/또는 내경은 타겟의 길이에 걸쳐 실질적으로 일정하다.

도 1에 도시된 회전식 타겟(1)의 회전식 타겟 베이스 장치(2)는 위에 타겟(5)이 배치되지 않은 상태로 도 2에 개략적으로 추가 도시된다. 회전식 타겟 베이스 장치(2)는 배킹 튜브(4)를 포함한다. 여기에 개시된 일부 실시예에 있어서, 배킹 튜브의 하나 이상의 단부 영역은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 작은 최대 외경을 갖는다.

도 1에 도시된 실례의 배킹 튜브(4)는 측면(3)을 갖춘 중앙부(12)를 구비하며 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9)을 더 구비한다. 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9) 모두는 통상적으로 배킹 튜브(4)의 측면(3)에서 중앙부의 외경과 실질적으로 동일한 최대 외경을 가질 수 있다. 또한, 배킹 튜브(4)는 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9) 각각에 개구(80, 19)를 가질 수 있다. 더욱이, 배킹 튜브(4)는 자석 장치와 냉각 시스템으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 구성요소를 포함하기 위한 내부 공간(6)을 포함할 수 있다.

여기에 도시된 실시예에서, 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 실린더를 타겟 베이스에 연결시키도록 되어 있는 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단을 포함한다. 이런 이유로, 회전식 타겟 베이스 장치의 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상에 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단이 제공될 수 있다. 이 실시예의 변형에 있어서, 복수의 타겟 베이스 연결 수단 가운데 하나 이상은 제거될 수 있다.

여기에 개시된 일부의 실시예에 있어서, 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 베이스 실린더의 하나 또는 양쪽 단부 영역은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가질 수 있으며 타겟 베이스 연결 수단이 제공될 수도 있다.

이 결과, 타겟의 내경이 배킹 튜브의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 약간 경미하게 보다 클지라도, 타겟이 회전식 타겟 베이스 장치에 용이하게 설치될 수 있다. 이것은 배킹 튜브의 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 외경보다 작은 최대 외경을 갖는 배킹 튜브의 일단부에 타겟을 설치하기 위해 타겟 베이스 연결 수단이 제거될 수 있다는 사실 때문이다. 이때, 타겟은 배킹 튜브(4) 상에 동심으로 위치될 수 있고 배킹 튜브의 회전 축선에 평행하게 원하는 위치까지 밀릴 수 있다. 여기에 개시된 일부의 실시예에 있어서, 배킹 튜브의 종축 중심 축선은 그 회전 축선이다.

타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결시키도록 되어 있다. 여기에 개시된 일 실시예에 있어서, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 각각에는 2개의 타겟 베이스 서포트와 타겟 베이스 실린더를 연결시키기 위해 타겟 베이스 연결 수단 중 하나가 제공될 수 있다. 다른 실시예에서, 타겟 베이스 서포트 중 하나 또는 양쪽은 회전식 타겟 베이스 드라이브 시스템의 일부일 수 있으며, 이 회전식 타겟 베이스 드라이브 시스템은 타겟 베이스 실린더의 내부 공간에 예컨대 냉각 유체 또는 파워 공급을 제공할 수 있다.

전형적인 실시예에 의하면, 타겟 베이스 실린더의 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에 타겟 베이스 연결 수단들 가운데 하나가 제공될 수 있도록 되어 있다.

여기에 개시된 전형적인 실시예에 의하면, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결시키기 위한 클램핑 수단을 포함할 수 있다. 보다 전형적으로, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링, 및 타겟 베이스 실린더 내에 제공되는 고정 리세스를 포함할 수 있고, 고정 커플링은 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있다. 또한, 클램핑 수단은 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단과 고정 커플링을 에워싸도록 되어 있을 수 있다. 타겟 베이스 실린더의 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상은 타겟 베이스 실린더의 측면에 제공된 하나의 고정 리세스를 포함할 수 있다.

또 다른 실시예에 의하면, 타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결하기 위한 타겟 베이스 연결 수단이 제공되는데, 이 타겟 베이스 연결 수단은 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있는 고정 커플링, 및 회전식 타겟 베이스 장치 내에 제공되는 고정 리세스와; 고정 커플링을 에워싸도록 되어 있는 클램핑 수단 및 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단과; 그리고 고정 커플링 내에 포함되며, 회전식 타겟 베이스 장치 내에 제공되는 고정 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 구성요소를 포함하며, 고정 리세스는 회전식 타겟 베이스 장치에 제공된다.

도 2의 실례에 도시된 바와 같이, 여기에서 배킹 튜브라고도 지칭되는 타겟 베이스 실린더(4)는 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9)에 리세스(10)를 포함한다. 상기한 바와 같이, 본 실례에서, 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9) 모두는 중앙부의 외경과 실질적으로 동일한 최대 외경을 갖는다. 리세스는 배킹 튜브(4)의 측면(3) 내에 제공된다. 전형적인 실례에 의하면, 리세스(10)는 환형이다.

타겟 베이스 연결 수단과 같은 클램핑 수단을 포함하는 여기에 개시된 실시예들의 회전식 타겟 베이스 장치와 마찬가지로, 타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 타겟 베이스 장치를 연결하도록 되어 있는 여기에 개시된 실시예들에 따른 클램핑 수단들 각각은 코팅 및/또는 스퍼터링 설비의 예컨대 회전식 드라이브 시스템과 같은 시스템 내에 타겟 배킹 실린더를 클램핑하는데 유용하다.

도 3a 및 도 3b는 도 2에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치(2)에 2개의 타겟 베이스 연결 수단(11)이 제공되는 일례를 도시한다. 본 실례에서, 배킹 튜브(4)의 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9) 각각에는 타겟 베이스 연결 수단(11) 가운데 하나가 제공된다. 전형적으로, 하나 또는 모두의 타겟 베이스 연결 수단(11)은 배킹 튜브(4)로부터 제거될 수 있다. 본 실례에서, 각각의 타겟 베이스 연결 수단(11)은 고정 커플링으로서 클램프(17)로 형성된 고정 클램프, 및 클램핑 수단으로서 클램핑 셸(18)을 포함한다.

도 3a 내지 도 3g에 도시된 실례에서, 클램프(17) 및 클램핑 셸(18)은 환형이다. 전형적으로, 여기에 개시된 일부의 실시예에 의하면, 타겟 베이스 실린더는 환형 베이스 실린더이며, 타겟 베이스 연결 수단, 클램핑 수단, 고정 리세스, 및 타겟 베이스 서포트 연결 수단으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 구성요소는 환형일 수 있다. 또한, 여기에 개시된 실시예들에 있어서, 클램핑 수단은 세그먼트형 구조체를 포함할 수 있다.

도 3a는 회전식 타겟 베이스 장치(2)의 타겟 베이스 연결 수단(11) 및 배킹 튜브(4)의 전형적인 실례를 조립 상태로 도시한다. 본 실례에서, 배킹 튜브(4)는 타겟 베이스 서포트 연결 수단으로서 환형 플랜지(16)를 갖는 타겟 베이스 서포트(15)에 각 단부 영역에서 연결된다. 회전식 타겟(1)의 관형 솔리드 타겟(5)은 도시되어 있지 않다. 또한, 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9) 각각에서, 배킹 튜브(4)에 하나의 환형 클램프(17)가 클램핑된다. 각각의 클램프(17)는 내부 돌출부(19), 및 대응하는 환형 클램프(17)의 내부 돌출부(19)가 각각의 환형 리세스(10) 내에 제공될 정도의 내경을 갖는다. 도 3c의 횡단면도는 환형 클램프(17)의 내부 돌출부(19)와 클램프(17)의 접촉측(13)을 도시하는데, 클램프(17)가 접촉측(13)에서 타겟 베이스 서포트의 플랜지(16)에 인접될 수 있다. 또한, 도 3a에 도시된 바와 같이 조립된 상태에서, 클램프(17) 각각에 걸쳐, 클램프(17)의 외경 보다 큰 외경을 갖는 하나의 환형 클램핑 셸(18)이 장착된다. 실시예들의 클램핑 셸(18)은 도 3f에 추가로 도시되는데 2개의 환형 스팬(span) 요소(27)가 각 측면에 제공되는 외부 링(25)을 포함한다. 클램핑 셸(18)의 폭 즉, 외부 링(25)의 폭은 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지(16)와 클램프(17)의 폭의 합에 걸쳐질 정도이다. 따라서, 조립 상태에서, 2개의 환형 스팬 요소(27)는 진공 시일(seal)(미도시)을 포함할 수 있는 클램프(17) 및 플랜지(16)를 에워싸며, 클램핑 장력에 의해 배킹 튜브(4)와 타겟 베이스 서포트(15)를 서로 고정시킨다. 이로써, 2개의 타겟 베이스 연결 수단(11)을 사용하여 타겟 베이스 서포트(15) 각각과 배킹 튜브(4) 사이에 진공 기밀(vacuum tight seal)이 제공된다.

전형적인 실례에서, 클램핑 셸(18)의 폭, 예컨대 외부 링(25)의 폭은 클램프(17) 및 플랜지(16)의 폭의 합과 동일하거나 약간 작을 수 있다. 이런 이유로, 클램프(17) 및 플랜지(16)의 조합체와 클램핑 셸(18) 사이의 억지끼워 맞춤(interference fit) 또는 압입 끼워맞춤(press fit)이 제공될 수 있다. 결국, 클램핑 셸(18)은 서로 인접하는 클램프(17) 및 플랜지(16)에 압입 끼워맞춤 고정에 의해 고정될 수 있다.

본 실례에서, 클램프(17)의 높이 즉, 배킹 튜브(4)의 종축선에 수직한 클램프(17)의 환형 칼라의 치수는, 클램프(17)가 위에 장착되는 경우, 통상적으로 플랜지(16)의 환형 칼라의 높이에 대응한다. 따라서, 클램프(17) 및 플랜지(16)는 그 외주에서 정렬될 수 있다. 예를 들어, 클램프(17)의 환형 칼라의 높이는 약 10mm 내지 약 50mm의 범위에 있을 수 있다.

통상적으로, 클램프가 복수의 세그먼트형 클램프 요소를 포함할 수 있고/있거나, 클램핑 셸이 복수의 세그먼트형 클램프 셸을 포함할 수도 있다. 보다 통상적으로, 클램프가 환형 세그먼트형 클램프 요소를 포함할 수 있고/있거나 클램핑 셸이 환형 세그먼트형 클램프 셸을 포함할 수도 있다. 클램프 및 클램핑 셸은 환형일 수 있다. 대체로, 환형 세그먼트형 요소는, 서로에 대해 종축으로 배치되어 보여질 때, 보는 사람에게 고리로 보여질 정도의 길이와 반경을 갖는다. 가장 통상적으로는, 환형 세그먼트형 클램프 요소 및/또는 환형 세그먼트형 클램프 셸은 반원형이라고도 이하에서 지칭되는 반고리형일 수 있다. 또한, 세그먼트형 클램프 요소들 또는 환형 세그먼트형 클램프 요소들이 서로 힌지 연결될 수 있고/있거나, 세그먼트형 클램프 셸 또는 환형 세그먼트형 클램프 셸이 서로 힌지 연결될 수 있다.

여기에 개시된 실시예들에 의하면, 클램핑 수단을 포함하는 타겟 베이스 연결 수단은 코팅 설비의 현존 클램핑 시스템에서 타겟 베이스 장치에, 예컨대 배킹 튜브에 설치된 접착식 또는 비접착식 솔리드 원통형 타겟을 고정시킬 수 있다. 일 실시예에서, 타겟 베이스 연결 수단은 복수의 세그먼트형 클램프 셸을 포함하는 클램핑 셸을 포함할 수 있다. 그러나, 일부 실시예에서, 클램핑 셸은 하나의 피스일 수 있다. 이 피스는 타겟 베이스 장치 상에 그리고 타겟 베이스 장치 상에 설치된 칼라 상에 클램핑 셸을 동심으로 배치시키는 것을 허용하기 위해 가요성 구조체를 구비할 수 있다.

도시된 바와 같이, 여기에 개시된 실시예들의 타겟 베이스 연결 수단은 스프링을 필요로 하지 않는다. 따라서, 여기에 개시된 실시예들의 타겟 베이스 연결 수단은 서로 인접해 있는 경우에 배킹 튜브와 타겟 베이스 서포트에 설치가 용이하다. 또한, 여기에 개시된 실시예들의 타겟 베이스 연결 수단을 사용하는 경우, 코팅 설비 내에 배킹 튜브를 포함하는 회전식 타겟을 설치하기 위해 예컨대 나사의 사용과 같은 다른 추가의 고정구가 필요하지 않다. 또한, 타겟 베이스 연결 수단의 실시예들의 세그먼트형 구조체는 또한 타겟 베이스 서포트에 배킹 튜브를 편리하게 설치하는 것을 촉진한다.

도 3a 내지 도 3g에 도시된 실례에서, 클램프(17)는 세그먼트형 클램프 요소(21)로서 2개의 반원형 클램프 요소(21)를 구비하는데, 이들 클램프 요소(21)는 힌지(20)에 의해 서로 힌지 결합된다. 이들 반원형 클램프 요소(21)는 클램핑(17)을 도시하는 도 3d 및 도 3e의 평면도에 도시된 바와 같이 링으로 폐쇄된다. 또한, 도 3f 및 도 3g에 도시된 바와 같이, 클램핑 셸(18)은 세그먼트형 클램프 셸로서 2개의 반원형 클램핑 셸(23)을 포함한다. 반원형 클램핑 셸(23)은 힌지(24)에서 서로 힌지 결합되며, 예컨대 클램핑 칼라를 형성하며 링으로 폐쇄된다. 본 실례에 따르면, 반원형 클램핑 셸(23)은 패스너(45)에 의해 서로 고정될 수 있다.

본 실례에 의하면, 클램프(17)의 세그먼트형 구조물은 배킹 튜브(4) 둘레로 2개의 반원형 클램프 요소(21)를 폐쇄시키면서 환형 리세스(10) 내에 돌출부(19)를 위치시킬 수 있다. 실례에서, 클램프(17)와 리세스(10)의 양호한 일치를 제공하기 위해, 폐쇄된 클램프(17)의 내경은 적합하게 선택되는데, 예컨대, 리세스(10)의 직경과 실질적으로 동일하거나 직경 보다 다소 크다.

더욱이, 여기에 개시된 실시예들의 클램핑 수단은 타겟 베이스 연결 수단의 고정 커플링과 타겟 베이스 서포트의 인접된 베이스 서포트 연결 수단 둘레로 클램핑 수단을 설치할 수 있게 하는 치수와 내경을 갖는다. 도 3f 및 도 3g에 도시된 일 실시예에서, 클램핑 셸(18)은 외부 반원형 요소(28)를 각각 갖는 2개의 반원형 요소(23), 및 외부 반원형 요소(28)의 측면에 부착된 2개의 측면 반원형 스팬(span) 요소(29)를 포함한다. 클램핑 셸(18)을 폐쇄시키는 경우 외부 반원형 요소(28)에 의해 형성되는 외부 링(25)은 클램프(17)의 외경과 플랜지(16)의 외경 보다 큰 내경을 가질 수 있다. 또한, 클램핑 셸(18)를 폐쇄하는 경우 측면 반원형 스팬 요소(29)에 의해 형성되는 2개의 환형 스팬 요소(27)의 내경은 도 3a에 도시된 바와 같이 플랜지(16)가 각각 장착되는 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지 소켓의 외경과 배킹 튜브(4)의 외경과 일치하거나 보다 클 수 있다.

여기에 개시된 일실시예에 따르면, 타겟 베이스 연결 수단 및/또는 타겟 베이스 서포트는 모떼기된(chamfered) 클램핑 영역들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 커넥터 링 또는 환형 칼라와 같은 타겟 베이스 서포트의 커넥터는 모떼기된 외부 클램핑 영역을 가질 수 있다. 또한, 예컨대 클램핑 셸(18)과 같은 타겟 베이스 연결 수단의 클램핑 수단은 모떼기된 내부 클램핑 영역을 가질 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 도 3a 내지 도 3g에 도시된 실례의 변형에 의하면, 배킹 튜브(4) 상의 클램프(17) 및 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지(16)는 각각 모떼기된 측면(30, 31)이 되는 모떼기된 엣지(edge)를 구비할 수 있다. 클램프(17)의 모떼기 된 측면(30)은 클램프(17)의 접촉면(13)와 마주하여 위치된다. 또한, 플랜지(16)의 모떼기된 측면(31)은 플랜지(16)의 접촉면 즉, 클램프(17)의 접촉면(13)과 접촉하게 되는 플랜지 면과 마주하여 위치한다. 더욱이, 클램핑 셸(18)의 환형 스팬 요소(27)는 클램프(17) 및 플랜지(16)가 인접하는 경우 모떼기된 측면(30) 및 모떼기된 측면(31)에 걸치도록 대응하여 경사질 수 있다. 이로써, 진공 시일(seal)(미도시)을 포함할 수 있는 플랜지(16) 및 배킹 튜브(45)에 설치되는 클램프(17)가 서로 인접하고 클램핑 셸(18)이 이들을 클램핑하는 경우, 환형 스팬 요소(27)가 진공 기밀식으로 클램프(17) 및 플랜지(16)를 고정시킬 수 있다.

클램프(17)의 모떼기된 측면(30)는 클램프(17)가 배킹 튜브(4)에 설치되는 경우 약 100°내지 약 120°, 전형적으로 105°의 범위의 배킹 튜브(4)의 측면(3)에 대한 경사각을 가질 수 있다. 플랜지(16)의 모떼기된 측면(31)은 약 100°내지 약 120°, 전형적으로 105°의 범위의 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지 소켓에 대한 경사각을 가질 수 있다. 클램핑 셸(18)의 환형 스팬 요소(27)는 모떼기된 측면(30) 및 모떼기된 측면(31)의 경사각과 비교해서 대응되거나 또는 보다 작은 외부 링(25)에 대한 경사각을 가질 수 있다. 이로써, 서로 인접하는 클램프(17) 및 플랜지(16) 상에 클램핑 셸(18)이 장착되는 경우 클램핑 장력이 생성될 수 있다. 예를 들어, 하나의 환형 스팬 요소(27)는 약 95°내지 약 120°, 전형적으로 105°의 범위의 외부 링(25)에 대한 경사각을 가질 수 있고, 다른 환형 스팬 요소(27)는 약 95°내지 약 120°, 전형적으로 105°의 범위의 외부 링(25)에 대한 경사각을 가질 수 있다. 이러한 이유로, 클램프(17)와 플랜지(16)의 결합체에 대해 압입 끼워맞춤 고정에 의해 클램핑 셸(18)이 클램핑되면, 환형 스팬 요소(27)의 경사각이 증가될 수 있고 이때 모떼기된 측면(30) 및 모떼기된 측면(31)의 경사각에 대응할 수 있어서 클램핑 장력을 제공한다.

모떼기된 클램핑 영역으로 인해, 타겟 베이스 연결 수단의 설치가 촉진되는데, 예컨대 도 4의 실례에서, 모떼기된 측면(30) 및 모떼기된 측면(31)과 환형 스팬 요소(27)가 인정된 클램프(17) 및 플랜지(16) 상에 클램핑 셸(18)을 가압할 수 있게 합니다. 이로써, 타겟 베이스 서포트(15)에 회전식 타겟 베이스 장치(2)를 편리하게 고정하게 됩니다.

여기 개시된 다른 실시예에 따르면, 회전식 타겟 베이스 장치의 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 고정 수단을 포함할 수 있으며, 이 타겟 고정 수단은 선택적으로 고정 클램프에 제공되는 스페이서 수단(spacer means)이다. 도 5에 도시된 스페이서의 실례는 스페이서 수단으로서 스페이서(40)가 부착된다는 점에서 도 3a 내지 도 3g의 실례와 상이하다. 도 5에 도시된 바와 같이, 스페이서(40)를 포함하는 2개의 클램프(17) 및 배킹 튜브(4)가 조립되면, 스페이서(40)는 배킹 튜브(4)의 측면(3)에 인접하여 제공된다. 이러한 이유로, 타겟(5)이 측면(3)에 동심으로 제공되는 경우, 본 실례에서 타겟(5)은 그 위치에서 타겟(5)을 고정시키는 2개의 스페이서(40) 사이에 위치된다. 하나 또는 양쪽 모두의 스페이서(40)가 환형일 수 있다. 대안의 실례에서, 하나 또는 양쪽 모두의 스페이서(40)는 클램프에 측면으로 부착되는 복수의 스페이서 요소를 각각 포함할 수 있다. 다른 실례에 의하면, 하나 또는 양쪽 모두의 스페이서(40)는 클램프(들)(17)에 추가로 별도로 제공되는 스페이서 링일 수 있다. 스페이서(40)의 폭 즉, 위에 클램프(17)가 장착되는 경우 배킹 튜브(4)의 회전 축선과 평행한 방향의 폭은 약 2mm 내지 약 50mm의 범위일 수 일고, 보다 전형적으로 약 20mm 내지 약 40mm의 범위일 수 있다. 스페이서(40)의 높이 즉, 클램프(17)가 위에 장착되는 경우 배킹 튜브(4)의 측면(3)에 수직하고 스페이서의 폭에 수직한 치수는 약 15mm 내지 약 50mm의 범위일 수 있다.

또한, 하나 이상의 스페이서(40)는 클램핑 셸(18)과 타겟(5) 사이에 간극을 제공한다. 이 간극은 약 2mm 내지 약 50mm의 범위일 수 일고, 보다 전형적으로 약 20mm 내지 약 40mm의 범위일 수 있다. 이로써, 배킹 튜브(4)의 회전 축선 즉 본 실례에서 종축선과 평행으로 타겟(5)의 열팽창이 발생할 수 있으며 이러한 열팽창의 해로운 효과가 회피될 수 있다. 또한, 회전가능한 타겟(1)의 회전 축선과 평행한 관형 솔리드 타겟(5)의 최적의 위치 예컨대 중심 위치가 달성될 수 있다. 클램핑 셸(18)과 타겟(5) 사이의 간극이 제공될지라도 스페이서(40)가 고정된 위치에 타겟(5)을 유지시킨다.

본 실례의 변형예에 있어서, 배킹 튜브에서, 측면(3) 상에 타겟(5)이 배치되는 경우, 스페이서(40)를 갖춘 클램프(17)를 포함하는 단지 하나의 고정 수단이 배킹 튜브(4)의 일단부에 제공될 수 있다. 배킹 튜브(4)의 다른 단부 영역에서, 스페이서가 없는 클램프(17)가 설치될 수 있다. 이로써, 타겟 베이스 서포트(15)에 배킹 튜브(4)를 연결시키는 연결 수단의 클램핑 셸(18) 중 하나와 타겟(5) 사이에 하나의 간극이 제공된다.

예를 들어, 전형적인 실례에 따르면, 회전식 타겟(1)이 스퍼터링 설비용 코팅 장치에 수직으로 장착되는 경우, 스페이서(40)를 포함하는 클램프(17) 중 하나는 배킹 튜브(4) 및 타겟(5)을 포함하는 회전식 타겟(1)의 바닥에 위치되는 배킹 튜브(4)의 단부 영역에 제공된다. 이것은 스페이서(40)가 제 위치에 비접착성 타겟을 유지시키기 위한 고정 숄더로서 기능하기 때문에 비접착성 타겟에 대해 특히 유용하다. 보다 구체적으로, 비접착성 타겟이 하나 이상의 접착 링과 함께 설치되는 경우, 접착 링(들)이 스페이서(40) 또는 복수의 스페이서(40)에 의해 그 또는 그들의 위치에 각각 유지될 수 있다.

여기에 개시되는 실시예들은 스퍼터링 설비에 회전식 타겟(1)의 실질적으로 수직의 장착에 적합하다. 스페이서(40) 또는 복수의 스페이서(40) 각각이 관형 솔리드 타겟(5)의 신뢰성 있는 위치선정, 정렬, 중심맞추기 및 심지어 고정을 제공하기 때문에, 이것은 특히 하나 이상의 스페이서(40)를 포함하는 타겟 베이스 연결 수단의 실시예에 적용된다.

도 5에 도시된 타겟 베이스 연결 수단의 실례의 다른 변형예에 있어서, 스페이서(40)를 포함하는 클램프(17) 및 타겟 베이스 서포트(15)는 도 4에 대해 위에서 설명된 바와 같은 모떼기된 측면을 가질 수 있다. 또한, 클램핑 셸(18)의 환형 스팬 요소(27)는 플랜지(16) 및 클램프(17)가 인접하는 경우 모떼기된 측면(30) 및 모떼기된 측면(31)을 걸치도록 대응하여 경사질 수 있다. 또한, 클램핑 셸(18)을 폐쇄시키는 경우 2개의 환형 스팬 요소(27)의 내경은 대응하여 적합하게 될 수 있다. 예를 들어, 조립된 상태에서 타겟과 마주하는 클램핑 셸(18)의 환형 스팬 요소(27)의 내경은 스페이서(40)의 외경과 일치하거나 외경 보다 클 수 있다.

여기에 개시된 실시예들에 사용되는 타겟 물질의 전형적인 실례와 같이, 타겟(5)은 ITO(Indium Tin Oxide; 산화 인듐 주석), 또는 실리콘, 예컨대 Z-600과 같은 붕소가 섞일 수 있는 5N 또는 3N 급(quality)을 포함할 수 있다.

다른 실시예에 띠르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟을 제조하는 방법이 제공되는데, 이 타겟 제조 방법은 솔리드 타겟 실린더를 위에 수용하도록 되어 있는 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계; 솔리드 타겟 실린더를 제공하는 단계, 및 타겟 베이스 실린더 측면 상에 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계를 포함하며, 회전식 타겟 베이스 장치는 측면을 갖는 중앙부를 구비하며, 제1 단부 영역 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 더 구비하고, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 갖는다. 이 방법은 예컨대 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계 이후에, 타겟 베이스 실린더의 제1 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상에 타겟 베이스 연결 수단을 설치시키는 단계를 더 포함한다. 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결시키도록 되어 있는 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단을 더 포함하며, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링, 및 타겟 베이스 실린더 내에 제공되는 고정 리세스를 포함하며, 고정 커플링은 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있고, 고정 커플링은 고정 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라를 포함하며, 고정 리세스는 타겟 베이스 실린더의 단부에 제공된다.

전형적으로, 솔리드 타겟 실린더는 하나의 중공 실린더 또는 서로 인접하게 제공되는 복수의 중공 실린더일 수 있다. 하나의 솔리드 타겟 실린더 또는 복수의 솔리드 타겟 실린더는 타겟 베이스 실린더 상에 동심으로 배치될 수 있다. 전형적으로, 하나의 솔리드 타겟 실린더 또는 상기한 다른 실시예에 따른 복수의 타겟 베이스 실린더를 결합함으로써, 회전식 타겟이 형성된다. 회전식 타겟은 스퍼터링 설비에 스퍼터링 타겟의 실질적인 수직 장착일 수 있다.

일례에서, 도 2에 도시된 배킹 튜브(4)가 제공된다. 이 때, 관형 솔리드 타겟(5)은 예컨대 제2 단부 영역(9) 상에 동심으로 위치되며, 배킹 튜브(4)의 중심 축선, 본 실례에서는 회전 축선과 평행하게 이동되고, 그 위에 중심으로 위치된다. 그러면, 배킹 튜브(4)의 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9)에서, 타겟 베이스 연결 수단과 같이, 2개의 힌지형 반원형 클램프 요소(21)를 포함하는 하나의 클램프(17)가 동심으로 위치될 수 있다. 이 위치에서, 각각의 클램프(17)의 돌출부(19)가 배킹 튜브(4)의 리세스(10) 중 하나를 채운다. 각각의 클램프(17)는 클램핑 셸(18) 중 하나의 타겟 베이스 서포트의 인접된 플랜지(16)와 클램프(17) 둘레를 폐쇄하고 패스너(45)에 의해 이를 고정함으로써 배킹 튜브(4)에 고정될 수 있다. 이 결과, 관형 솔리드 타겟(5)은 클램프(17)들 사이에 위치되어 회전식 타겟(1)을 제공한다.

상기한 실례의 변형예에 있어서, 위에 관형 타겟(5)을 동심으로 위치시킨 후에 배킹 튜브(4)의 일단 영역에 단지 하나의 클램프(17)가 설치될 수 있다. 이것은, 아래에 설명하는 바와 같이, 예컨대 감소된 타겟(5)을 교체하기 위해 회전식 타겟(1)을 복구하는 경우에 실시될 수 있다. 상기한 방법의 변형예는, 배킹 튜브(4)의 다른 단부 영역에 타겟 베이스 연결 수단 또는 다른 단부 피스, 예컨대 배킹 튜브(4)의 다른 단부 영역에 용접된 플랜지가 이미 제공된다면, 역시 사용될 수 있다.

또 다른 실시예에 의하면, 실시예들에 따른 스퍼터링 설비용 회전식 타겟을 제공하는 단계; 타겟 베이스 실린더의 하나 이상의 단부 영역으로부터 타겟 베이스 연결 수단을 탈착하는 단계; 솔리드 타겟 실린더를 탈착하는 단계; 다른 솔리드 타겟 실린더를 제공하는 단계; 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 다른 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계; 및 타겟 베이스 실린더의 하나 이상의 단부 영역에 타겟 베이스 연결 수단을 설치하는 단계를 포함하는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟을 복구하는 방법이 제공될 수 있고, 회전식 타겟은 측면을 갖는 중앙부를 구비하며, 제1 단부 영역 및 이 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 더 구비하고, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가지며, 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 실린더의 측면에 배치된 솔리드 타겟 실린더 및 하나 이상의 단부 영역 상에 배치되는 타겟 베이스 연결 수단을 구비한다.

예를 들면, 배킹 튜브(4)의 제2 단부 영역(9)은 중앙부(12)의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 갖는다. 따라서, 예컨대 배킹 튜브의 중앙부의 외경 보다 다소 큰 내경을 가질 수 있는 관형 솔리드 타겟(5)은 제2 단부 영역(9) 상에 동심으로 배치시킴으로써 배킹 튜브(4)의 측면(3) 상에 위치될 수 있다. 이 때, 이 타겟(5)은 배킹 튜브(4)의 회전 축선 즉, 본 실예에서 종축선을 따라 배킹 튜브(4) 상에 이동시키거나 밀어냄으로써 원하는 위치에 위치될 수 있다.

또한, 실시예들의 솔리드 타겟 실린더는 중공 실린더일 수 있다. 솔리드 타겟 실린더는 타겟 베이스 실린더 상에 동심으로 배치될 수 잇다. 전형적으로, 상기한 또 다른 실시예에 따른 실시예들의 솔리드 타겟 실린더와 타겟 베이스 실린더를 취급하고 결합함으로써, 회전식 타겟이 복구된다.

여기에 개시된 실시예들은 배킹 실린더의 하나 이상의 단부로부터의 접근이 가능하기 때문에 배킹 튜브와 같은 배킹 실린더 상에 솔리드 타겟 물질일 수 있는 원통형 타겟을 제공할 수 있다. 이것은 배킹 실린더의 하나 이상의 단부 영역이 배킹 실린더의 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 갖는 배킹 실린더의 구조 때문이다. 타겟은 접착식 또는 비접착식 타겟으로서 사용하도록 설계될 수 있다. 여기에 개시된 실시예들에 의하면, 중앙부의 측면의 외경과 일치하는 내경을 갖는 원통형 또는 관형 솔리드 타겟이 배킹 실린더 상에 용이하게 위치될 수 있다. 이 결과, 일부의 실시예들에서, 배킹 실린더에 대한 솔리드 타겟의 고비용의 접착이 회피될 수 있고, 더 나아가 고비용의 접착 물질의 사용과 같은 부분이 필요가 없어진다. 다른 실시예들에서, 접착에 의해 스퍼터링 캐소드(sputtering cathode)의 배킹 튜브 상에 솔리드 타겟이 제공될 수 있다. 더욱이, 분무식 타겟용 배킹 튜브와 반대로, 여기에 개시된 실시예들을 사용함으로써 배킹 튜브 상에 접착식 또는 비접착식 타겟에 대한 타겟 슬리브 또는 복수의 원통형 또는 관형 솔리드 타겟들을 배열할 수 있다. 또한, 여기 개시된 일 실시예에 따르면, 회전식 타겟 베이스 장치 및 배킹 튜브 각각은 반복적으로 사용될 수 있고 단지 원통형 타겟을 교환함으로써 복구될 수 있다. 이것은 코팅 적용 동안 신속하게 감소되는 타겟 물질을 갖는 회전식 타겟에 특히 적합하다. 게다가, 회전식 타겟 베이스 장치는 스퍼터링 설비 내에 회전식 타겟의 실질적인 수직 장착을 위해 사용될 수 있다.

또한, 일부의 실시예에 따르면, 타겟 고정 수단을 갖는 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단이 제공되어, 원통형 솔리드 타겟과 타겟 베이스 연결 수단 사이의 간극을 허용하기 때문에, 배킹 실린더 물질과 타겟 물질 사이의 열팽창 계수가 상이할 수 있다. 또한, 타겟 베이스 연결 수단을 포함하는 실시예들에서, 타겟은 배킹 실린더에 고정될 수 있고, 심지어 배킹 실린더 상에 원하는 위치에 중심이 맞추어지거나 또는 정렬될 수 있다.

일례에 따르면, 타겟 베이스 연결 수단은 클램프 링으로 폐쇄되도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 포함하는 고정 클램프, 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 링 및 클램프 링으로 폐쇄되는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 둘러싸도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 포함하는 클램프 수단을 포함할 수 있으며, 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들 중 하나 이상은, 환형 세그먼트형 클램프 셸 및 환형 세그먼트형 클램프 요소들이 서로에 대해 둘레 방향으로 오프셋되는 위치로 제공되도록, 인접된 클램핑 링 및 타겟 베이스 서포트 링 상에 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 장착하도록 되어 있는 조절 수단을 포함하고, 이 조절 수단은 환형 세그먼트형 클램프 수단들 가운데 하나 이상의 외주에 선택적으로 제공된다.

예를 들면, 도 3a 내지 도 3g에 도시된 타겟 베이스 연결 수단(11)의 실례에서, 클램프(17) 및 클램핑 셸(18) 대신에, 고정 클램프는 도 6a 내지 도 6e에 도시된 클램프(170) 및 클램핑 셸(180)을 포함할 수 있다. 조절 수단으로서, 도 6b 및 도 6c에 도시된 바와 같이, 통상적으로 스팬 요소(21)의 반원의 중간에 예컨대 하나의 클램프 요소(21)의 단부들 사이에 클램프(170)의 하나의 반원형 요소(21)의 외주에 핀(172)이 제공될 수 있다. 클램핑 셸(180)은 2개의 반원형 클램핑 셸(23)의 자유단(184)에 2개의 개구(182)를 포함할 수 있으며, 각각의 자유단(184)에 하나의 개구(182)가 있다. 클램핑 셸(180)은 개구(182)의 위치를 도해하는 도 6e에 횡단면으로 도시되어 있다. 개구(182)는 도 6d에 도해된 바와 같이 폐쇄된 상태에서 클램핑 셸(180)의 자유단(184)의 경계면에서 결합된 개구(183)를 형성한다. 핀(172)은 클램핑 셸(180)이 클램핑(170) 둘레로 폐쇄될 때 개구(182)의 결합체인 결합된 개구(183)를 채우도록 형성될 수 있다.

대안으로, 상기한 실례의 변형으로, 조절 수단은 클램프(170)의 하나의 반원형 요소(21)의 외주에 핀(172) 대신에 위치된 색채형 도트(dot)와 같은 표식(미도시)일 수 있다. 클램핑 셸(180)은 폐쇄되는 경우 자유단(184) 사이에 간극을 제공하도록 예컨대 클램핑 셸(23)의 길이를 가질 수 있듯이 형성될 수 있다. 이 간극으로 인해, 클램핑 셸(180)의 간극 밑에 표식이 위치하는지를 확인하기 위해 클램핑 셸(180)이 클램프(170) 둘레로 폐쇄될 때 밑에 놓인 반원형 요소(21)의 외주의 광학적 검사가 가능하다.

다른 실례에서, 타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결하는 방법이 제공되며, 이 방법은 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계; 클램프 링으로 폐쇄되도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 포함하는 고정 클램프, 및 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 링 및 클램프 링으로 폐쇄되는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 둘러싸도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 포함하는 타겟 베이스 연결 수단을 제공하는 단계; 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소를 클램핑 링으로 폐쇄시킴으로써 회전식 타겟 베이스 장치의 제1 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상에 타겟 베이스 연결 수단을 장착하는 단계; 타겟 베이스 서포트의 타겟 베이스 서포트 링에 클램프 링을 인접시키는 단계; 및 환형 세그먼트형 클램프 셸 및 환형 세그먼트형 클램프 요소가 서로에 대해 둘레 방향으로 오프셋되는 위치로 제공되도록 인접된 클램프 링 및 타겟 베이스 서포트 링 상에 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 장착시키는 단계를 포함하며, 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 구비하는 타겟 베이스 실린더를 포함하며, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가지며, 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들 중 하나 이상은, 환형 세그먼트형 클램프 셸 및 환형 세그먼트형 클램프 요소들이 서로에 대해 둘레 방향으로 오프셋되는 위치로 제공되도록, 인접된 클램핑 링 및 타겟 베이스 서포트 링 상에 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 장착하도록 되어 있는 조절 수단을 포함하고, 이 조절 수단은 환형 세그먼트형 클램프 수단들 가운데 하나 이상의 외주에 선택적으로 제공된다.

따라서, 도 6a 내지 도 6e에 도해된 실례에 의하면, 클램프(170) 및 클램핑 셸(180)을 포함하는 타겟 베이스 연결 수단 및 배킹 튜브(4)가 제공될 수 있다. 이때, 배킹 튜브(4)의 리세스(10) 둘레로 반원형 클램프 요소(21)를 폐쇄시킴으로써 배킹 튜브(4)의 제1 및 제2 단부 영역 중 하나에 클램프(170)가 장착된다. 이후, 클램프 링(170)이 타겟 베이스 서포트(15)의 타겟 베이스 서포트 링(16)에 인접하게 된다. 클램핑 셸(180)의 반원형 클램핑 셸(23)은 폐쇄된 클램프(170) 및 타겟 베이스 서포트 링(16)의 둘레로 위치되어, 클램핑 셸(180)의 개구(183) 내에 핀(172)이 위치된다. 클램핑 셸(180)은 패스너(45)를 사용하여 폐쇄된 클램프(170) 및 인접된 타겟 베이스 서포트 링(16) 둘레로 고정된다. 핀(172)이 자유단(184) 사이의 경계에서 개구(183) 내에 위치되므로, 클램핑 셸(18)의 반원형 클램핑 요소(23) 및 클램프(17)의 반원형 요소(21)가 서로에 대해 둘레 방향으로 오프셋되는 위치로 제공될 수 있다. 예를 들어, 도 6b에 도시된 바와 같이, 핀(172)이 클램프 요소(21)의 반원의 중앙에 부착된다면, 반원형 클램핑 요소(23) 및 반원형 클램핑 요소(21)가 90°의 방사상 오프셋을 가질 수 있다. 이것은 반원형 클램핑 셸(23) 사이의 경계들 아래에 반원형 클램프 요소(21) 사이의 경계를 위치시키는 것이 회피된다는 것을 의미한다. 이로써, 클램핑 장력이 균일하게 분포될 수 있다. 또한, 진공 시일(미도시)을 포함할 수 있는 타겟 베이스 서포트(16)에 대한 배킹 튜브(4)의 진공 기밀 고정이 제공되며 이러한 고정에 위치되는 누설이 회피될 수 있다.

이와 동일한 것이 조절 수단으로서 표식을 포함하는 상기한 실례의 변형에 대해서도 유지된다. 오프셋을 제공하기 위해, 타겟 베이스 서포트(15)에 본 실례의 배킹 튜브(4) 및 타겟 베이스 연결 수단을 설치하는 조작자는 클램프(170) 둘레로 클램핑 셸(180)을 장착할 때 폐쇄된 반원형 클램핑 셸(23) 사이의 간극에서 표식이 보이는 것을 보장해야 한다.

또 다른 실시예에 의하면, 타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결시키기 위한 타겟 베이스 연결 수단이 제공되는데, 이 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 장치 내에 제공된 고정 리세스 내에 제공된 숫나사에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라를 포함하는 고정 커플링을 포함하며, 고정 리세스는 타겟 베이스 장치의 단부에 제공된다. 또한, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 커플링을 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 수단을 포함할 수 있다.

도 7은 여기에 개시된 일 실시예에 따른 회전식 타겟 베이스 장치의 타겟 베이스 실린더(200)의 개략적인 횡단면을 도시한다. 이 실시예는 단부 영역(7)이 리세스(10) 대신에 단부 영역(100)의 최외각 단부에 위치된 리세스(100)를 포함한다는 점에서 도 2에 도시된 실례와 상이하다. 따라서, 리세스(100)는 환형이며, 타겟 베이스 실린더(200)의 최외각 단부에 위치되고, 그리고 타겟 베이스 실린더(200)의 개구(80)를 둘러싼다. 이 리세스(100)에는 그 둘레에 수나사산(101)이 제공된다.

도 8a 및 도 8b는 여기 개시된 실시예에 따른 타겟 베이스 연결 수단이 제공되는 도 7에 도시된 회전식 타겟 베이스 장치의 개략적인 횡단면을 도시한다. 도 8a에 도시된 바와 같이, 본 실시예에의 타겟 베이스 연결 수단은 이하에 칼라(collar; 270)라고도 지칭되는 고정 칼라(fixation collar; 270)를 포함하는데, 이 고정 칼라는 리세스(100)에서 타겟 베이스 실린더(200) 상에 장착될 수 있다. 이를 위해, 고정 칼라(270)는 타겟 베이스 장치(200)의 리세스(100) 내에 제공되는 수나사산(101)에 대응하는 암나사산(271)을 구비한다. 도 8b에 도시된 바와 같이, 클램핑 수단으로서 도 3f 및 도 3g에 도시된 클램핑 셸(18)은, 칼라(270)와 플랜지(16)가 서로 인접하는 경우, 타겟 베이스 실린더(200)에 설치된 고정 칼라(270) 및 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지(16) 위로 장착될 수 있다. 여기에 개시된 실시예에서, 고정 칼라(270)의 내경이 적합하게 선택되는데, 예컨대, 그 내경은 고정 칼라(270)와 리세스(100)의 양호한 일치를 제공하기 위해 리세스(100)의 직경과 실질적으로 동일하거나 또는 다소 크다. 또한, 클램핑 셸(18)은 고정 칼라(270) 및 플랜지(16)가 서로 인접하는 경우 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지(16)와 고정 칼라(270) 둘레로 클램핑 셸(18)을 설치하게 하는 내경과 치수를 갖는다. 본 실시예에서, 클램핑 셸(18)은 외부 반원형 요소(28) 및 이 외부 반원형 요소(28)에 측면으로 부착된 2개의 모떼기된 측면 반원형 스팬 요소(29)를 각각 구비하는 2개의 반원형 클램핑 셸(23)을 포함한다. 클램핑 셸(18)을 폐쇄하는 경우 외부 반원형 요소(28)에 의해 형성되는 외부 링(25)은 플랜지(16)의 외경과 고정 칼라(270)의 외경 보다 큰 내경을 가질 수 있다. 또한, 클램핑 셸(18)을 폐쇄시키는 경우 모떼기된 측면 반원형 스팬 요소(29)에 의해 형성되는 2개의 환형 스팬 요소(27)의 내경은 플랜지(16)가 장착되는 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지 소켓의 외경과 배킹 튜브(4)의 외경과 각각 일치하거나 또는 이들 각각 보다 클 수 있다.

암나사산(271)을 도해하는 도 9에도 고정 칼라(270)가 도시된다. 또한, 고정 칼라(270)는 도 4의 실례에 관하여 상기한 바와 같이 모떼기된 측면(30) 및 스페이서(40)를 구비할 수 있다. 본 실시예에서, 타겟 베이스 서포트(15)의 플랜지(16)과 고정 칼라(270)는 모떼기된 측면(30) 및 모떼기된 측면(31)으로 되는 모떼기된 엣지를 각각 구비한다. 고정 칼라(270)의 모떼기된 측면(30)은 고정 칼라(270)의 접촉면(13)과 마주하여 위치된다. 또한, 플랜지(16)의 모떼기된 측면(31)은 플랜지(16)의 접촉면 즉, 고정 칼라(270)의 접촉면(13)과 접촉하는 플랜지 면과 마주하여 위치된다. 또한, 클램핑 셸(18)의 환형 스팬 요소(27)는 고정 칼라(270)과 플랜지(16)가 인접하는 경우 모떼기된 측면(30) 및 모떼기된 측면(31)을 걸치도록 대응하여 경사질 수 있다. 이로써, 진공 시일(미도시)을 포함할 수 있는 배킹 튜브(45)와 플랜지(16)에 고정 칼라(270)가 설치되는 경우, 환형 스팬 요소(27)들은 진공 기밀식으로 고정 칼라(270) 및 플랜지(16)를 고정시킬 수 있고, 서로에 대해 인접하게 되고, 클램핑 셸(18)이 이들에 대해 클램핑된다.

도 8c에 고정 칼라(270)의 변형예가 도시되는데, 이 변형예는 고정 칼라(270)의 외주에 제공된 예컨대 복수의 보어(bore)(272)와 같은 하나 이상의 리세스(272)를 포함한다. 이 보어(272)는 타겟 베이스 실린더(200)의 리세스(100)에 고정 칼라(270)를 용이하게 장착하기 위해 장비의 맞물림을 용이하게 하기 위한 것이다.

여기 개시된 실시예들(도시 안됨)에 따르면, 상기한 고정 칼라(270)에는 모떼기된 측면(30) 및/또는 스페이서(40)가 제공되지 않을 수 있다. 이 경우, 도 3a에 도시된 바와 같이, 클램핑 셸(18)이 적용되어 형성될 수 있다.

또한, 일부의 실시예들(미도시)에서, 도 7 내지 도 9의 실시예들에 시용된 클램핑 수단은, 예컨대 도 3f 및 도 3g을 참조하여 상술한 바와 이들 도면에 도시된 바와 같이, 타겟 베이스 서포트의 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 복수의 클램핑 셸을 포함할 수 있다.

다른 실시예들(미도시)에서, 도 8a 내지 도 8c 및 도 9에 도시된 고정 칼라(270)는 예컨대 도 5에 도시된 스페이서(40)에 관하여 상술한 바와 같은 구조물과 효과를 갖는 긴 스페이서(40)를 포함할 수 있다. 긴 스페이서(40)는 클램핑 셸(18)의 맞물림을 위해 보다 작은 외경을 가지며, 예컨대 모떼기된 측면(30)과 인접한 영역을 가질 수 있다.

여기 개시된 다른 실시예들에 따르면, 타겟 베이스 실린더는 제1 단부 영역(7) 및 제2 단부 영역(9) 각각에 상술한 바와 같은 타겟 베이스 연결 수단 중 하나가 제공될 수 있다. 예를 들면, 타겟 베이스 실린더에는 양쪽 단부 영역에 리세스(100), 고정 칼라(270) 및/또는 클램핑 셸(18 또는 180)이 제공될 수 있다. 다른 실시예들에서, 타겟 베이스 실린더는 일 단부 영역에는 리세스(100), 고정 칼라(270) 및/또는 클램핑 셸(18 또는 180)이 제공될 수 있고, 다른 단부 영역에는 리세스(10), 고정 클램프(17 또는 170) 및/또는 클램핑 셸(18, 180)이 제공될 수 있다. 또 다른 실시예에서, 타겟 베이스 실린더에는 단지 하나의 제1 단부 영역(7) 또는 제2 단부 영역(9)에만 상술한 바와 같은 실시예들의 타겟 베이스 연결 수단 중 하나가 제공될 수 있다. 예를 들면, 타겟 베이스 실린더의 단지 하나의 단부 영역에만 리세스(100), 고정 칼라(270) 및/또는 클램핑 셸(18 또는 180)이 제공될 수 있다.

또한, 상술한 일부의 실시예들에서, 스페이서(40)는 그 자유단에서 신뢰성 있게 타겟 실린더를 지지하기 위해 약 15mm 내지 50mm의 범위의 높이, 즉 위에 장착되는 경우 타겟 베이스 실린더(4)의 측면(3)에 수직한 치수를 갖는다. 이것은 스페이서(40)가 바닥 타겟 베이스 서포트에 연결된 바닥 타겟 베이스 연결 수단의 일부이고 예컨대 바닥 타겟 실린더 바로 아래 또는 타겟 실린더 바로 아래에 위치하는 경우 조립된 회전식 타겟의 실질적인 수직 장착의 경우에 특히 바람직할 수 있다. 또한, 조립된 회전식 타겟의 수직 장착의 경우에, 타겟 베이스 실린더는 상부 타겟 베이스 서포트에 있는 제2 타겟 베이스 연결 수단에 의해 그 상부 단부 영역에 유지될 수 있다. 이 경우, 타겟 베이스 연결 수단과 타겟 실린더의 상단 또는 최상부의 타겟 실린더 사이에 간극이 제공될 수 있다.

다른 실시예들에 있어서, 조립된 회전식 타겟은 실질적으로 수직으로 장착된다. 통상적으로, 실질적으로 수직 장착의 경우에, 회전식 타겟은 여기에 개시된 실시예들에 따른 고정 칼라를 포함하는 타겟 베이스 연결 수단에 의해 그 하단부에 유지될 수 있으며, 여기에 개시된 실례들에 따른 고정 클램프를 포함하는 타겟 베이스 연결 수단에 의해 그 상단부에 유지될 수 있다.

일 실시예에 따르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치가 제공되며, 여기서 회전식 타겟 베이스 장치는 위에 솔리드 타겟 실린더를 수용하도록 되어 있고, 이 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 갖춘 타겟 베이스 실린더를 포함하며, 여기서 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 이 외경 보다 작은 최대 외경을 갖는다.

상기한 일 실시예에서, 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결시키며 제거가능하도록 되어 있는 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단을 더 포함한다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상에는 타겟 베이스 연결 수단 중 하나가 제공되도록 되어 있다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 서포트에 타겟 베이스 실린더를 연결하도록 되어 있는 클램핑 수단을 포함한다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예에 의하면, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링, 및 타겟 베이스 실린더 내에 제공된 고정 리세스를 포함하며, 고정 커플링은 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 커플링을 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 수단을 포함한다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예에 의하면, 고정 커플링은 고정 리세스 내에 제공되는 수나사산에 대응하는 암나사산을 갖는 고정 칼라를 포함하며, 여기서, 고정 리세스는 타겟 베이스 실린더의 단부에 제공된다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상은 타겟 베이스 실린더의 측면 내에 제공되는 고정 리세스를 포함한다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 셸을 구비하는 클램핑 수단, 및 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 복수의 세그먼트형 클램프 셸을 갖는 클램핑 수단을 포함한다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 복수의 세그먼트형 클램프 셸은 서로 힌지식으로 연결된다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 타겟 베이스 실린더는 관형 베이스 실린더이며, 여기서, 타겟 베이스 연결 수단, 클램핑 수단, 고정 커플링, 고정 리세스, 및 타겟 베이스 서포트 연결 수단으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 요소는 환형이다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 고정 수단을 포함하며, 이 타겟 고정 수단은 선택적으로 고정 커플링, 및 타겟 베이스 연결 수단의 고정 칼라, 및 고정 커플링으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 요소에 제공된 스페이서 수단이다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 회전식 타겟 베이스 장치는 스퍼터링 설비 내에 회전식 타겟을 실질적으로 수직으로 장착하도록 되어 있다.

상기한 일 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 타겟 베이스 실린더는 자석 장치 및 냉각 시스템으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 요소를 포함하는 내부 공간을 포함한다.

다른 실시예에 따르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟이 제공되는데, 이 회전식 타겟은 위에 솔리드 타겟 실린더를 수용하도록 되어 있는 실시예들에 따른 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하며, 이 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 갖춘 타겟 베이스 실린더를 포함하며, 여기서 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 이 외경보다 작은 최대 외경을 가지며, 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 배치된 솔리드 타겟 실린더를 구비한다.

상기한 다른 실시예의 변형에 의하면, 회전식 타겟 베이스 장치는 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상에 설치되는 타겟 베이스 연결 수단 중 하나 이상을 구비한다.

상기한 다른 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 타겟 베이스 연결 수단의 타겟 고정 수단은 솔리드 타겟 실린더와 타겟 베이스 서포트 사이에 간극을 제공한다.

상기한 다른 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 솔리드 타겟 실린더는 관형이며 제1 단부 영역과 제2 단부 영역 사이에 위치된다.

상기한 다른 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 솔리드 타겟 실린더는 타겟 고정 수단 중 하나 이상과 인접하게 위치됨으로써 타겟 베이스 연결 수단 중 하나 이상에 의해 예컨대 중심이 맞추어 지듯이 조정된다.

상기한 다른 실시예 및 그 변형예의 임의의 변형에 의하면, 솔리드 타겟 실린더의 내경은 타겟 베이스 실린더의 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 이 외경 보다 크다.

다른 실시예에 의하면, 실시예들에 따른 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 코팅 설비가 제공되며, 여기서, 타겟 베이스 장치는 위에 솔리드 타겟 실린더를 수용하도록 되어 있으며, 이 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 갖춘 타겟 베이스 실린더를 포함하며, 여기서 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 이 외경 보다 작은 최대 외경을 갖는다. 본 실시예는 여기에 개시된 임의의 다른 실시예 또는 그 변형예와 결합될 수 있다.

또 다른 실시예에 의하면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟을 제조하는 방법이 제공되며, 이 타겟 제조 방법은 솔리드 타겟 실린더를 위에 수용하도록 되어 있는 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계; 솔리드 타겟 실린더를 제공하는 단계; 및 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계; 선택적으로, 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계 이후에, 타겟 베이스 실린더의 제1 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상에 타겟 베이스 연결 수단을 설치시키는 단계를 포함하며, 회전식 타겟 베이스 장치는 측면을 갖는 중앙부를 구비하며, 제1 단부 영역 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 더 구비하고, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 갖는다. 이 실시예는 여기에 개시된 임의의 다른 실시예 또는 그 변형예와 결합될 수 있다.

또 다른 실시예에 따르면, 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 타겟 베이스 서포트에 연결하는 타겟 베이스 연결 수단이 제공되는데, 이 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 장치 내에 제공되는 고정 리세스, 및 이 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있는 고정 커플링으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 요소; 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 커플링을 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 수단; 및 고정 커플링 내에 포함되며, 타겟 베이스 장치 내에 제공되는 고정 리세스 내에 제공된 수나사산에 대응하는 암나사산을 구비하는 고정 칼라를 포함하며, 고정 리세스가 타겟 베이스 장치의 일단부에 제공된다.

고정 커플링의 고정 클램프는 타겟 베이스 장치 내에 제공된 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있을 수 있다. 타겟 베이스 연결 수단은, 클램프로 폐쇄되도록 되어 있는 복수의 세그먼트형 클램프 요소들을 구비하는 고정 클램프와, 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 클램프를 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 셸을 구비하는 클램핑 수단과, 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 클램프로 폐쇄되는 복수의 세그먼트형 클램프 요소들을 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 셸을 구비하는 클램핑 수단과, 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 클램프를 둘러싸도록 되어 있는 복수의 세그먼트형 클램프 셸을 구비하는 클램핑 수단과, 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 셸을 구비하는 클램핑 수단과, 그리고 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 복수의 세그먼트형 클램프 셸을 구비하는 클램핑 수단으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 요소를 포함할 수 있다.

이 고정 클램프는 클램프 링으로 폐쇄되도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 포함할 수 있고, 클램핑 수단은 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 커넥터 링 및 클램프 링으로 폐쇄되는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 둘러싸도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 포함할 수 있으며, 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들 중 하나 이상은 환형 세그먼트형 클램프 셸 및 환형 세그먼트형 클램프 요소들이 서로에 대해 둘레 방향으로 오프셋되는 위치로 제공되도록, 인접된 클램핑 링 및 타겟 베이스 서포트 링 상에 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 장착하도록 되어 있는 조절 수단을 포함하고, 이 조절 수단은 환형 세그먼트형 클램프 수단들 가운데 하나 이상의 외주에 선택적으로 제공된다.

상기한 실시예들 및 그 변형예들의 임의의 변형에 의하면, 복수의 세그먼트형 클램프 셸 또는 환형 세그먼트형 클램프 셸은 서로 힌지식으로 결합된다.

상기한 실시예들 및 그 변형예들의 임의의 변형에 의하면, 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 고정 수단을 포함하며, 이 타겟 고정 수단은 선택적으로 고정 커플링 및 고정 칼라로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 요소에 제공되는 스페이서 수단이다.

타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결하는 방법이 제공되며, 이 방법은 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계; 클램프 링으로 폐쇄되도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 포함하는 고정 클램프, 및 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 링 및 클램프 링으로 폐쇄되는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소들을 둘러싸도록 되어 있는 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 포함하는 타겟 베이스 연결 수단을 제공하는 단계; 복수의 환형 세그먼트형 클램프 요소를 클램핑 링으로 폐쇄시킴으로써 회전식 타겟 베이스 장치의 제1 및 제2 단부 영역 가운데 하나 이상에 타겟 베이스 연결 수단을 장착하는 단계; 타겟 베이스 서포트의 타겟 베이스 서포트 링에 클램프 링을 인접시키는 단계; 및 환형 세그먼트형 클램프 셸 및 환형 세그먼트형 클램프 요소가 서로에 대해 둘레 방향으로 오프셋되는 위치로 제공되도록 인접된 클램프 링 및 타겟 베이스 서포트 링 상에 복수의 환형 세그먼트형 클램프 셸을 장착시키는 단계를 포함하며, 회전식 타겟 베이스 장치는 측면, 중앙부, 제1 단부 영역, 및 제1 단부 영역과 마주하는 제2 단부 영역을 구비하는 타겟 베이스 실린더를 포함하며, 제1 단부 영역 및 제2 단부 영역 중 하나 이상은 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 갖는다.

상기한 실시예들 및 그 변형예들의 임의의 변형에 의하면, 회전식 타겟 베이스 장치는 스퍼터링 설비 내에 회전식 타겟을 실질적으로 수직 장착하도록 되어 있다.

상기한 실시예들 및 그 변형예들의 임의의 변형에 의하면, 타겟 베이스 실린더는 자석 장치 및 냉각 시스템으로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상의 요소를 포함하는 내부 공간을 포함한다.

상기한 실시예들 및 그 변형예들의 임의의 변형에 의하면, 솔리드 타겟 실린더의 내경은 타겟 베이스 실린더의 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 그 외경 보다 크다.

상술한 상세한 설명은 본 발명을 개시하기 위해 그리고 당업자가 본 발명의 제조 및 사용을 용이하기 위해 최상의 모드를 포함한 실시예들을 사용한다. 여러 특정 실시예들로 본 발명을 설명하였지만, 청구범위의 정신과 범위 내에서 본 발명을 변형하여 실시할 수 있음을 당업자는 인지할 것이다. 특히, 상기한 실시예들 또는 그 변형예들의 상호 비배타적인 특성은 서로 결합될 수 있고 여기 설명된 실례의 상호 비배타적인 특징과 선택적으로 결합될 수도 있다. 본 발명의 특허적인 범위는 청구범위에 의해 한정되며, 당업자에게 자명한 다른 실례들을 포함할 것이다. 이러한 다른 실례들은 청구범위의 범위 내에 있는 것으로 본다.

전술한 바는 본 발명의 실시예들에 관한 것이지만, 본 발명의 여타 실시예는 본 발명의 범주를 벗어나지 않고 안출될 수 있으며, 본 발명의 범주는 이어지는 특허청구범위에 의해서 결정된다.

3: 측면
4: 타겟 베이스 실린더
7: 제1 단부 영역
9: 제2 단부 영역
12: 중앙부
18: 클램핑 수단
100: 고정 리세스
101: 수나사산
270: 고정 커플링

Claims (17)

1. 솔리드 타겟 실린더를 위에 수용하도록 되어 있는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치로서,
   상기 회전식 타겟 베이스 장치는 측면(3), 중앙부(12), 제1 단부 영역(7), 상기 제1 단부 영역(7)과 마주하는 제2 단부 영역(9)을 구비하는 타겟 베이스 실린더(4)를 포함하고, 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상이 상기 중앙부의 외경과 실질적으로 동일하거나 또는 보다 작은 최대 외경을 가지며,
   상기 회전식 타겟 베이스 장치는 타겟 베이스 서포트에 상기 타겟 베이스 실린더를 연결시키도록 되어 있고 제거가능한 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단(270, 18)을 더 포함하고,
   상기 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 고정 커플링(270), 및 상기 타겟 베이스 실린더 내에 제공되는 고정 리세스(100)를 포함하며, 고정 커플링은 상기 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있고,
   상기 고정 커플링은 상기 리세스(100) 내에 제공되는 수나사산(101)에 대응하는 암나사산(271)을 갖는 고정 칼라(270)를 포함하며, 상기 리세스(100)가 상기 타겟 베이스 실린더(4)의 단부에 제공되는,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
2. 제1 항에 있어서,
   상기 고정 리세스가 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 내에 제공되고/또는,
   상기 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 상기 고정 커플링 및 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단을 둘러싸도록 되어 있는,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
3. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
   상기 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 상기 고정 칼라(270)를 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 셸(18)을 구비하는 클램핑 수단에서 선택되는 하나 이상의 요소를 포함하며,
   상기 클램핑 수단은 타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 상기 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 복수의 세그먼트형 클램핑 셸(23)을 구비하는,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
4. 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 타겟 베이스 실린더는 관형 베이스 실린더이며, 및/또는 타겟 베이스 연결 수단, 클램핑 수단, 고정 커플링, 고정 리세스, 및 타겟 베이스 서포트 연결 수단으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 요소가 환형인,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
5. 제3 항 또는 제4 항에 있어서,
   상기 복수의 세그먼트형 클램프 셸이 서로 힌지식으로 결합되어 있는,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
6. 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 하나 이상의 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 고정 수단을 포함하는,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
7. 제6 항에 있어서,
   상기 타겟 고정 수단은 상기 고정 커플링 및 상기 고정 칼라로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 요소에 제공되는 스페이서 수단인,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치.
   
8. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 따른 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 스퍼터링 설비용 회전식 타겟으로서,
   상기 회전식 타겟 베이스 장치는 상기 타겟 베이스 실린더의 측면 상에 배치된 솔리드 타겟 실린더를 구비하는,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟.
   
9. 제8 항에 있어서,
   상기 회전식 타겟 베이스 장치는 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상에 설치되는 상기 타겟 베이스 연결 수단 중 하나 이상을 구비하며/또는,
   상기 타겟 베이스 연결 수단의 상기 타겟 고정 수단은 상기 솔리드 타겟 실린더와 상기 타겟 베이스 서포트 사이에 간극을 제공하는,
   스퍼터링 설비용 회전식 타겟.
   
10. 제8 항 또는 제9 항에 있어서,
    상기 솔리드 타겟 실린더는 관형이고/관형이거나, 상기 제1 단부 영역과 상기 제2 단부 영역 사이에 위치하며/위치하거나, 상기 타겟 고정 수단 중 하나 이상에 인접하여 위치됨으로써 상기 타겟 베이스 연결 수단 중 하나 이상에 의해 조절되는,
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟.
    
11. 제1 항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 회전식 타겟 베이스 장치를 포함하는 코팅 설비.
    
12. 스퍼터링 설비용 회전식 타겟의 제조 방법으로서,
    제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 따른 회전식 타겟 베이스 장치를 제공하는 단계와,
    솔리드 타겟 실린더를 제공하는 단계와, 그리고
    상기 타겟 베이스 실린더의 상기 측면 상에 상기 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계를 포함하는,
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟의 제조 방법.
    
13. 제12 항에 있어서,
    상기 솔리드 타겟 실린더를 배치시키는 단계 후에, 상기 타겟 베이스 실린더의 상기 제1 단부 영역 및 상기 제2 단부 영역 중 하나 이상에 상기 타겟 베이스 연결 수단 중 하나를 설치하는 단계를 포함하는,
    스퍼터링 설비용 회전식 타겟의 제조 방법.
    
14. 타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결시키는 타겟 베이스 연결 수단으로서,
    타겟 베이스 장치 내에 제공되는 고정 리세스(100) 및 상기 고정 리세스를 적어도 부분적으로 채우도록 되어 있는 고정 커플링(270)과; 그리고
    상기 고정 커플링 내에 포함되며, 상기 고정 리세스(100) 내에 제공되는 수나사산(101)에 대응하는 암나사산(271)을 구비하는 고정 칼라(270)를 포함하며,
    상기 고정 리세스(100)는 상기 타겟 베이스 장치의 단부에 제공되는,
    타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결시키는 타겟 베이스 연결 수단.
    
15. 제14 항에 있어서,
    타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 상기 고정 커플링을 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 수단(18)을 포함하는,
    타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결시키는 타겟 베이스 연결 수단.
    
16. 제15 항에 있어서,
    타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 서포트 연결 수단 및 상기 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 클램핑 셸을 구비하는 클램핑 수단과;
    타겟 베이스 서포트의 인접된 타겟 베이스 연결 수단 및 상기 고정 칼라를 둘러싸도록 되어 있는 복수의 세그먼트형 클램핑 셸을 구비하는 클램핑 수단으로부터 선택되는 하나 이상의 요소를 포함하는,
    타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결시키는 타겟 베이스 연결 수단.
    
17. 제14 항 내지 제16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 세그먼트형 클램핑 셸은 서로 힌지식으로 결합되며/또는,
    상기 타겟 베이스 연결 수단은 타겟 고정 수단을 포함하고/또는,
    상기 타겟 고정 수단은 상기 고정 커플링 및 상기 고정 칼라로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 요소에 제공되는 스페이서 수단인,
    타겟 베이스 서포트에 스퍼터링 설비용 회전식 타겟 베이스 장치를 연결시키는 타겟 베이스 연결 수단.

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