CN216663213U - 蒸镀机 - Google Patents

蒸镀机 Download PDF

Info

Publication number
CN216663213U
CN216663213U CN202123346658.2U CN202123346658U CN216663213U CN 216663213 U CN216663213 U CN 216663213U CN 202123346658 U CN202123346658 U CN 202123346658U CN 216663213 U CN216663213 U CN 216663213U
Authority
CN
China
Prior art keywords
shielding
plate
evaporation
sub
shielding sub
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202123346658.2U
Other languages
English (en)
Inventor
李升泽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Display Optoelectronics Technology China Co Ltd
Original Assignee
LG Display Optoelectronics Technology China Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Display Optoelectronics Technology China Co Ltd filed Critical LG Display Optoelectronics Technology China Co Ltd
Priority to CN202123346658.2U priority Critical patent/CN216663213U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN216663213U publication Critical patent/CN216663213U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型公开一种蒸镀机,包括真空腔、坩埚组件、遮挡板和传动组件,真空腔内设置有蒸镀槽,坩埚组件放置于蒸镀槽内加热蒸镀材料,遮挡板设置在蒸镀槽的槽口上方,遮挡部分蒸镀槽的槽口,即蒸镀材料分子从喷嘴中飞出时需先经过遮挡板,而后沉积于位于蒸镀槽上方的基板。遮挡板包括沿第一方向设置在蒸镀槽的槽口两侧的第一遮挡板和第二遮挡板,第一遮挡板包括多个沿第二方向依次排列设置的遮挡子板,遮挡子板可在传动件的作用下沿第一方向往复移动,以此调整基板的镀膜区域,改变单次镀膜时所镀薄膜的厚度,从而实现对基板镀膜厚度的调整。而将每个遮挡子板朝向蒸镀槽的槽口中心的一边设置为弧形边,则可弱化基板上的镀膜边界痕迹。

Description

蒸镀机
技术领域
本实用新型涉及镀膜加工技术领域,尤其涉及一种蒸镀机。
背景技术
真空镀膜是指在真空中将金属或金属化合物等沉积在基板表面,如图1和图2所示,在对基板4′进行镀膜时,需先将蒸镀材料放置于坩埚组件2′中加热至汽化,汽化的蒸镀材料分子从坩埚组件2′的喷嘴21′中飞出,然后沉积在基板4′上形成固体薄膜。采用上述技术制成的薄膜具有许多优点,例如优异的硬度、耐用性和良好的抗变色和耐腐蚀能力,因而在装饰涂料、光学镀膜和保护涂层的制造过程中被广泛应用。但现有技术仍存在以下缺陷:通常镀膜过程中,坩埚组件2′放置于蒸镀机内的真空腔的蒸镀槽1′内,而在坩埚组件2′和基板4′之间还具有固定于蒸镀槽1′槽口的遮挡板3′,从坩埚组件2′的喷嘴21′中飞出的蒸镀材料分子部分被遮挡板3′遮挡,只有通过两个遮挡板3′之间的间隙的蒸镀材料分子才能沉积在基板4′上,遮挡板3′的设置决定了基板4′上镀膜区域的大小。另外,因为坩埚组件2′并不能完全正对基板4′上镀膜区域的每个位置,因此即使坩埚组件2′设置有不同大小的喷嘴21′,也不能保证在一次镀膜后,就可在基板4′的镀膜区域上形成厚度一致的薄膜,往往还需要进行二次镀膜。而在进行二次镀膜前,为了弥补一次镀膜所带来的厚度差异,一般会重新调整喷嘴21′的排列位置,以达到补差的目的。但是这样不仅需要真空腔处于常压状态,还需要等待坩埚组件2′降温,方能进行调整,从而导致整个镀膜过程延长,镀膜效率降低。而且多次镀膜也会在基板4′的表面留下多个边界,导致基板4′的镀膜区域不平整美观。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:提供一种蒸镀机,其能在真空状态下调整镀膜区域,操作简单。
为达上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
提供一种蒸镀机,包括:
真空腔,所述真空腔内设置有蒸镀槽;
坩埚组件,所述坩埚组件设置在所述蒸镀槽内,所述坩埚组件的顶部设置有喷嘴;
遮挡板,所述遮挡板设置在所述蒸镀槽的槽口上方,所述遮挡板遮挡部分所述蒸镀槽的槽口,所述遮挡板位于待镀膜的基板的下方,所述遮挡板用于对从所述喷嘴中飞出的部分蒸镀材料分子进行遮挡,以使所述蒸镀材料分子沉积于所述基板的镀膜区域,所述遮挡板包括沿第一方向分别设置在所述蒸镀槽的槽口两侧的第一遮挡板和第二遮挡板,所述第一遮挡板包括多个遮挡子板,多个所述遮挡子板沿第二方向依次排列设置,每个所述遮挡子板朝向所述蒸镀槽的槽口中心的一边设置为弧形边,所述第一方向与所述第二方向垂直;
传动组件,所述传动组件连接于所述遮挡子板,所述传动组件用于使所述遮挡子板沿所述第二方向往复移动。
作为蒸镀机的一种优选方案,沿所述第二方向相邻的两个所述遮挡子板部分重叠设置。
作为蒸镀机的一种优选方案,多个所述遮挡子板中,部分所述遮挡子板处于第一水平面,其余所述遮挡子板处于第二水平面,且任一所述遮挡子板和与其相邻的所述遮挡子板不处于同一水平面。
作为蒸镀机的一种优选方案,所述弧形边为向所述蒸镀槽的槽口中心的一侧凸出设置的弧形凸边。
作为蒸镀机的一种优选方案,所述第二遮挡板与所述第一遮挡板的结构一致。
作为蒸镀机的一种优选方案,所述传动组件包括驱动件和传动件,所述驱动件通过所述传动件带动所述遮挡子板往复移动,所述传动件包括传动丝杆和套设于所述传动丝杆上的丝杆螺母,所述丝杆螺母固定于所述遮挡子板,所述驱动件带动所述传动丝杆转动,以使所述丝杆螺母带动所述遮挡子板移动。
作为蒸镀机的一种优选方案,所述丝杆螺母固定于所述遮挡子板靠近所述基板的一侧。
作为蒸镀机的一种优选方案,所述传动组件还包括控制模块,所述控制模块电连接于所述驱动件,以控制所述遮挡子板的移动范围。
作为蒸镀机的一种优选方案,所述传动组件还包括限位件,所述限位件包括设置于所述遮挡子板上的限位块和设置于所述蒸镀槽侧壁上的滑槽,所述限位块能够在所述驱动件的驱动下于所述滑槽内移动。
作为蒸镀机的一种优选方案,所述限位块包括第一限位块和第二限位块,沿垂直于所述遮挡子板的厚度方向,所述第一限位块的高度大于所述第二限位块的高度,多个所述遮挡子板每间隔一个设置所述第一限位块,未设置所述第一限位块的所述遮挡子板设置所述第二限位块。
本实用新型的有益效果为:本实用新型提供的蒸镀机,包括真空腔、遮挡板和传动组件,真空腔内设置有蒸镀槽,蒸镀槽内设置有用于加热汽化蒸镀材料的坩埚组件,蒸镀材料在汽化后可以从坩埚组件的喷嘴中飞出,并沉积于坩埚组件上方的基板上以形成薄膜。遮挡板设置于蒸镀槽的槽口上方,且位于待镀膜的基板的下方,能够对从喷嘴中飞出的部分蒸镀材料分子进行遮挡,以使蒸镀材料分子沉积于基板的镀膜区域。遮挡板包括沿第一方向分别设置在蒸镀槽的槽口两侧的第一遮挡板和第二遮挡板,其中第一遮挡板包括多个遮挡子板,且多个遮挡子板沿第二方向依次排列设置,而这多个遮挡子板还可在传动件的作用下分别沿第二方向往复移动,以此改变蒸镀槽的槽口大小,从而调整基板上镀膜区域的大小,改变单次镀膜过程中基板上所镀薄膜的厚度,从而实现对于整个镀膜过程基板上镀膜厚度的调整。在此基础上,将不用再进行将真空腔从真空状态调整至常压状态,而后再调整坩埚组件的喷嘴位置这一系列操作,可有效缩短镀膜时间,提高镀膜效率。而将每个遮挡子板朝向蒸镀槽的槽口中心的一边设置为弧形边,则可弱化多次镀膜在基板表面留下的镀膜边界痕迹,保持镀膜区域平整美观。
附图说明
下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
图1为现有的蒸镀机第一视角的结构示意图。
图2为现有的蒸镀机第二视角的结构示意图。
图3为本实用新型实施例的蒸镀机第一视角的结构示意图(第一使用状态)。
图4为本实用新型实施例的蒸镀机第一视角的结构示意图(第二使用状态)。
图5为遮挡子板未重叠设置的结构示意图。
图6为本实用新型实施例的蒸镀子板与传动件的装配示意图。
图7为本实用新型实施例的蒸镀机第二视角的结构示意图。
图1至图2中:
1′、蒸镀槽;2′、坩埚组件;21′、喷嘴;3′、遮挡板;4′、基板。
图3至图7中:
1、坩埚组件;11、喷嘴;2、第一遮挡板;21、遮挡子板;210、弧形边;211、限位块;2111、第一限位块;2112、第二限位块;3、滑槽;4、第二遮挡板;5、传动件;51、传动丝杆;52、丝杆螺母;6、驱动件。
具体实施方式
参考下面结合附图详细描述的实施例,本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而,本实用新型不限于以下公开的实施例,而是可以以各种不同的形式来实现,提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围,并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
以下,参照附图来详细描述本实用新型。
参照图3至图6所示,本实用新型实施例的蒸镀机,包括真空腔、坩埚组件1和遮挡板,真空腔内设置有蒸镀槽,坩埚组件1设置在蒸镀槽内,蒸镀材料可放置于坩埚组件1中进行加热直至汽化,汽化后的蒸镀材料分子将会从坩埚组件1顶部设置的喷嘴11中飞出。遮挡板设置在蒸镀槽的槽口上方,遮挡板遮挡部分蒸镀槽的槽口,且位于待镀膜的基板的下方,因此从喷嘴11中飞出的蒸镀材料分子,需经过遮挡板之后才能在基板上沉积,即蒸镀材料分子沉积于基板上的位置受到遮挡板的限制,所以通过改变遮挡板的位置即可调整基板的镀膜区域。
而且因为从喷嘴11中飞出的蒸镀材料分子并不能均匀的沉积于镀膜区域,所以要在镀膜区域形成厚度一致的薄膜并不能一次完成。而本实施例提供的遮挡板则包括沿第一方向分别设置在蒸镀槽的槽口两侧的第一遮挡板2和第二遮挡板4,第一遮挡板2包括多个遮挡子板21,多个遮挡子板21相对于蒸镀槽的位置可以调整。通过调整遮挡子板21的位置,即可改变基板上多次镀膜所形成的厚度,这样在镀膜前,就不用再调整坩埚组件1的喷嘴11位置,只需要改变遮挡子板21的位置即可,可有效缩短镀膜过程,提高镀膜效率。
如图3所示,基于坩埚组件1设置的位置,本实施例中将多个遮挡子板21沿第二方向依次排列设置,第二方向也即是坩埚组件1中多个喷嘴11的排列方向,而遮挡子板21则能够沿第一方向往复移动以靠近或远离蒸镀槽的槽口中心,第一方向与第二方向相互垂直,其中第一方向为图中所示ab方向,第二方向为图中所示cd方向。另外,为实现遮挡子板21沿第一方向的往复移动,本实施例提供的蒸镀机还包括连接于遮挡子板21的传动组件。具体地,若是移动遮挡板的位置,使得镀膜区域变大,则蒸镀材料分子可以沉积的区域变大,在多次镀膜后,镀膜区域某处的镀膜厚度将会增加。即在镀膜过程中,如图4所示,若想要某处的镀膜厚度大,则需向远离蒸镀槽的槽口中心的一侧移动遮挡子板21以扩大镀膜区域,若想要某处的镀膜厚度小,则需向靠近蒸镀槽的槽口中心的一侧移动遮挡子板21以减小镀膜区域。本实施例中,多个遮挡子板21独立移动,可有效保证调节精度。
另外,因为蒸镀材料分子是经遮挡板而后沉积在基板上的,即遮挡板的边缘在基板上的投影将会成为基板上镀膜区域的边界,则为避免因多次镀膜而在基板表面留下多个边界,导致基板上镀膜区域不平整,则在本实施例中,将遮挡子板21朝向蒸镀槽的槽口中心的一边设置为弧形边210,以弱化镀膜边界痕迹。
可选地,为更好地保证遮挡子板21对镀膜边界痕迹的弱化效果,在本实施例中,将沿第二方向上相邻的两个遮挡子板21部分重叠设置,这样虽然增加了遮挡子板21的个数,但是可有效避免如图5所示的情况,若是某一遮挡子板21和其相邻的遮挡子板21的调整位置偏差过多,在相邻两个遮挡子板21之间出现的沿第一方向延伸的分割线,以至于在基板上出现与前述类似的镀膜边界痕迹。
进一步地,本实施例中设置弧形边210为向蒸镀槽的槽口中心的一侧凸出设置的弧形凸边,这与凹陷设置的弧形凹边相比,可以减少相邻两个部分重叠的遮挡子板21之间出现沿第一方向延伸的分割线的频率。
可选地,多个遮挡子板21中,部分遮挡子板21处于第一水平面,其余遮挡子板21处于第二水平面,且任一遮挡子板21和与其相邻的遮挡子板21不处于同一水平面。即为方便每个遮挡子板21的移动,相邻两个遮挡子板21的重叠设置并非是采用后一个遮挡子板21压叠前一个遮挡子板21的方式,而是统一将奇数位的遮挡子板21设置在同一平面,偶数位的遮挡子板21设置在同一平面,保证每个遮挡子板21均是水平设置,以此避免相邻遮挡子板21之间的摩擦过大,增加遮挡子板21的位置调整难度。
本实施例中,第二遮挡板4与第一遮挡板2的结构一致,在调整时沿第一方向相对的两个遮挡子板21可具有相同的调整幅度,或者不同的调整幅度,以适应各种镀膜需求。
具体地,如图6所示,传动组件包括驱动件6和传动件5,驱动件6通过传动件5以带动遮挡子板21往复移动。传动件5包括传动丝杆51和丝杆螺母52,驱动件6可采用电机,传动丝杆51可将电机输出的周向转动转化为丝杆螺母52的轴向移动,丝杆传动精度较高,可保证遮挡子板21的调节精度。传动丝杆51连接于电机的输出轴,丝杆螺母52套设于传动丝杆51上,且丝杆螺母52与遮挡子板21固定,当电机转动时,丝杆螺母52即会在传动丝杆51上移动,并带动遮挡子板21移动。可选地,电机为伺服电机,通过改变伺服电机的输出转向,即可实现遮挡子板21的往复移动。
可选地,丝杆螺母52设置于遮挡子板21靠近基板的一侧,以方便遮挡子板21与丝杆螺母52的安装和拆卸。
可选地,传动组件还包括控制模块,控制模块电连接于驱动件6,当驱动件6选用伺服电机时,可通过控制模块控制伺服电机的开启以及输出转动方向,从而控制遮挡子板21的移动方向和移动距离。也可以在控制模块中提前设置控制程序,在对同一批次基板进行镀膜时,可实现传动组件的自动调整。
如图7所示,传动组件还包括限位件,限位件包括限位块211和滑槽3,限位块211设置于遮挡子板21背离基板的一侧,而滑槽3设置于蒸镀槽的侧壁上,限位块211能够容置于滑槽3内,且能够在驱动件6的驱动下于滑槽3中滑动,两者相配合以将遮挡子板21滑动设置于蒸镀槽的侧壁上。
进一步地,限位块211包括第一限位块2111和第二限位块2112,而且沿垂直于遮挡子板21的厚度方向,第一限位块2111的高度应大于第二限位块2112的高度,以此使得当限位块211设置于滑槽3内时,设置有第一限位块2111的遮挡子板21和设置有第二限位块2112的遮挡子板21不位于同一水平面,且与前述一致地,设置有第一限位块2111的遮挡子板21和设置有第二限位块2112的遮挡子板21是沿第二方向一个间隔一个设置的。
尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例,但是本实用新型不限于以上实施例,而是可以以各种形式制造,并且本领域技术人员将理解,在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下,可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此,应该理解,上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。

Claims (10)

1.一种蒸镀机,其特征在于,包括:
真空腔,所述真空腔内设置有蒸镀槽;
坩埚组件,所述坩埚组件设置在所述蒸镀槽内,所述坩埚组件的顶部设置有喷嘴;
遮挡板,所述遮挡板设置在所述蒸镀槽的槽口上方,所述遮挡板遮挡部分所述蒸镀槽的槽口,所述遮挡板位于待镀膜的基板的下方,所述遮挡板用于对从所述喷嘴中飞出的部分蒸镀材料分子进行遮挡,以使所述蒸镀材料分子沉积于所述基板的镀膜区域,所述遮挡板包括沿第一方向分别设置在所述蒸镀槽的槽口两侧的第一遮挡板和第二遮挡板,所述第一遮挡板包括多个遮挡子板,多个所述遮挡子板沿第二方向依次排列设置,每个所述遮挡子板朝向所述蒸镀槽的槽口中心的一边设置为弧形边,所述第一方向与所述第二方向垂直;
传动组件,所述传动组件连接于所述遮挡子板,所述传动组件用于使所述遮挡子板沿所述第二方向往复移动。
2.根据权利要求1所述的蒸镀机,其特征在于,沿所述第二方向相邻的两个所述遮挡子板部分重叠设置。
3.根据权利要求2所述的蒸镀机,其特征在于,多个所述遮挡子板中,部分所述遮挡子板处于第一水平面,其余所述遮挡子板处于第二水平面,且任一所述遮挡子板和与其相邻的所述遮挡子板不处于同一水平面。
4.根据权利要求1所述的蒸镀机,其特征在于,所述弧形边为向所述蒸镀槽的槽口中心的一侧凸出设置的弧形凸边。
5.根据权利要求1所述的蒸镀机,其特征在于,所述第二遮挡板与所述第一遮挡板的结构一致。
6.根据权利要求3所述的蒸镀机,其特征在于,所述传动组件包括驱动件和传动件,所述驱动件通过所述传动件带动所述遮挡子板往复移动,所述传动件包括传动丝杆和套设于所述传动丝杆上的丝杆螺母,所述丝杆螺母固定于所述遮挡子板,所述驱动件带动所述传动丝杆转动,以使所述丝杆螺母带动所述遮挡子板移动。
7.根据权利要求6所述的蒸镀机,其特征在于,所述丝杆螺母固定于所述遮挡子板靠近所述基板的一侧。
8.根据权利要求6所述的蒸镀机,其特征在于,所述传动组件还包括控制模块,所述控制模块电连接于所述驱动件,以控制所述遮挡子板的移动范围。
9.根据权利要求6所述的蒸镀机,其特征在于,所述传动组件还包括限位件,所述限位件包括设置于所述遮挡子板上的限位块和设置于所述蒸镀槽侧壁上的滑槽,所述限位块能够在所述驱动件的驱动下于所述滑槽内移动。
10.根据权利要求9所述的蒸镀机,其特征在于,所述限位块包括第一限位块和第二限位块,沿垂直于所述遮挡子板的厚度方向,所述第一限位块的高度大于所述第二限位块的高度,多个所述遮挡子板每间隔一个设置所述第一限位块,未设置所述第一限位块的所述遮挡子板设置所述第二限位块。
CN202123346658.2U 2021-12-28 2021-12-28 蒸镀机 Active CN216663213U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202123346658.2U CN216663213U (zh) 2021-12-28 2021-12-28 蒸镀机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202123346658.2U CN216663213U (zh) 2021-12-28 2021-12-28 蒸镀机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN216663213U true CN216663213U (zh) 2022-06-03

Family

ID=81799315

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202123346658.2U Active CN216663213U (zh) 2021-12-28 2021-12-28 蒸镀机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN216663213U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1927674B1 (en) Evaporation source and vacuum evaporator using the same
US6800183B2 (en) Sputtering device
US8043483B2 (en) Film forming method by sputtering and sputtering apparatus thereof
CN104862656B (zh) 双向沉积镀膜装置及镀膜方法
KR20070012314A (ko) 유기 재료용 증발원 및 유기 증착 장치
CN101629277A (zh) 真空镀膜方法、真空镀膜设备以及镀膜元件和外壳
JP5289396B2 (ja) 化学量論的組成勾配層及び層構造の製造方法及び装置
CN108754429A (zh) 一种蒸发源
CN216663213U (zh) 蒸镀机
US3543717A (en) Means to adjust collimator and crucible location in a vapor deposition apparatus
US7943016B2 (en) Magnetron sputtering apparatus
CN206706198U (zh) 磁控溅射装置和磁控溅射设备
CN106987817A (zh) 一种提高线型磁控溅射靶枪在凹形柱面基底镀膜质量的方法
CN212894955U (zh) 一种用于真空电子束蒸发镀膜设备的渐变色成膜用治具
JP2006330411A (ja) 液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法
CN208127246U (zh) 一种掩膜板框架
CN217104060U (zh) 一种光学镀膜均匀性调整挡板
CN115863489A (zh) 一种光伏组件制造方法
CN2573508Y (zh) 镀膜设备
CN212375363U (zh) 磁控溅射镀膜装置
US20050199492A1 (en) Sputtering device
CN113265622A (zh) 一种真空蒸镀机的修正板系统
CN114150274B (zh) 一种上下渐变的镀膜装置和渐变色调整方法
CN102912301A (zh) 一种溅射靶材
CN220537904U (zh) 一种用于镀膜厚度均匀的镀膜机修正板

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant